柔性显示基底及其制造方法、柔性显示设备的制造方法

柔性显示基底及其制造方法、柔性显示设备的制造方法
【专利摘要】本发明涉及一种柔性显示基底及其制造方法、柔性显示设备。该柔性显示设备包括：包括在其一个表面处的多个突出部分和多个凹入部分，以及分别在所述多个突出部分的一些之间朝多个凹入部分中的相邻一个的中心延伸的弯曲表面的显示基底；被配置为在显示基底上发光的像素单元；被联接到像素单元并在第一方向上伸长的第一布线；以及在与第一方向相交的第二方向上伸长的第二布线。
【专利说明】
柔性显示基底及其制造方法、柔性显示设备
技术领域
[0001] 所描述的技术总地来说设及显示设备。更具体地说，所描述的技术总地来说设及 能够因外力弯曲、扩展和/或收缩的柔性显示基底及其制造方法、W及包括柔性显示基底 的柔性显示设备。
【背景技术】
[0002] 显示设备可视地显示数据，通常在屏幕上显示计算机的处理的结果，W作为计算 机输出设备直接由眼观看。显示设备可包括阴极射线管（CRT)、液晶显示器化CD)、有机发 光二极管（OLED)显示器或电泳显示器巧PD),并且不限于作为计算机输出设备的功能，而 是已演变为可不同地应用于电视接收机、便携式通信设备、可穿戴电子设备等领域中的应 用场合中。
[0003] 在显示设备中，可W容易地被制造成大尺寸、薄和轻质的诸如液晶显示器、有机发 光二极管显示器和电泳显示器等的平板显示设备正在引导显示产业。此外，通过应用柔性 材料或弹性材料作为基底，已经研究出可W因外力而可弯曲、可卷曲、可伸展和/或可压缩 的柔性显示设备。
[0004] 在应用到柔性显示设备的柔性基底中，在形成像素的发光元件和驱动发光元件的 像素电路所形成的部分中应当抑制或减小伸展性，而在周围部分应当使弹性最大化。然而， 难W用现有工艺制造一个基底而在多个精细区域（例如，小区域）中具有不同伸展特性，并 且当单独的结构被附着到基底时在接口处难W进行应力控制。
[0005] 在此背景部分公开的上述信息仅用于增强对所描述技术的背景的理解，因此它可 能包含不构成现有技术的信息。

【发明内容】

[0006] 本发明提供了一种柔性显示基底，通过在基底中形成弯曲的凹入部分和突出部分 使得在伸展基底时在像素和其周界区域施加的拉伸应力的方向区分开而具有可靠结构。
[0007] 本发明还提供了一种包括柔性显示基底的柔性显示设备，通过在基底中形成弯曲 的凹入部分和突出部分使得在伸展基底时施加的拉伸应力的方向在像素和其周界区域被 区分开。
[0008] 本发明还提供了一种制造柔性显示基底的方法，其在基底中具有弯曲的凹入部分 和突出部分，W在伸展基底时将在像素和其周界区域中所施加的拉伸应力的方向区分开。
[0009] 根据本发明的一个实施例的柔性显示设备包括：显示基底，该显示基底包括在其 一个表面处的多个突出部分和多个凹入部分，W及分别在所述多个突出部分的一些之间朝 凹入部分中的相邻一个的中屯、延伸的弯曲表面；被配置为在显示基底上发光的像素单元； 被联接到像素单元并在第一方向上伸长的第一布线；W及在与第一方向相交的第二方向上 伸长的第二布线。
[0010] 弯曲表面中的每一个的斜度从突出部分朝凹入部分的中屯、可W变化。
[0011] 弯曲表面的中每一个的斜度的变化从突出部分朝凹入部分的中屯、可W是平缓的。
[0012] 像素单元可W位于显示基底的突出部分中的至少一些上。
[0013] 柔性显示设备可W进一步包括在像素单元上的像素保护层。
[0014] 第一布线可W是连接到像素单元的薄膜晶体管的栅电极的栅极线。
[0015] 第一布线可W沿凹入部分中的一个和弯曲表面中的一个伸长。
[0016] 第一布线可W与弯曲表面中的一个隔开。
[0017] 弯曲表面中的每一个的一部分可W具有斜度，该斜度在远离相应的凹入部分中的 一个的中屯、的方向上倾斜。
[0018] 凹入部分的至少一个的中屯、可W具有平坦表面。
[0019] 多个突出部分中的一些可W具有与多个突出部分中的另一些不同的高度。
[0020] 显示基底的多个突出部分可W形成在两个方向上延伸的凹入部分。
[0021] 显示基底可W具有多个区域，在多个区域的一个区域中的多个突出部分中的一些 可W具有与多个区域的另一个区域中的多个突出部分中的一些不同的特征。
[0022] 多个区域可W沿纵向方向排列。
[0023] 多个区域可W包括跨过显示基底的中屯、延伸的第一区域和延伸到显示基底的边 缘的第二区域。
[0024] 根据本发明的另一实施例的一种柔性显示基底包括：在其一个表面中的多个突出 部分和多个凹入部分，W及分别从多个突出部分的边界朝多个凹入部分中的相邻一个的中 屯、延伸的弯曲表面。
[0025] 弯曲表面中的每一个可W具有斜度，该斜度在从突出部分的一个的边界朝凹入部 分的相应一个的中屯、的方向上变化。
[0026] 斜度的变化可W是平缓的。
[0027] 在弯曲表面中的每一个的一部分处的斜度可W在远离凹入部分中的相应一个的 中屯、的方向上倾斜。
[0028] 凹入部分中的至少一个的中屯、可W是平坦的。
[0029] 多个突出部分中的一些可W具有彼此不同的高度。
[0030] 多个突出部分可W通过多个凹入部分在两个方向上延伸而形成。
[0031] 柔性显示基底可W具有多个区域，多个区域中的至少两个区域可W分别包括具有 不同特征的多个突出部分中的一些和多个凹入部分中的一些。
[0032] 多个区域可W在纵向方向上延伸，并可W包括跨过柔性显示基底的中屯、延伸的第 一区域和延伸到柔性显示基底的边缘的第二区域。
[0033] 多个区域可W包括跨过柔性显示基底的中屯、延伸的第一区域和延伸到柔性显示 基底的边缘的第二区域。
[0034] 根据本发明的另一实施例，一种制造显示基底的方法，该显示基底包括在其一个 表面中的多个突出部分和多个凹入部分，W及分别在多个突出部分的一些与凹入部分中的 相邻一些的中屯、之间延伸的弯曲表面，该方法包括：提供冲压模具，该冲压模具具有被形 状联接到多个突出部分和多个凹入部分的表面；在冲压模具上涂覆和硬化聚二甲基硅氧烷 (PDM巧，W形成PDMS基底；从冲压模具分离硬化的PDMS基底。
[0035] 提供冲压模具可W包括由机械工艺加工形状联接的表面。
[0036] 该方法可W进一步包括，在提供冲压模具期间在底部基底上涂覆光致抗蚀剂层； 图案化光致抗蚀剂层，W除去与多个突出部分对应的部分；回流并硬化图案化的光致抗蚀 剂层。
[0037] 在根据本发明的一个示例性实施例的柔性显示基底中，弯曲的凹入部分和突出部 分被形成在基底中，W将在伸展基底时在像素和其周界区域中施加的拉伸应力的方向区分 开，从而提供了可靠的结构。
[0038] 此外，在根据本发明的一个示例性实施例的柔性显示设备中，包括发光器件和像 素电路的像素单元中的伸展被抑制，像素的周界区域处的伸展被增加或最大化，使得可W 得到显示设备的伸展效果，诸如发光器件和像素电路的元件的可靠性可得到维持。
[0039] 在根据本发明的一个示例性实施例的制造柔性显示基底的方法中，柔性显示基底 通过使用具有对应于弯曲的凹入部分和突出部分的形状的冲压模具制造，从而容易制造具 有所希望形状的显示基底。
【附图说明】
[0040] 图1是根据本发明的一个示例性实施例的柔性显示设备的分解透视图。
[0041] 图2是图1所示的显示基底的一部分的放大透视图和局部放大主视图。
[0042] 图3是示出了形成在根据本发明的一个示例性实施例的柔性显示基底中的像素 和布线的连接关系的示意性主视图。
[0043] 图4是根据本发明的另一示例性实施例的柔性显示基底的主视图。
[0044] 图5是根据本发明的另一示例性实施例的柔性显示基底的主视图。
[0045] 图6是根据本发明的另一示例性实施例的柔性显示基底的主视图。
[0046] 图7是根据本发明的另一示例性实施例的柔性显示基底的透视图。
[0047] 图8是示出了形成在图7所示的柔性显示基底上的像素和布线的连接关系的示意 性主视图。
[004引图9是根据本发明的另一示例性实施例的柔性显示基底的俯视平面图。
[0049] 图10是根据本发明的另一示例性实施例的柔性显示基底的俯视平面图。
[0050] 图11是示出了根据本发明的一个示例性实施例的制造柔性显示基底的方法的流 程图。
[0051] 图12是示出了根据本发明的另一示例性实施例的制造柔性显示基底的方法的流 程图。
【具体实施方式】
[0052] 在下文中将参考其中示出了本发明的示例性实施例的附图更充分地描述本发明 的方面。如本领域技术人员将认识到的那样，所描述的实施例可W W各种不同的方式修改， 所有运些都不脱离本发明的精神或范围。图和描述将被视为在本质上是说明性的，而不是 限制性的。在整个说明书中，相同的附图标记指代相同的元件。此外，为了更好地理解和易 于描述，图中所示的层和元件的尺寸和厚度可W任意地示出，本发明不限于此。
[0053] 此外，当第一部分被描述为被布置在第二部分"上"时，运表示第一部分被布置在 第二部分的上侧或下侧，而不限制为基于重力方向的其上侧。将理解的是，当元件或层被称 为在另一元件或层"上"、"被连接到"或"被联接到"另一元件或层时，它可W直接在另一元 件或层上，被直接连接或直接联接到另一元件或层，或者也可W存在一个或多个中间元件 或中间层。当元件被称为"直接"在另一元件或层"上"、"被直接连接到"或"被直接联接到" 另一元件或层时，不存在中间元件或中间层。例如，当第一元件被描述为"被联接"或"被连 接"到第二元件时，第一元件可W被直接联接或直接连接到第二元件，或者第一元件可W经 由一个或多个中间元件被间接联接或间接连接到第二元件。如本文所用，术语"和/或"包 括相关联的所列项目的一个或多个的任意和所有组合。此外，当描述本发明的实施例时，使 用"可指的是"本发明的一个或多个实施例"。当放在一列元件之前时，诸如"至少一个" 的表述修饰的是整列元件，而不是修饰该列中的单独元件。另外，术语"示例性"意指示例 或例示。
[0054] 将理解的是，虽然术语第一、第二、第=等可在本文中用来描述各种元件、部件、区 域、层和/或部分，但是运些元件、部件、区域、层和/或部分不应该受运些术语的限制。运 些术语仅用来将一个元件、部件、区域、层或部分与另一个元件、部件、区域、层或部分区分 开。因此，下面讨论的第一元件、部件、区域、层或部分可W被称为第二元件、部件、区域、层 或部分，而不脱离示例实施例的教导。在图中，为了例示清楚，各种元件、层等的尺寸可能被 夸大。
[005引出于易于描述的目的，在本文中可使用诸如"之下"、"下方"、"下"、"上方"、"上"等 的空间相对术语来描述如图中所示的一个元件或特征相对于另一个元件或特征的关系。将 理解的是，除了图中描述的方位之外，空间相对术语意在包含设备在使用或操作中的不同 方位。例如，如果图中设备被翻转，被描述为在其它元件或特征"下方"或"之下"的元件将 于是被定向为在其它元件或特征的"上方"或"上"。因此，术语"下方"可W包括上方和下 方两种方位。设备可被另外定向（旋转90度或者在其它方位），本文使用的空间相对描述 符可W进行相应的解释。
[0056] 本文使用的术语仅用于描述特定的示例实施例的目的，并不旨在限制示例实施 例。如本文所用，单数形式的"一个"旨在也包括复数形式，除非上下文另有明确说明。将 进一步理解的是，当在本说明书中使用时，术语"包括"和/或"包含"表明存在所陈述的特 征、整体、步骤、操作、元件和/或部件，但不排除存在或添加一个或多个其它特征、整体、步 骤、操作、元件、部件和/或它们的组。
[0057] 在整个此说明书中，除非明确描述为相反，词语"包括"和"包含"W及变体将被理 解为暗示包括所陈述的元件，但不排除任何其他元件。如本文所用，单数形式的"一个"旨 在也包括复数形式，除非上下文另有明确说明。
[005引接下来，将参考附图描述根据本发明的示例性实施例的柔性显示基底和包括柔性 显示基底的柔性显示设备。
[0059] 图1是根据本发明的一个示例性实施例的柔性显示设备的分解透视图。
[0060] 参考图1，根据本示例性实施例的柔性显示设备10包括由窗基底800覆盖的显示 面板100和触摸屏面板750。柔性显示设备10可W被划分成用于显示图像的显示区和包括 驱动电路部分和/或框架的非显示区。触摸屏面板750在显示面板100上（例如，被附接 到其上），窗基底800在触摸屏面板750上（例如，被附接到其上），从而覆盖显示面板100 和触摸屏面板750。
[0061] 显示面板100包括排列成矩阵用于显示图像的多个像素，并且在本示例性实施例 中可W由有机发光面板制成。显示面板100包括具有柔性特性的柔性基底，使得它可W被 弯曲和/或是可弯曲的、可折叠的、可卷曲的和/或可拉伸的。
[0062] 下保护膜可W被提供在显示面板100的下方W保护显示面板100。下保护膜可W 由例如PI (聚酷亚胺）或PET (聚对苯二甲酸乙二醋）的柔性塑料膜制成。
[0063] 光学膜可W在显示面板100上（例如，被附着到其上），作为另一示例，光学膜可W 位于触摸屏面板750上。光学膜可W包括偏振膜和/或相差膜。偏振膜可W偏振入射到显 示面板的一侧的光和从显示面板反射的入射光的一部分，相差膜被设置为相比偏振膜更靠 近显示面板（例如，被设置在显示面板和偏振膜之间），W控制入射光和反射光的相位。
[0064] 触摸屏面板750在显示面板100上。当光学膜在显示面板100上时，触摸屏面板 750位于光学膜上，TSP粘合层610被插入在显示面板100与触摸屏面板750之间，使得触 摸屏面板750可W被附着到显示面板100。TSP粘合层610可W由光学透明的粘合剂（OCA) 制成，可W是胶带（例如，可具有胶带的形状），或者可W是被涂覆然后被硬化的粘合材料。
[0065] 触摸屏面板750可W感测来自外部的触摸输入的位置，并且因为窗基底800在触 摸屏面板750上（例如，被联接到其上），触摸屏面板750从而感测在窗基底800上的触摸 的位置。在本示例性实施例中，触摸屏面板750可W由被驱动为电容型（例如，触摸屏面板 750可W是电容型触摸屏面板）的面板制成；然而，本发明不限于此，触摸屏面板750可W 由被驱动为电阻膜型（例如，触摸屏面板750可W是电阻式触摸屏面板）、超声波型或红外 型等的面板制成。
[0066] 窗基底800被形成为具有比显示面板100和触摸屏面板750更大的面积，从而覆 盖显示面板100和触摸屏面板750。窗粘合层620被插入在触摸屏面板750和窗基底800 之间，从而将窗基底800附着到触摸屏面板750。窗粘合层620可W由光学透明的粘合剂 (OCA)制成，可W是胶带，或者可W是被涂覆然后被硬化的粘合材料。
[0067] 图2是图1所示的显示基底的一部分的放大透视图和局部放大主视图。
[0068] 参考图2,多个突出部分120和多个凹入部分130被形成在显示基底110的一个表 面处。突出部分120和凹入部分130被连接到弯曲表面125 (例如，弯曲表面125在相邻的 突出部分120和凹入部分130之间延伸），弯曲表面125从相邻的突出部分120的边界平滑 通向凹入部分130的中屯、（例如，向凹入部分130的中屯、延伸）。
[0069] 弯曲表面125被形成为在从突出部分120向凹入部分130的中屯、的方向上具有斜 度，该斜度被形成为从突出部分120的边界向凹入部分130的中屯、变化，并且该变化是平缓 的。
[0070] 当通过施加力F在左右方向（图2中的X轴方向）上伸展显示基底110时，被施 加到突出部分120的边界附近的表面和凹入部分130的中屯、的力可W和力F相同。然而， 因为弯曲表面125的斜度在突出部分120和弯曲表面125的边界附近相对较大（例如，睹 峭），力F在X轴方向上的分量Fx小于力F在y轴方向上的分量巧。此外，因为凹入部分 130的中屯、附近的斜度相对较小（例如，平缓），在凹入部分130的中屯、附近，力F在X轴方 向上的分量Fx大于力F在y轴方向上的分量巧。因此，平行于显示基底110的伸展方向 (图2中的X轴方向）作用的分量Fx在突出部分120的边界附近相对较小，平行于显示基 底110的伸展方向作用的分量Fx在凹入部分130的中屯、附近相对较大。因而，显示基底 110的伸展可W在突出部分120附近被减少或抑制，并且因为显示基底110在凹入部分130 中相对薄，显示基底110的伸展在凹入部分130处可W被增加或提高。
[0071] 图3是示出了形成在根据本发明的一个示例性实施例的柔性显示基底中的像素 和布线的连接关系的示意性主视图。
[0072] 参考图3,显示基底110包括形成在一个表面中的突出部分120和凹入部分130， 并包括从突出部分120的边界平滑通向相邻的凹入部分130的中屯、的弯曲表面125。像素 单元150被形成在至少一些突出部分120处，像素保护层155被形成为覆盖突出部分120 上的每一个像素单元150。覆盖突出部分120同时填充凹入部分130的平坦化层160被形 成在其上形成有像素单元150的突出部分120 W及凹入部分130上，W提供平坦的或基本 上平坦的表面，覆盖层165被进一步形成在平坦化层160上。
[0073] 第一布线410穿过像素单元150,在第一方向（图3中的X轴方向）上被伸长（例 如，延伸），并且被形成在凹入部分130中。第一布线410可W是被连接到形成在像素单元 150中的薄膜晶体管的栅电极的栅极线，并将相邻的像素单元150彼此连接。如图3所示， 第一布线410可W被形成为与弯曲表面125隔开（例如，与其分离）；然而，作为另一示例， 第一布线410可W被形成为沿弯曲表面125和凹入部分130被伸长。像素单元150可W包 括包含红（时、绿（G)和/或蓝度）子像素的发光器件，发光器件可W取决于（例如，根据） 薄膜晶体管的驱动选择性地发光。
[0074] 显示基底110可W由聚二甲基硅氧烷（PDM巧形成，W便是柔性的。覆盖突出部 分120上的像素单元150的像素保护层155可W由诸如聚酷亚胺（PI)的塑料材料形成， 并且可W具有保护像素单元150和将像素单元150固定到突出部分120的上表面的功能， W当显示基底110被伸展或伸长时不会伸展（例如，可W不被充分伸展）。平坦化层160 可W覆盖突出部分120同时填充凹入部分130,并且可W是其中固化剂的比例比在显示 基底110中更低的具有低模量（例如，低弹性模量）的销催化的娃酬材料，诸如PDMS或 E:坊姐紋?。Ecoflex?是德国路德维希港的己斯夫公司联合股份公司的注册商标，并描述 了可生物降解的未加工塑料。例如，当诸如PDMS的原材料和显示基底110的硬化剂的比例 为10:1时，平坦化层160可W具有20:1的比例。覆盖层165可W被形成为覆盖平坦化层 160,并且可W是能够自由地成形为任何适合形状的热塑性材料。第一布线410由可伸展材 料形成，使得它可在其伸长方向上伸展，并可WW随机图案（例如，W弯曲图案）折叠和展 开。
[0075] 图4是根据本发明的另一示例性实施例的柔性显示基底的主视图。
[0076] 参考图4,根据本示例性实施例的显示基底210的弯曲表面225具有其中在突出部 分220的边界处的斜度在远离凹入部分230的中屯、的方向上倾斜的一部分。例如，当假设 直线在突出部分220的边界处接触弯曲表面225时，该直线和突出部分220的上表面形成 小于90度的角度。此外，凹入部分230和弯曲表面225具有相同的曲率半径r，在突出部分 220的边界和凹入部分230的中屯、之间W曲率中屯、为参照测量的中屯、角0超过90度。
[0077] 当如上所述拉伸力F作用在显示基底210的左右方向上时，作用在突出部分220 的边界附近的表面上的力的方向可W和显示基底210的伸展方向相反，使得在突出部分 220中的伸展可W被进一步有效地减少或抑制。
[007引图5是根据本发明的另一示例性实施例的柔性显示基底的主视图。
[0079] 参考图5,形成在根据本示例性实施例的显示基底250中的凹入部分270在包括 凹入部分270的中屯、的部分（例如，跨过凹入部分270的中屯、延伸的部分）处具有平坦化 表面271 (例如平坦的或平的表面）。平坦化表面271在凹入部分270的最下部（例如，底 部），并被形成为平行于显示基底250的其中没有形成突出部分260的另一表面。通过控制 (例如，改变）平坦化表面271的宽度d，可W容易地控制其上形成有像素单元的相邻突出 部分260之间的距离。
[0080] 图6是根据本发明的另一示例性实施例的柔性显示基底的主视图。
[0081] 参考图6,根据本示例性实施例的显示基底280可包括具有不同高度的突出部分 290a和29化（例如，在显示基底280的底表面上方具有不同高度）。例如，彼此相邻的突出 部分290a和29化可W被形成为彼此不同，突出部分290a具有比突出部分29化更大的高 度。突出部分290a和29化可W被交替地设置（例如，交替地布置）。
[0082] 图7是根据本发明的另一示例性实施例的柔性显示基底的透视图，图8是示出了 形成在图7所示的柔性显示基底上的像素和布线的连接关系的示意性主视图。
[0083] 参考图7,根据本示例性实施例的显示基底310的突出部分320由形成在四个方向 上（例如，沿四个方向延伸）的凹入部分330包围（例如，突出部分320的周界被凹入部分 330包围）。例如，每个突出部分320独立地形成，并且W矩阵被布置在两个方向上，凹入部 分330被分别形成在突出部分320中的相邻突出部分之间。
[0084] 参考图8,像素单元150可W被分别设置在每个突出部分320上，像素单元150可 被连接到在第一方向（图8中的X轴方向）上伸长的第一布线410和在第二方向（图8中 的Z轴方向）上伸长的第二布线420。在一个实施例中，第一布线410可W是被连接到形成 在像素单元中的薄膜晶体管的栅电极的栅极线，第二布线420可W是被连接到薄膜晶体管 的源电极的数据线。
[0085] 图9是根据本发明的另一示例性实施例的柔性显示基底的俯视平面图。
[0086] 根据本示例性实施例的显示基底510被划分成多个区域，多个区域中的至少两个 区域可W被形成为具有不同的突出部分和凹入部分。例如，如图9所示，显示基底510在 纵向方向上被划分成多个区域510a和510b，并可W包括包含显示基底510的中屯、（例如， 跨过该中屯、延伸）的第一区域510a和包含显示基底510的边缘（例如，延伸到该边缘上） 的第二区域51化。具有不同特征的突出部分和凹入部分可W被形成在划分开的第一区域 510a和第二区域51化中（例如，分别形成在第一区域510a和第二区域51化中的突出部分 和凹入部分可W具有不同的特征）。
[0087] 例如，形成在第一区域510a中的突出部分的高度可W小于形成在第二区域51化 中的突出部分的高度，平坦化部分可W被形成在形成于第一区域510a中的凹入部分中。如 上所述，通过依据区域将突出部分和凹入部分的特征区分开，每个区域可W具有不同的弹 性模量（例如，可W被伸展到不同的程度）。
[008引图10是根据本发明的另一示例性实施例的柔性显示基底的俯视平面图。
[0089] 参考图10,根据本示例性实施例的显示基底520由包括显示基底520的中屯、的封 闭曲线划分开。显示基底520可W包括包含显示基底520的中屯、的第一区域520a和围绕 (例如，包围）第一区域520a并包含显示基底520的边缘的第二区域52化。分别形成在划 分开的第一区域520a和第二区域52化中的突出部分和凹入部分可W具有彼此不同的特 征。
[0090] 例如，形成在第一区域520a中的突出部分的高度可W小于形成在第二区域52化 中的突出部分的高度，平坦化部分可W被形成在形成于第一区域520a中的凹入部分中。如 上所述，通过依据区域将突出部分和凹入部分的特征区分开，每个区域可W具有不同的弹 性模量（例如，可W被伸展到不同的程度）。
[0091] 图11是示出了根据本发明的一个示例性实施例的制造柔性显示基底的方法的流 程图。
[0092] 首先，提供具有用于突出部分和凹入部分的形状联接表面的冲压模具M(例如，冲 压模）。因为根据本示例性实施例的显示基底包括形成在其一个表面中的多个突出部分和 多个凹入部分，W及从突出部分朝凹入部分的中屯、平滑延伸的弯曲表面，冲压模具M的形 状联接表面可W具有下述结构，该结构包括具有与形状联接表面相对的形状的突起和凹陷 部（例如，冲压模具M的表面可W和将要形成在其上的显示基底的所需表面相反）。
[0093] 冲压模具M可通过诸如研磨的机械工艺来制造。例如，包括突出部分和凹入部分 的形状联接表面可W通过机械工艺进行处理。
[0094] 接着，PDMS (聚二甲基硅氧烷）被涂覆在冲压模具M上并在其上硬化，W形成PDMS 基底。
[0095] 接着，将硬化的PDMS基底从冲压模具M分离。
[0096] 因此，分罔的PDMS基底可W是用于包含在显不设备中的显不基底30。所制造的显 示基底30被形成为在其一个表面上具有多个突出部分和凹入部分，并且包括从突出部分 平滑通向凹入部分的中屯、的弯曲表面。
[0097] 图12是示出了根据本发明的另一示例性实施例的制造柔性显示基底的方法的流 程图。
[0098] 首先，提供具有用于突出部分和凹入部分的形状联接表面的冲压模具M。在此实施 例中，冲压模具M可W通过W下工艺来制备。
[0099] 例如，光致抗蚀剂层PR被涂覆在底部基底B上。光致抗蚀剂层PR可W被形成为 在底部基底B的整个表面上具有均匀的厚度。
[0100] 接下来，光致抗蚀剂层PR被图案化，W除去与突出部分对应的部分。除去的部分 对应于后面将要制造的显示基底30的突出部分。
[OW] 接下来，图案化的光致抗蚀剂层PR被回流和硬化。例如，图案化的光致抗蚀剂层 PR的剩余部分通过回流工艺被变形为凸状和圆形形状，当进行硬化工艺时，形成与在本文 中已经描述的显示基底30的突出部分和凹入部分相对的突起和凹陷。
[0102] PDMS通过使用如上所述制造的冲压模具被涂覆在冲压模具上并在其上硬化，W形 成PDMS基底，硬化的PDMS基底从冲压模具分离，W制造显示基底30。
[0103] 尽管已经结合目前被认为实用的示例性实施例描述了此公开，但是应该理解的 是，本发明不限于所公开的实施例，而是意在覆盖包括在所附权利要求及其等同方案的精 神和范围内的各种修改和等同布置。
[0104] 对一些附图标记的描述
[0105] 10 :柔性显示设备 100 :显示面板
[010引 110、210、250、280 :显示基底 120、220、260 :突出部分
[0107] 125、225:弯曲表面 130、230、270 :凹入部分
[0108] 150 :像素单元 155 :保护像素层
[0109] 160 :平坦化层 165 :覆盖层
[0110] 271 :平坦化表面
【主权项】
1. 一种柔性显示设备，包括： 显示基底，该显示基底包括在其一个表面处的多个突出部分和多个凹入部分，以及 分别在所述多个突出部分的一些之间朝所述凹入部分中的相邻一个的中心延伸的弯曲表 面； 被配置为在所述显示基底上发光的像素单元； 被联接到所述像素单元并在第一方向上伸长的第一布线；和 在与所述第一方向相交的第二方向上伸长的第二布线。2. 根据权利要求1所述的柔性显示设备，其中所述弯曲表面中的每一个的斜度从所述 突出部分朝所述凹入部分的中心变化。3. 根据权利要求2所述的柔性显示设备，其中所述弯曲表面中的每一个的所述斜度的 变化从所述突出部分朝所述凹入部分的所述中心是平缓的。4. 根据权利要求1所述的柔性显示设备，其中所述像素单元位于所述显示基底的所述 突出部分中的至少一些上。5. 根据权利要求4所述的柔性显示设备，进一步包括： 在所述像素单元上的像素保护层。6. 根据权利要求1所述的柔性显示设备，其中所述第一布线是连接到所述像素单元的 薄膜晶体管的栅电极的栅极线。7. 根据权利要求1所述的柔性显示设备，其中所述第一布线沿所述凹入部分中的一个 和所述弯曲表面中的一个伸长。8. 根据权利要求1所述的柔性显示设备，其中所述第一布线与所述弯曲表面中的一个 隔开。9. 根据权利要求1所述的柔性显示设备，其中所述弯曲表面中的每一个的一部分具有 斜度，该斜度在远离相应的凹入部分中的一个的中心的方向上倾斜。10. 根据权利要求1所述的柔性显示设备，其中所述凹入部分中的至少一个的中心具 有平坦表面。11. 根据权利要求1所述的柔性显示设备，其中所述多个突出部分中的一些具有与所 述多个突出部分中的另一些不同的高度。12. 根据权利要求1所述的柔性显示设备，其中所述显示基底的所述多个突出部分形 成在两个方向上延伸的所述凹入部分。13. 根据权利要求1所述的柔性显示设备，其中所述显示基底具有多个区域，并且 其中在所述多个区域的一个区域中的多个突出部分中的一些突出部分具有与所述多 个区域的另一个区域中的多个突出部分中的一些突出部分不同的特征。14. 根据权利要求13所述的柔性显示设备，其中所述多个区域沿纵向方向排列。15. 根据权利要求13所述的柔性显示设备，其中所述多个区域包括跨过所述显示基底 的中心延伸的第一区域和延伸到所述显示基底的边缘的第二区域。16. -种柔性显示基底，包括： 在所述柔性显示基底的一个表面中的多个突出部分和多个凹入部分，以及分别从所述 多个突出部分的边界朝所述多个凹入部分中的相邻一个的中心延伸的弯曲表面。17. 根据权利要求16所述的柔性显示基底，其中所述弯曲表面中的每一个具有斜度， 该斜度在从所述突出部分的一个的边界朝所述凹入部分的相应一个的所述中心的方向上 变化。18. 根据权利要求17所述的柔性显示基底，其中所述斜度的变化是平缓的。19. 根据权利要求17所述的柔性显示基底，其中在所述弯曲表面中的每一个的一部分 处的所述斜度在远离所述凹入部分中的所述相应一个的所述中心的方向上倾斜。20. 根据权利要求16所述的柔性显示基底，其中所述凹入部分中的至少一个的中心是 平坦的。21. 根据权利要求16所述的柔性显示基底，其中所述多个突出部分中的一些具有彼此 不同的高度。22. 根据权利要求16所述的柔性显示基底，其中所述多个突出部分通过所述多个凹入 部分在两个方向上延伸而形成。23. 根据权利要求16所述的柔性显示基底，其中所述柔性显示基底具有多个区域，并 且 其中所述多个区域中的至少两个区域分别包括具有不同特征的所述多个突出部分中 的一些和所述多个凹入部分中的一些。24. 根据权利要求23所述的柔性显示基底，其中所述多个区域在纵向方向上延伸，并 包括跨过所述柔性显示基底的中心延伸的第一区域和延伸到所述柔性显示基底的边缘的 第二区域。25. 根据权利要求23所述的柔性显示基底，其中所述多个区域包括跨过所述柔性显示 基底的中心延伸的第一区域和延伸到所述柔性显示基底的边缘的第二区域。26. -种制造显示基底的方法，所述显示基底包括在其一个表面中的多个突出部分和 多个凹入部分，以及分别在所述多个突出部分的一些与所述凹入部分中的相邻一些的中心 之间延伸的弯曲表面，该方法包括： 提供冲压模具，该冲压模具具有被形状联接到所述多个突出部分和所述多个凹入部分 的表面； 在所述冲压模具上涂覆和硬化聚二甲基硅氧烷，以形成聚二甲基硅氧烷基底；和 从所述冲压模具分离硬化的聚二甲基硅氧烷基底。27. 根据权利要求26所述的方法，其中提供所述冲压模具包括由机械工艺加工所述形 状联接的表面。28. 根据权利要求26所述的方法，进一步包括： 在提供所述冲压模具期间，在底部基底上涂覆光致抗蚀剂层； 图案化所述光致抗蚀剂层，以除去与所述多个突出部分对应的部分；和 回流并硬化图案化的光致抗蚀剂层。
【文档编号】H01L27/32GK105845702SQ201510846482
【公开日】2016年8月10日
【申请日】2015年11月27日
【发明人】俞炳汉
【申请人】三星显示有限公司