检查单元、检查方法和包括检查单元的基板处理设备的制造方法

检查单元、检查方法和包括检查单元的基板处理设备的制造方法
【专利摘要】本发明公开了检查单元、检查方法和包括所述检查单元的基板处理设备。基板处理设备包括：处理单元、喷嘴单元以及检查单元，其检查所述处理液体是否从所述处理液体喷嘴被正常地排放。所述喷嘴还包括喷嘴驱动器，所述喷嘴驱动器将所述处理液体喷嘴从过程位置和检查位置移动，在所述过程位置处，所述基板由所述处理单元处理，在所述检查位置处，所述处理液体喷嘴由所述检查单元检查。所述检查单元包括：透明材料的板；摄影构件，其设置在所述板下方；光源构件，其将光照射到从所述处理液体喷嘴朝在所述检查位置处的所述板排放的所述处理液体的路径上；以及确定构件，其从由所述摄影构件拍摄的图像确定所述处理液体是否被正常地排放。
【专利说明】
检查单元、检查方法和包括检查单元的基板处理设备
[0001]相关申请的交叉引用
【背景技术】
[0002]本发明构思涉及检查单元、检查方法和包括检查单元的基板处理设备，更具体地涉及检查喷嘴的排放状态的检查单元、检查方法、以及包括检查单元的基板处理设备。
[0003]为了制造半导体装置或液晶显示器，在基板上执行各种过程，例如，光刻、蚀刻、灰化、离子植入和薄膜沉积。为了消除过程中产生的异物和颗粒，清洁基板的清洁过程在各种过程之前或之后进行。
[0004]同时，基板处理过程的多个过程包括将液体供应至基板和处理基板。通常，当液体被供应至基板时，它通过喷嘴供应到基板上。
[0005]同时，将光照射到喷嘴的顶端，并且由设置在喷嘴后面的相机对排放的液体拍照，通过这种方式来检查从喷嘴排放的液体。然而，在检查方法中，光可以根据相机的位置和光的位置来散射，并且在光或相机远侧的位置处拍摄的图像可能由于光的扩散现象而失真或具有误差，这使得难以进行精确的检查。

【发明内容】

[0006]本发明构思提供了检查用于将处理液体供应至基板的喷嘴的检查单元、检查方法和包括检查单元的基板处理设备。
[0007]本发明构思提供了一种处理基板的设备。
[0008]根据本发明构思的一个实施例，基板处理设备可包括:处理单元，其包括容器和支撑构件，该支撑构件设置在容器的内部空间中以支撑基板，该处理单元被构造成处理基板；喷嘴单元，其具有处理液体喷嘴，以用于将处理液体供应至设置在处理单元中的基板；以及检查单元，其检查处理液体是否从处理液体喷嘴被正常地排放。喷嘴单元还包括喷嘴驱动器，该喷嘴驱动器将处理液体喷嘴从过程位置和检查位置移动，在过程位置处，基板由处理单元处理，在检查位置处，处理液体喷嘴由检查单元检查。检查单元可包括:透明材料的板；摄影构件，其设置在板下方;光源构件，其将光照射到从处理液体喷嘴朝在检查位置处的板排放的处理液体的路径上；以及确定构件，其从由摄影构件拍摄的图像确定处理液体是否被正常地排放。
[0009]根据本发明构思的一个实施例，基板处理设备还可包括检查单元，该检查单元还包括扩散防止板，该扩散防止板限制从光源构件照射的光的光宽度。
[0010]根据本发明构思的一个实施例，狭缝可以形成于扩散防止板中，并且光宽度可以由狭缝限制。
[0011]根据本发明构思的一个实施例，处理液体喷嘴可包括多个排放孔，并且狭缝的宽度可以设置成对应于当从光被照射到的一侧观察时在排放孔中的最外排放孔之间的距离。
[0012]根据本发明构思的一个实施例，当从顶部观察时，扩散防止板可以设置在比光源构件更靠近处理液体喷嘴处。
[0013]根据本发明构思的一个实施例，检查单元还可包括使板围绕板的中心旋转的旋转驱动单元。
[0014]根据本发明构思的一个实施例，摄影构件可以设置在板的中心区域和周边区域之间。
[0015]根据本发明构思的一个实施例，光源构件和摄影构件可以布置成使得光被照射的方向和摄影构件拍摄的方向彼此垂直。
[0016]根据本发明构思的一个实施例，摄影构件可以设置在面向设置在检查位置处的处理液体喷嘴处。
[0017]根据本发明构思的一个实施例，检查单元还可包括驱动器，该驱动器使光源构件向上和向下移动。
[0018]根据本发明构思的一个实施例，处理液体喷嘴可包括多个排放孔，并且光源构件可以布置成使得如果处理液体喷嘴设置在检查位置处，那么光的路径穿过邻近排放孔的位置。
[0019]根据本发明构思的一个实施例，从光源构件照射的光可以是激光。
[0020]根据本发明构思的一个实施例，检查单元还可包括清洁喷嘴，该清洁喷嘴将清洁液体供应至板，使得供应到板上的处理液体被清除。
[0021 ]根据本发明构思的一个实施例，清洁喷嘴可以将清洁液体供应至板的中心。
[0022]根据本发明构思的一个实施例，清洁喷嘴可以设置在穿过板的中心的假想线的一侧上，处理液体喷嘴和摄影构件可以设置在假想线的相对侧上，并且清洁喷嘴的排放管线可以朝板的中心倾斜。
[0023]根据本发明构思的一个实施例，检查单元还可包括设置成围绕板的杯。
[0024]根据本发明构思的一个实施例，处理液体喷嘴可包括:主体，该主体具有射出通路和连接到射出通路以射出处理液体的排放孔，在主体内部的处理液体流过射出通路；以及振动器，其将流过主体中的射出通路的处理液体加压并且设置在射出通路上方。
[0025]本发明构思提供了一种检查单元，该检查单元检查处理液体是否从处理液体喷嘴被正常地排放，以用于将处理液体供应至基板。
[0026]根据本发明构思的一个实施例，检查单元可包括:透明材料的板;摄影构件，其设置在板下方;光源构件，其将光照射到从处理液体喷嘴朝在检查位置处的板排放的处理液体的路径上；以及确定构件，其从由摄影构件拍摄的图像确定处理液体是否被正常地排放。
[0027]根据本发明构思的一个实施例，检查单元还可包括扩散防止板，该扩散防止板限制从光源构件照射的光的光宽度。
[0028]根据本发明构思的一个实施例，狭缝可以形成于扩散防止板中，并且光宽度由狭缝限制。
[0029]根据本发明构思的一个实施例，检查单元还可包括使板围绕板的中心旋转的旋转驱动单元。
[0030]根据本发明构思的一个实施例，检查单元还可包括使板旋转的旋转驱动单元。
[0031]根据本发明构思的一个实施例，光源构件和摄影构件可以布置成使得光被照射的方向和摄影构件拍摄的方向彼此垂直。
[0032]根据本发明构思的一个实施例，摄影构件可以设置在板的中心区域和周边区域之间。
[0033]根据本发明构思的一个实施例，检查单元还可包括驱动器，该驱动器使光源构件向上和向下移动。
[0034]根据本发明构思的一个实施例，检查单元还可包括清洁喷嘴，该清洁喷嘴将清洁液体供应至板，使得供应到板上的处理液体被清除。
[0035]根据本发明构思的一个实施例，清洁喷嘴可以将清洁液体供应至板的中心。
[0036]根据本发明构思的一个实施例，清洁喷嘴可以设置在穿过板的中心的假想线的一侧上，并且处理液体喷嘴和摄影构件可以设置在假想线的相对侧上，并且清洁喷嘴的排放管线朝板的中心倾斜。
[0037]根据本发明构思的一个实施例，检查单元还可包括设置成围绕板的杯。
[0038]根据本发明构思的一个实施例，从光源构件照射的光可以是激光。
[0039]本发明构思提供了一种检查方法，该方法检查处理液体是否从处理液体喷嘴被正常地排放，以用于将处理液体供应至基板。
[0040]根据本发明构思的一个实施例，检查方法可包括:将处理液体排放到透明材料的板;将光照射到处理液体被排放的路径上;利用摄影构件从板的下侧拍摄光路径上的处理液体;以及从拍摄的图像确定处理液体是否被正常地排放。
[0041 ]根据本发明构思的一个实施例，在处理液体被排放的同时，板可以旋转。
[0042]根据本发明构思的一个实施例，处理液体喷嘴可包括多个排放孔，并且光的光宽度可以由具有狭缝的扩散防止板限制。
[0043]根据本发明构思的一个实施例，光宽度可以设置成对应于当从光被照射到的一侧观察时设置在最外侧上的处理液体喷嘴的排放孔之间的距离。
[0044]根据本发明构思的一个实施例，光被照射的方向可以垂直于处理液体被排放的方向。
[0045]根据本发明构思的一个实施例，排放到板的处理液体可以通过将清洁液体供应至板来清除。
[0046]根据本发明构思的一个实施例，清洁液体可以被供应至板的中心。
[0047]根据本发明构思的一个实施例，在清洁液体被排放的同时，板可以旋转。
[0048]根据本发明构思的一个实施例，在处理液体被排放的同时，清洁液体可以被供应至板。
[0049]根据本发明构思的一个实施例，在处理液体被排放之后，清洁液体可以被供应至板。
[0050]根据本发明构思的一个实施例，光的照射路径可以设置在邻近处理液体喷嘴的排放孔处。
[0051]根据本发明构思的一个实施例，光可以被照射到穿过从处理液体喷嘴的排放孔排放的小滴的路径。
[0052]根据本发明构思的一个实施例，光可以是激光。
[0053]根据本发明构思的一个实施例，通过提供检查将液体供应至基板的喷嘴的检查单兀，可以提尚基板处理设备的效率。
[0054]根据本发明构思的一个实施例，通过将扩散防止板设置成邻近光源构件以限制光源的光宽度，可以在检查过程期间有效地执行拍摄操作。
[0055]根据本发明构思的一个实施例，通过有效地布置光源构件和拍摄构件，可以提高检查过程的效率。
【附图说明】
[0056]上述和其它目的和特征将从参照附图的以下描述变得显而易见，其中，除非另行规定，贯穿各个附图，类似的附图标记表示类似的部件，并且在附图中:
[0057]图1是平面图，示意性地示出了根据本发明构思的基板处理系统；
[0058]图2是剖视图，示出了图1的基板处理设备；
[0059]图3是剖视图，不出了图2的处理液体喷嘴；
[0000]图4是仰视图，不出了图3的处理液体喷嘴；
[0061 ]图5是视图，示出了图2的处理液体喷嘴的射出通路的另一个实施例；
[0062]图6是剖视图，示出了图2的扩散防止板；
[0063]图7是视图，示意性地示出了从光构件照射的光的光宽度；
[0064]图8至12是视图，示出了根据本发明构思的一个实施例的检查方法；以及
[0065]图13是视图，示意性地示出了光被照射到从处理液体喷嘴排放的处理液体。
【具体实施方式】
[0066]在下文中，将参照附图更详细地描述本发明构思的示例性实施例。本发明构思的实施例可以以各种形式被修改，并且本发明构思的范围不应解释为限制以下实施例。本发明构思的实施例提供用于为本领域的技术人员更全面地描述本发明构思。因此，附图的部件的形状被夸大以突出其更清楚的描述。
[0067]图1是平面图，示意性地示出了根据本发明构思的基板处理系统.
[0068]参看图1，基板处理系统10具有转位模块100和过程处理模块200，并且转位模块100包括多个加载端口 120和进料框架140。加载端口 120、进料框架140和过程处理模块200可以顺序地布置成行。在下文中，加载端口 120、进料框架140和过程处理模块200布置的方向将被称为第一方向12。当从顶部观察时，垂直于第一方向12的方向将被称为第二方向14，并且正交于包括第一方向12和第二方向14的平面的方向将被称为第三方向16。
[0069]其中接纳基板W的载体130设置在加载端口120上。多个加载端口 120被提供并且沿着第二方向14布置成行。图1示出提供了四个加载端口 120。然而，加载端口 120的数目可以根据情况(例如，过程处理模块200的过程效率或占有面积)增加或减少。在载体130中形成有提供用于支撑基板的周边的多个狭槽(未示出)。多个狭槽沿着第三方向16设置，并且基板设置在载体130中，使得基板叠置成沿着第三方向16彼此间隔开。前开式晶圆传送盒(FOUP)可以被用作载体130。
[0070]过程处理模块200包括缓冲单元220、进料室240和多个过程室260。进料室240布置成使得其纵长方向平行于第一方向12。过程室260沿着第二方向14布置在进料室240的相对侧上。设置在进料室240的一侧上的过程室和设置在进料室240的相对侧上的过程室260相对于进料室240彼此对称。过程室260中的一些沿着进料室240的纵长方向布置。此外，过程室260中的一些布置成彼此叠置。即，具有AXB(A和B是自然数)的阵列的过程室260可以布置在进料室240的一侧上。这里，A是沿着第一方向12设置成行的过程室260的数目，并且B是沿着第三方向16设置成行的过程室260的数目。当四个或六个过程室260设置在进料室240的一侧上时，过程室260可以布置成2 X 2或3 X 2的阵列中。过程室260的数目可以增加或减少。与上述描述不同，过程室260可以仅设置在进料室240的一侧上。此外，与上述描述不同，过程室260可以设置在进料室240的一侧或相对侧上以形成单个层。
[0071 ]缓冲单元220布置在进料框架140和进料室240之间。缓冲单元220提供空间，基板W在进料室240和进料框架140之间被输送之前停留在该空间中。定位有基板W的狭槽(未示出)设置在缓冲单元220中，并且多个狭槽(未示出)设置成沿着第三方向16彼此间隔开。面向进料框架140且面向进料室240的缓冲单元220的每个面可以是开放的。
[0072]进料框架140在设置在加载端口120上的载体130和缓冲单元220之间输送基板。转位轨142和转位机器人150设置在进料框架140中。转位轨142布置成使得其纵长方向平行于第二方向14。转位机器人150安装在转位轨142上，并且在第二方向14上沿着转位轨142线性移动。转位机器人150具有基部151、主体153和多个转位臂155。基部151安装成沿着转位轨142移动。主体153联接到基部151。主体153设置成沿着第三方向16在基部151上移动。主体153设置成在基部151上旋转。转位臂155联接到主体153，并且设置成相对于主体153向前和向后移动。多个转位臂155设置成独立地驱动。转位臂155布置成叠置，以便沿着第三方向16彼此间隔开。当基板W被从过程模块200输送至载体130时，使用转位臂155中的一些，并且当基板W被从载体130输送至过程处理模块200时，使用转位臂155中的另一些。该结构可以防止在过程处理之前从基板W生成的颗粒在过程处理之后在由转位机器人150将基板W载入和载出的过程中附接到基板W。
[0073]进料室240在缓冲单元220和过程室260之间并且在过程室260之间输送基板W。导轨242和主机器人250设置在进料室240中。导轨242布置成使得其纵长方向平行于第一方向12。主机器人250安装在导轨242上，并且沿着第一方向12在导轨242上线性移动。主机器人250具有基部251、主体253和主臂255。基部251安装成沿着导轨242移动。主体253联接到基部251。主体253设置成沿着第三方向16在基部251上移动。主体253设置成在基部251上旋转。主臂255联接到主体253，并且设置成相对于主体253向前和向后移动。多个主臂255设置成独立地驱动。主臂255布置成叠置，以便沿着第三方向16彼此间隔开。当基板被从缓冲单元220和过程室260输送时使用的主臂255与当基板被从过程室260输送到缓冲单元220时使用的主臂255可以是不同的。
[0074]在基板W上执行清洁过程的基板处理设备300设置在过程室260中。根据执行的清洁过程的类型，设置在过程室260中的基板处理设备300可具有不同的结构。选择性地，在过程室260中的基板处理设备300可具有相同的结构。选择性地，过程室260可被划分为多个组，使得设置在与相同组有关的过程室260中的基板处理设备300具有相同的结构，并且设置在与不同的组有关的过程室260中的基板处理设备300具有不同的结构。例如，当过程室260被划分为两组时，第一组的过程室260可以设置在进料室240的一侧上，并且第二组的过程室260可以设置在进料室240的相对侧上。选择性地，第一组的过程室260可以设置在进料室240的下侧上，并且第二组的过程室260可以设置在进料室240的上侧上，在进料室240的相对侧上。第一组的过程室260和第二组的过程室260可以根据所使用的化学物质的种类或清洁方法的类型来划分。
[0075]在下文中，包括压电体的喷嘴将作为本发明构思的实施例中的示例被描述，但本发明构思不限于此，而是可以应用于检查基板处理设备的所有检查单元，该设备包括用于将液体供应至基板的喷嘴并处理基板。
[0076]图2是剖视图，不出了图1的基板处理设备。参看图2，基板处理设备300包括外壳301、处理单元303、喷嘴单元400和检查单元500。
[0077]外壳301在其内部中提供空间。外壳301具有长方体形状。处理单元303、喷嘴单元400和检查单元500设置在外壳301的内部空间中。
[0078]处理单元303将处理液体供应至基板以处理基板。处理单元303包括容器320、支撑构件340和提升构件360。
[0079]容器320提供在其中进行基板处理过程的空间。容器320的上侧是开放的。容器320具有内部回收器皿322、中间回收器皿324和外部回收器皿326。回收器皿322、324和326回收在过程中使用的不同的处理液体。内部回收器皿322设置成具有围绕支撑构件340的环形圈形状。中间回收器皿324设置成具有围绕内部回收器皿322的环形圈形状。外部回收器皿326设置成具有围绕中间回收器皿324的环形圈形状。内部回收器皿322的内部空间322a、在内部回收器皿322和中间回收器皿324之间的空间324a、在中间回收器皿324和外部回收器皿326之间的空间326a充当入口，处理液体通过该入口分别引入到内部回收器皿322、中间回收器皿324和外部回收器皿326中。在其底部表面的向下方向上从回收器皿322、324和326垂直地延伸的回收管线322b、324b和326b分别连接到回收器皿322、324和326。回收管线322b、324b和326b排放分别通过回收器皿322、324、326引入的处理液体。排放的处理液体可以通过外部处理液体循环系统(未示出)重新使用。
[0080]支撑构件340在过程期间支撑并旋转基板W。支撑构件340具有主体342、多个支撑销344、多个卡盘销346和支撑轴348。主体342具有上表面，当从顶部观察时，该上表面具有基本上圆形的形状。可以由马达349旋转的支撑轴348固定地联接到主体342的底部。
[0081]提供了多个支撑销344。支撑销344可布置成在主体342的上表面的周边处彼此间隔开，并且从主体342向上突出。支撑销344布置成具有通过它们的组合的大体上环形圈的形状。支撑销344支撑基板W的后表面的周边，使得基板W与主体342的上表面间隔开预定的距离。
[0082]提供了多个卡盘销346。卡盘销346布置成比支撑销344更远离主体342的中心。卡盘销346设置成从主体342向上突出。卡盘销346支撑基板W的侧面，使得当支撑构件340被旋转时基板W不从正确的位置侧向分离。卡盘销346设置成在备用位置和支撑位置之间沿着主体342的径向方向线性移动。备用位置是比支撑位置更远离主体342的中心的位置。当基板W被加载到支撑构件340上或从支撑构件340卸载时，卡盘销346位于备用位置处，并且当过程在基板W上进行时，卡盘销346位于支撑位置处。卡盘销346在支撑位置处与基板W的侧面接触。
[0083]提升构件360向上和向下线性移动容器320。当容器320向上和向下移动时，容器320到支撑构件340的相对高度改变。提升构件360具有托架362、可移动的轴364和驱动器366。托架362固定地安装在容器320的外壁上。由驱动器366向上和向下移动的可移动的轴364固定地联接到托架362。容器320被降低，使得当基板W定位在支撑构件340上或从支撑构件340提升时，支撑构件340突出至容器320的上侧。当过程进行时，容器320的高度被调整，使得处理液体根据供应至基板W的处理液体的种类而被引入到预定的回收器皿360中。选择性地，提升构件360可以向上和向下移动支撑构件340。
[0084]喷嘴单元400将处理液体射出到基板W上。多个喷嘴单元400可以设置成以各种方法射出各种类型的处理液体或相同类型的处理液体。喷嘴单元400包括支撑轴401、喷嘴臂403、处理液体喷嘴405、喷嘴驱动器406和保护液体喷嘴408。
[0085]支撑轴401布置在容器320的一侧上。支撑轴401具有杆形形状，其纵长方向为竖直方向。支撑轴401由喷嘴驱动器406摆动并升高。不同的是，支撑轴401可以由喷嘴驱动器388水平地线性移动并升高。喷嘴臂403固定地联接到支撑轴401的上端。喷嘴臂403支撑处理液体喷嘴405和保护液体喷嘴408。处理液体喷嘴405和保护液体喷嘴408设置在喷嘴臂403的端部处。例如，保护液体喷嘴408可以设置在比处理液体喷嘴405更靠近喷嘴臂403的端部处。当处理液体喷嘴405将处理液体排放到基板上时，将处理液体喷嘴405定位到在基板的上侧的排放位置。同时，如果处理液体被完全排放，处理液体喷嘴405设置在液体器皿472内部的清洁位置处。
[0086]喷嘴驱动器406可以将处理液体喷嘴405移动到过程位置Pl和检查位置P2。这里，过程位置Pl是处理单元303处理基板的位置。在过程位置Pl处，处理液体喷嘴405设置在支撑构件340上。检查位置P2是在该处由检查单元500检查处理液体喷嘴405的位置。在检查位置Pl处，处理液体喷嘴405设置在板541上。喷嘴驱动器406可以向上和向下提升处理液体喷嘴405。
[0087]图3是剖视图，示出了根据本发明构思的一个实施例的处理液体喷嘴。图4是仰视图，示出了图3的处理液体喷嘴。参看图3和4，处理液体喷嘴405将处理液体射出到基板上。当从顶部观察时，处理液体喷嘴405具有圆形形状。处理液体喷嘴405包括主体420、振动器436、处理液体供应管线450和处理液体回收管线460。
[0088]主体420具有下板410和上板430。下板410具有圆柱形形状。在下板410的内部形成有射出通路412，处理液体流过该通路中。在下板410的底部表面上形成有多个第一排放孔414，处理液体通过该排放孔射出。第一排放孔414与射出通路412连通。在第一排放孔414中形成有细孔。
[0089]射出通路412可包括第一区域412b、第二区域412c和第三区域412a。当从顶部观察时，第一区域412b和第二区域412c具有环形形状。第一区域412b的半径大于第二区域412c的半径。第一区域412b的第一排放孔414可以沿着第一区域412b设置成行。第二区域412c的第一排放孔414可以沿着第二区域412c设置成两行。第三区域412a将第一区域412b和第二区域412c连接到引入通路432。第三区域412a将第一区域412b和第二区域412c连接到回收通路434。例如，如图4所示，第三区域412a可以连接到引入通路432或回收通路434。上板430设置成具有圆柱形形状，该圆柱形具有与下板410的圆柱形相同的直径。上板430固定地联接到下板410的上表面。引入通路423和回收通路434形成于上板430的内部中。引入通路432和回收通路434与射出通路412的第二区域412b连通。引入通路432用作通过其将处理液体引入射出通路412中的入口，并且回收通路434用作通过其将处理液体从射出通路412回收的出口。引入通路432和回收通路434设置成相对于处理液体喷嘴405的中心彼此面对。
[0090]振动器436设置在上板430的内部中。当从顶部观察时，振动器436设置成具有圆盘形状。例如，振动器436设置成具有与第一区域412b相同的直径。选择性地，振动器436的直径可以大于第一区域412b的直径且小于上板430的直径。振动器436电连接到设置在外部上的电源438。振动器436为射出的处理液体提供振动，以控制处理液体的颗粒尺寸和流量。根据本发明构思的一个实施例，振动器436可以是压电元件。处理液体可以提供为清洁液体。例如，处理液体可以是电解水。电解水可包括氢水、氧水、臭氧水中的任一者或全部。
[0091]处理液体供应管线450将处理液体供应至引入通路432，并且处理液体回收管线460从回收通路434回收处理液体。处理液体供应管线450连接到引入通路432。处理液体回收管线460连接到回收通路434。栗452和供应阀454安装在处理液体供应管线450上。回收阀462安装在处理液体回收管线460上。栗452将从处理液体供应管线450供应至引入通路432的处理液体加压。供应阀454打开并关闭处理液体供应管线450。回收阀462打开并关闭处理液体回收管线460。根据本发明构思的一个实施例，当过程处于备用状态时，回收阀462打开处理液体回收管线460。因此，处理液体通过处理液体回收管线460被回收，并且不通过第一射出孔414射出。不同的是，在过程进行的同时，回收阀462关闭处理液体回收管线460。因此，射出通路412被处理液体填充，并且射出通路412的内部压力增加，如果电压被施加到振动器436，处理液体可以通过第一射出孔414射出。
[0092]图5是视图，示出了图2的处理液体喷嘴的喷射通路的另一个实施例。在下文中，参看图5，射出通路4120包括第一射出通路4120a、第二射出通路4120b和第三射出通路4120c。第一射出通路4120a从弓I入通路432延伸。第一射出通路4120a可具有第一长度LI。第二射出通路4120b从回收通路434延伸。第二射出通路4120b设置成平行于第一射出通路4120a。第二射出通路4120b可具有第一长度LI。第三射出通路4120c连接第一射出通路4120a和第二射出通路4120b。第三射出通路4120c设置成弯曲的。第三射出通路4120c的一部分可以设置成平行于第一射出通路4120a且具有第一长度LI。例如，第三射出通路4120c可以设置成具有这样的形状:其中，多个U形形状连接到彼此。选择性地，第三射出通路4120c可以设置成具有各种形状。
[0093]重新参看图2，保护液体喷嘴408将液体供应到基板上。当处理液体由处理液体喷嘴405供应时，保护液体喷嘴408同时供应液体。然后，在处理液体喷嘴405开始供应处理液体之前，保护液体喷嘴408可以供应液体。例如，保护液体喷嘴408可以以滴状方式射出液体。保护液体喷嘴408设置成围绕处理液体喷嘴405的一部分。保护液体喷嘴408设置在比处理液体喷嘴405更靠近喷嘴臂382的端部处。保护液体喷嘴408具有垂直于基板的第二排放孔(未示出)，液体通过该第二排放孔排放到基板上。保护液体喷嘴408设置成具有弧形形状，当从顶部观察时，该弧形围绕处理液体喷嘴405。在保护液体喷嘴408的相对的两端之间的线性距离可以大于处理液体喷嘴405的直径。然后，处理液体喷嘴405和保护液体喷嘴408可以是同心的。液体提供为保护液体。例如，液体可以是包含氨和过氧化氢的溶液。液体在基板W上形成液体膜，并且液体膜缓解由处理液体施加到基板W的冲击。因此，可以防止处理液体在基板W上落下图案。液体可以是纯水。第二排放孔可以设置成具有单个狭缝形状。选择性地，第二排放孔可包括多个圆形排放孔。保护液体喷嘴408可以将液体射出到与处理液体被射出到的基板W的区域相邻的区域。液体被射出到的区域可以比处理液体被射出到的区域更靠近基板W的中心区域。选择性地，保护液体喷嘴408可以设置成具有条形形状，而不是弧形形状。
[0094]检查单元500检查由处理液体喷嘴405供应的处理液体是否被正常地排放。检查单元500包括杯510、板541、光源构件520、扩散防止板530、清洁喷嘴550、摄影构件560和确定构件580。
[0095]当利用由清洁喷嘴550供应的液体将处理液体从板541的上侧移除时，杯510防止处理液体溅到外部。杯510具有在其内部的空间，该空间的上侧是开放的。杯510设置成具有开放的上侧。排放孔571形成于杯510的底部表面上，液体通过该排放孔排放。排放孔5 71连接到设置在外部上的排放管线573。排放管线573从杯510的底部垂直于杯510的底部向下延伸。排放管线573将通过杯510引入的液体排放到外部。
[0096]板541和支撑件543设置在杯510的内部空间中。当检查单元500检查处理液体喷嘴405时，处理液体被从喷嘴405排放到板541的上表面。板541设置成具有圆板形状。板541由透明材料形成。这里，透明材料是指具有透明性的材料，当处理液体被摄影构件560拍摄时，处理液体通过该透明性来识别。
[0097]面向板541的上部区域为检查位置P2。当喷嘴单元400设置在检查位置P2处时，板541设置在喷嘴单元400下方。
[0098]支撑件543联接到板541的底部表面。支撑件543固定地联接到板541的中心。
[0099]旋转驱动单元535联接到支撑件543。旋转驱动单元545使板541旋转。例如，旋转驱动单元545可以是马达。
[0100]光源构件520将光照射到从检查位置P2朝板541的从处理液体喷嘴405排放的处理液体的路径上。光源构件520设置在杯510外部。光源构件520布置成使得从光源构件520照射的光的路径和从处理液体喷嘴045排放的处理液体的排放路径彼此垂直。光源构件520布置成使得光路径经过邻近处理液体喷嘴405的排放孔的位置。光源构件520包括光源521和驱动器523。
[0101]光源521将光照射到供应至板541的处理液体的路径上。光源521将光照射到在处理液体喷嘴405和板541之间的区域。光源521将光照射在平行于板541的方向上。例如，光源521的光可以是激光。
[0102]驱动器523可以使光源521向上和向下移动。驱动器523联接到光源521。选择性地，在不提供驱动器523的同时，光源523的位置可以被固定。
[0103]扩散防止板523限制由光源构件520照射的光的光宽度。扩散防止板530联接到光源构件520。扩散防止板530与光源521间隔开。扩散防止板530可以设置在处理液体的排放路径和光源521之间。当从光被照射到的一侧观察时，扩散防止板530设置成具有圆板形状。扩散防止板530设置在比光源构件520更靠近处理液体喷嘴405处。当从顶部观察时，扩散防止板530设置在比光源构件520更靠近处理液体喷嘴405处。狭缝531形成于扩散防止板530中。狭缝531形成于扩散防止板530的中心区域处。狭缝531限制由光源构件520照射的光的光宽度。狭缝531的宽度dl设置成对应于在排放孔之间的距离d2，当从光被照射到的一侧观察时，排放孔设置在外部上。这里，在排放孔之间的距离是指在排放孔的相对两端之间的距离d2，如图6所示。排放孔的对应距离d2是指与狭缝531的宽度dl相同或更大的距离。
[0104]清洁喷嘴550将清洁液体供应至板541的上表面上。清洁液体清洁排放到板541的上表面的处理液体。清洁喷嘴550设置在板541上方。清洁喷嘴570设置在穿过板541的中心的假想线C的一侧上。处理液体喷嘴405和摄影构件560设置在穿过板541的中心的假想线C的相对侧上。清洁喷嘴550的排放管线设置成朝板541的中心倾斜。清洁喷嘴550将清洁液体排放到板541的中心。例如，供应的清洁液体可以是纯水。当处理液体被供应时，清洁液体可以同时被供应至板541。不同的是，清洁液体可以在处理液体被供应之后被供应至板541。
[0105]摄影构件560拍摄从处理液体喷嘴405排放的处理液体。摄影构件560设置在板541下方。摄影构件560的一部分设置在杯510的内部中。摄影构件560设置成使得其拍摄方向面向处理液体喷嘴405排放处理液体的方向。摄影构件560设置成面向在检查位置P2处的处理液体喷嘴405。摄影构件560在板541的中心区域和周边区域之间设置在板541下方。光源构件520和摄影构件560可以布置成使得光被照射的方向和光由摄影构件560拍摄的方向彼此垂直。例如，摄影构件560可以是电荷耦合相机(CCD)。
[0106]确定构件580从由摄影构件560拍摄的图像来确定从处理液体喷嘴405排放的处理液体是否被正常地排放。确定构件580连接到摄影构件560。确定构件580接收由摄影构件560拍摄的图像。例如，确定构件580检测在排放孔中是否存在任何排放错误。排放错误包括这样的情况:其中，排放孔被堵塞，使得处理液体未被排放，或者排放量小于正常量。
[0107]虽然已描述了本发明构思包括扩散防止板520、杯510、清洁喷嘴550的构型，但扩散防止板520、杯510和清洁喷嘴550的构型中的一些或全部可以不提供。
[0108]此外，在本发明构思的实施例中作为实例而描述了处理液体喷嘴405包括振动器436的构型，但本发明构思不限于该处理液体喷嘴，而可以是将处理液体排放到基板以处理基板的所有处理液体喷嘴。
[0109]在下文中，将描述检查基板处理设备300的喷嘴单元400的检查方法。
[0110]当喷嘴单元400由检查单元500检查时，喷嘴单元400被移动至检查位置P2。设置在检查位置P2处的喷嘴单元400将处理液体排放到板541。在处理液体被排放的同时，板541被旋转。光源构件520将光照射到其中处理液体被排放的路径上。例如，由光源照射的光源可以是激光。从处理液体喷嘴405排放的处理液体被包括在由光源照射的光的光宽度中。例如，如图13所示，根据其位置，从处理液体喷嘴405排放的处理液体具有不同长度的小滴。小滴的竖直长度在邻近排放孔的位置处较长。然后，当其向下行进时，小滴的长度逐渐变得更小，并且预定尺寸的小滴被朝板541供应。然后，光的所有照射路径穿过最靠近排放孔的所有小滴。
[0111]在光被照射之后，摄影构件560在板541下方拍摄处理液体。拍摄的图像被发送至确定构件580。确定构件580从拍摄的图像来确定处理液体是否从排放孔正常地排放。
[0112]排放到板541的处理液体通过从清洁喷嘴550供应清洁液体来清除。清洁液体由设置在板541上方的清洁喷嘴550供应。清洁喷嘴550将清洁液体供应至板541的中心。在清洁液体被供应的同时，板541被旋转。当处理液体被排放时，清洁液体可以同时被供应至板541。不同的是，在处理液体被排放之后，可以通过将清洁液体供应至板541来清除处理液体。
[0113]作为本发明构思的一个实施例，光源为激光。激光具有比诸如卤素灯的其它光源更好的直线度。此外，当光被照射到其中处理液体被排放通过邻近光源构件520的扩散防止板530的路径上时，光宽度被限制以防止光被扩散。此外，光从光源构件520被照射的方向和光由摄影构件560拍摄的方向彼此垂直。根据本发明构思的实施例，当最远离光源的小滴被拍摄时，通过利用光的直线度和拍摄方向，可以阻止拍摄的图像由于光的散射或扩散而失真。
[0114]以上提及的详细描述例示了本发明构思。此外，以上提及的内容描述了本发明构思的示例性实施例，并且本发明构思可以在各种其它组合、变化和环境中使用。也就是说，在不脱离本说明书中公开的本发明构思的范围、书面公开的等同范围和/或本领域的技术人员的技术或知识范围的情况下，本发明构思可以被修改和更正。书面实施例描述了实现本发明构思的技术精神的最佳状态，并且可以做出在详细的应用领域和本发明构思的目的中要求的各种变化。因此，本发明构思的详细描述并非意图将本发明构思限制在所公开的实施例状态中。此外，应当理解，所附权利要求包括其它实施例。
【主权项】
1.一种基板处理设备，包括: 处理单元，所述处理单元包括容器和设置在所述容器的内部中以支撑基板的支撑构件，所述处理单元被构造成处理所述基板； 喷嘴单元，所述喷嘴单元具有处理液体喷嘴以用于将处理液体供应至设置在所述处理单元中的所述基板；以及 检查单元，所述检查单元检查所述处理液体是否被从所述处理液体喷嘴正常地排放， 其中，所述喷嘴单元还包括喷嘴驱动器，所述喷嘴驱动器将所述处理液体喷嘴从过程位置和检查位置移动，在所述过程位置处，所述基板由所述处理单元处理，在所述检查位置处，所述处理液体喷嘴由所述检查单元检查，并且 其中，所述检查单元包括: 透明材料的板； 设置在所述板下方的摄影构件； 光源构件，所述光源构件将光照射到从所述处理液体喷嘴朝所述检查位置处的所述板排放的所述处理液体的路径上；以及 确定构件，所述确定构件从所述摄影构件拍摄的图像确定所述处理液体是否被正常地排放。2.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中，所述检查单元还包括扩散防止板，所述扩散防止板限制从所述光源构件照射的所述光的光宽度。3.根据权利要求2所述的基板处理设备，其中，狭缝形成于所述扩散防止板中，并且所述光宽度由所述狭缝限制。4.根据权利要求3所述的基板处理设备，其中，所述处理液体喷嘴包括多个排放孔，并且所述狭缝的宽度设置成对应于从所述光照射到的一侧观察时在所述排放孔中的最靠外的排放孔之间的距离。5.根据权利要求2所述的基板处理设备，其中，所述扩散防止板设置成从顶部观察时比所述光源构件更靠近所述处理液体喷嘴。6.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中，所述检查单元还包括使所述板围绕所述板的中心旋转的旋转驱动单元。7.根据权利要求6所述的基板处理设备，其中，所述摄影构件设置在所述板的中心区域和周边区域之间。8.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中，所述光源构件和所述摄影构件布置成使得所述光被照射的方向和所述摄影构件拍摄的方向彼此垂直。9.根据权利要求8所述的基板处理设备，其中，所述摄影构件设置成面向设置在所述检查位置处的所述处理液体喷嘴。10.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中，所述检查单元还包括使所述光源构件向上和向下移动的驱动器。11.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中，所述处理液体喷嘴包括多个排放孔，并且所述光源构件布置成使得如果所述处理液体喷嘴位于所述检查位置处，那么所述光的所述路径穿过邻近所述排放孔的位置。12.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中，从所述光源构件照射的所述光为激光。13.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中，所述检查单元还包括清洁喷嘴，所述清洁喷嘴将清洁液体供应至所述板，使得供应到所述板上的所述处理液体被清除。14.根据权利要求13所述的基板处理设备，其中，所述清洁喷嘴将所述清洁液体供应至所述板的所述中心。15.根据权利要求14所述的基板处理设备，其中，所述清洁喷嘴设置在穿过所述板的所述中心的假想线的一侧上，所述处理液体喷嘴和所述摄影构件设置在假想线的相对侧上，并且 所述清洁喷嘴的排放管线朝所述板的所述中心倾斜。16.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中，所述检查单元还包括设置成围绕所述板的杯。17.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中，所述处理液体喷嘴包括: 主体，所述主体具有射出通路和连接到所述射出通路以射出所述处理液体的排放孔，所述处理液体在所述主体的内部流过所述射出通路；以及 振动器，所述振动器将流过所述主体中的所述射出通路的所述处理液体加压并且设置在所述射出通路上方。18.—种检查单元，所述检查单元检查处理液体是否从处理液体喷嘴正常地排放以用于将所述处理液体供应至基板，所述检查单元包括: 透明材料的板； 设置在所述板下方的摄影构件； 光源构件，所述光源构件将光照射到从所述处理液体喷嘴朝所述检查位置处的所述板排放的所述处理液体的路径上；以及 确定构件，所述确定构件从所述摄影构件拍摄的图像确定所述处理液体是否被正常地排放。19.根据权利要求18所述的检查单元，其中，所述检查单元还包括扩散防止板，所述扩散防止板限制从所述光源构件照射的所述光的光宽度。20.根据权利要求19所述的检查单元，其中，狭缝形成于所述扩散防止板中，并且所述光宽度由所述狭缝限制。21.根据权利要求18所述的检查单元，其中，所述检查单元还包括使所述板围绕所述板的中心旋转的旋转驱动单元。22.根据权利要求18所述的检查单元，其中，所述检查单元还包括使所述板旋转的旋转驱动单元。23.根据权利要求18所述的检查单元，其中，所述光源构件和所述摄影构件布置成使得所述光被照射的方向和所述摄影构件拍摄的方向彼此垂直。24.根据权利要求23所述的检查单元，其中，所述摄影构件设置在所述板的中心区域和周边区域之间。25.根据权利要求18所述的检查单元，其中，所述检查单元还包括使所述光源构件向上和向下移动的驱动器。26.根据权利要求18所述的检查单元，其中，所述检查单元还包括清洁喷嘴，所述清洁喷嘴将清洁液体供应至所述板，使得供应到所述板上的所述处理液体被清除。27.根据权利要求26所述的检查单元，其中，所述清洁喷嘴将所述清洁液体供应至所述板的所述中心。28.根据权利要求27所述的检查单元，其中，所述清洁喷嘴设置在穿过所述板的所述中心的假想线的一侧上，所述处理液体喷嘴和所述摄影构件设置在所述假想线的相对侧上，并且所述清洁喷嘴的排放管线朝所述板的所述中心倾斜。29.根据权利要求18所述的检查单元，其中，所述检查单元还包括设置成围绕所述板的杯。30.根据权利要求18所述的检查单元，其中，从所述光源构件照射的所述光为激光。31.—种检查方法，所述检查方法检查处理液体是否从处理液体喷嘴被正常地排放，以用于将所述处理液体供应至基板，所述检查方法包括: 将所述处理液体排放到透明材料的板;将光照射到所述处理液体被排放的路径上;利用摄影构件从所述板的下侧拍摄光路径上的所述处理液体；以及从所述拍摄的图像确定所述处理液体是否被正常地排放。32.根据权利要求31所述的检查方法，其中，在所述处理液体被排放的同时，所述板被旋转。33.根据权利要求31所述的检查方法，其中，所述处理液体喷嘴包括多个排放孔，并且所述光的光宽度由具有狭缝的扩散防止板限制。34.根据权利要求31所述的检查单元，其中，所述光宽度设置成对应于从所述光被照射到的一侧观察时位于所述最靠外侧的所述处理液体喷嘴的所述排放孔之间的距离。35.根据权利要求31所述的检查方法，其中，所述光被照射的方向垂直于所述处理液体被排放的方向。36.根据权利要求31所述的检查方法，其中，通过将清洁液体供应至所述板来清除排放到所述板的所述处理液体。37.根据权利要求36所述的检查方法，其中，所述清洁液体被供应至所述板的中心。38.根据权利要求36所述的检查方法，其中，在所述清洁液体被排放的同时，所述板被旋转。39.根据权利要求36所述的检查方法，其中，当所述处理液体被排放时，所述清洁液体同时被供应至所述板。40.根据权利要求36所述的检查方法，其中，在所述处理液体被排放之后，所述清洁液体被供应至所述板。41.根据权利要求31所述的检查方法，其中，所述光的所述照射路径邻近所述处理液体喷嘴的排放孔。42.根据权利要求31所述的检查方法，其中，所述光被照射到穿过从所述处理液体喷嘴的所述排放孔排放的小滴的路径。43.根据权利要求31所述的检查方法，其中，所述光为激光。
【文档编号】H01L21/67GK105845601SQ201610056572
【公开日】2016年8月10日
【申请日】2016年1月27日
【发明人】梁根华, 朱润钟, 崔基勋, 金光燮
【申请人】细美事有限公司