壳体及制备方法、电子设备与流程

本申请涉及电子设备技术领域，具体地，涉及壳体及制备方法、电子设备。

背景技术：

随着电子设备制造技术的发展，人们对电子设备外观的要求也越来越高。目前，为了提高电子设备的外观效果，将电子设备的壳体做成雾面和光面共存的效果，使得电子设备的外观效果得到显著提升。

然而，目前的壳体及制备方法、电子设备仍有待改进。

申请内容

本申请是基于发明人对于以下事实和问题的发现和认识作出的：

目前，具有雾面和光面共存效果的壳体存在手感较差的问题，且外观效果有待提升。发明人发现，这主要是由于目前壳体外表面的结构不够优化导致的。本领域技术人员能够理解的是，采用蒙砂处理对玻璃壳体的外表面进行刻蚀，可使玻璃壳体实现雾面效果。发明人发现，目前在制作具有雾面和光面共存效果的壳体时，仅是简单的使用保护油墨对玻璃壳体的某个区域(实现光面效果的区域)进行保护，在进行蒙砂处理时，玻璃壳体外表面未印刷保护油墨的区域会被蒙砂液刻蚀，以在该区域形成凹坑，而玻璃壳体外表面印刷保护油墨的区域，由于被保护油墨覆盖，因此不会被刻蚀，使得玻璃壳体获得雾面和光面共存的效果。然而，上述玻璃壳体存在以下缺陷：一、蒙砂处理时刻蚀的深度在0.08mm左右，从而在光面和雾面之间会形成0.08mm的高度差，用户在使用时会有刮手的感觉，影响手感。二、壳体的某个区域为光面，剩余区域均为雾面，使得雾面和光面直接过渡，导致视觉上没有渐变过渡的美感，影响外观效果。

本申请旨在至少一定程度上缓解或解决上述提及问题中至少一个。

在本申请的一个方面，本申请提出了一种壳体。该壳体包括：玻璃基体，所述玻璃基体包括主体，所述主体的外表面具有凹陷部以及平面部，所述平面部由交错排布的多个第一条形部和多个第二条形部构成，所述凹陷部位于所述平面部以外的区域，其中，多个所述第一条形部平行排列，多个所述第二条形部平行排列，所述第一条形部的宽度沿其延伸方向逐渐增大，所述第二条形部的宽度沿其延伸方向逐渐增大。由此，该壳体具有雾面和光面渐变的外观效果，同时具有良好的手感。

在本申请的另一方面，本申请提出了一种制备壳体的方法。该方法包括：制备玻璃基体粗坯，所述玻璃基体粗坯包括主体；在所述玻璃基体粗坯外表面的预定区域以及整个内表面印刷保护油墨，形成油墨层，所述主体的外表面具有所述预定区域，所述预定区域为由交错排布的多个第一条形部和多个第二条形部构成的图形，多个所述第一条形部平行排列，多个所述第二条形部平行排列，所述第一条形部的宽度沿其延伸方向逐渐增大，所述第二条形部的宽度沿其延伸方向逐渐增大；对设置有所述油墨层的所述玻璃基体粗坯进行蒙砂处理，以在所述预定区域以外的部分形成凹陷部，进而形成玻璃基体。由此，利用简单的方法即可获得具有雾面和光面渐变效果，同时具有良好手感的壳体。

在本申请的另一方面，本申请提出了一种电子设备。该电子设备包括：壳体，所述壳体为前面所述的；主板以及显示屏，所述主板和所述显示屏设置在所述壳体的内侧，且所述主板设置在所述壳体和所述显示屏之间。由此，该电子设备具有前面所述的壳体的全部特征以及优点，在此不再赘述。总的来说，该电子设备具有雾面和光面渐变的外观效果，同时具有良好的手感。

附图说明

本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对示例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1显示了根据本申请一个示例的壳体的结构示意图；

图2显示了根据本申请另一个示例的壳体的结构示意图；

图3显示了根据本申请一个示例的第一条形部和第二条形部的结构示意图；

图4显示了根据本申请一个示例的壳体的结构示意图；

图5显示了根据本申请一个示例的制备壳体方法的流程示意图；

图6显示了根据本申请一个示例的硅胶胶头的结构示意图；

图7显示了根据本申请一个示例的电子设备的结构示意图。

附图标记说明：

100：玻璃基体；110：主体；120：侧壁；10：凹陷部；20：平面部；21：第一条形部；22：第二条形部；1：第一边；2：第二边；3：第三边；4：第四边；200：装饰膜片；300：硅胶胶头；1000：壳体。

具体实施方式

下面详细描述本申请的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。

在本申请的一个方面，本申请提出了一种壳体。在本申请的一些示例中，参考图1，该壳体包括：玻璃基体100，玻璃基体100包括主体110，主体110的外表面具有凹陷部10以及平面部20，平面部20由交错排布的多个第一条形部21和多个第二条形部22构成，凹陷部10位于平面部20以外的区域(参考图2)，其中，多个第一条形部21平行排列，多个第二条形部22平行排列，第一条形部21的宽度沿其延伸方向逐渐增大，第二条形部22的宽度沿其延伸方向逐渐增大。由此，该壳体具有雾面和光面渐变的外观效果，同时具有良好的手感。

为了便于理解，下面首先对本申请壳体实现雾面和光面渐变效果，同时提升手感的原理进行简单说明：

本申请的玻璃基体外表面具有平面部和凹陷部，通过对平面部和凹陷部进行设计，具体的，平面部由交错排布的多个第一条形部和多个第二条形部构成，多个第一条形部平行排列，多个第二条形部平行排列，第一条形部的宽度沿其延伸方向逐渐增大，第二条形部的宽度沿其延伸方向逐渐增大，且凹陷部位于平面部以外的区域，使得平面部和凹陷部实现渐变过渡，即实现光面和雾面的渐变过渡，使壳体获得雾面和光面渐变的外观效果，同时由于平面部和凹陷部逐渐过渡，可有效缓解刮手的问题，提升壳体的手感。

下面根据本申请的具体示例，对该壳体的各个结构进行详细说明：

在本申请的一些示例中，凹陷部10可以是通过对玻璃基体进行蒙砂处理形成的，凹陷部10的透光度小于平面部20的透光度，壳体在凹陷部区域呈现雾面效果，在平面部区域呈现光面效果，由此，可以使壳体呈现雾面和光面渐变的外观效果。

在本申请的一些示例中，参考图1，玻璃基体100进一步包括侧壁120，侧壁120与主体110相连，侧壁120的外表面具有凹陷部10以及平面部20，且侧壁120外表面上的平面部20可以是主体110上的平面部20延伸至侧壁110上的部分，此处不再赘述。由此，可以使壳体的侧壁处也获得雾面和光面渐变的外观效果，进一步美化壳体的外观。

需要特别说明的是，本申请的平面部20应作广义理解，其不单指平面的部分，本申请的平面部20是指主体外表面除去凹陷部10以外的区域，以及侧壁外表面除去凹陷部10以外的区域，也即是说，主体处的平面部20具有与主体相同的弧度，侧壁处的平面部20具有与侧壁相同的弧度。

在本申请的一些示例中，参考图3，第一条形部21由第一边1和第二边2构成，第一边1和第二边2之间的夹角(如图3中所示出的β)可以为1-60度，如5度、10度、15度、20度、25度、30度、35度、40度、45度、50度、55度、60度，由此，可以实现第一条形部的宽度沿其延伸方向逐渐增大。

第二条形部22由第三边3和第四边4构成，第三边3和第四边4之间的夹角(如图3中所示出的γ)可以为1-60度，如5度、10度、15度、20度、25度、30度、35度、40度、45度、50度、55度、60度，由此，可以实现第二条形部的宽度沿其延伸方向逐渐增大。

在本申请的一些示例中，第一条形部21的渐变角度β(即第一边和第二边之间的夹角)，与第二条形部22的渐变角度γ(即第三边和第四边之间的夹角)可以相等。由此，可以进一步优化雾面和光面渐变的效果。

在本申请的一些示例中，第一条形部21的延伸方向与第二条形部22的延伸方向之间的夹角(如图3中所示出的)可以为1-90度，如10度、20度、30度、40度、50度、60度、70度、80度、90度。由此，第一条形部和第二条形部可以实现交错排布，多个第一条形部和多个第二条形部围成的区域为凹陷部(参考图2)，且第一条形部和第二条形部的宽度分别沿其延伸方向逐渐增大，从而可实现凹陷部和平面部的逐渐过渡，使得壳体获得雾面和光面渐变的效果，同时提升壳体的手感。

在本申请的一些示例中，由于第一条形部21的宽度和第二条形部22的宽度分别沿各自延伸的方向逐渐增大，由此，由第一条形部和第二条形部围成的凹陷部的横截面面积也呈一定的规律渐变，具体的，凹陷部的横截面面积，分别沿第一条形部和第二条形部的延伸方向逐渐减小(参考图2)，由此，可以使该壳体呈现多种渐变效果，且光面和雾面相互配合，进一步丰富该壳体的外观效果。

在本申请的一些示例中，多个第一条形部21平行排列，由此，多个第一条形部中的第一边分别平行，且多个第一条形部中的第二边也分别平行。参考图3，在相邻两个第一条形部21中，相对应的边之间的距离(如图中所示出的d1)可以为0.001-10mm，如0.5mm、1mm、2mm、3mm、4mm、5mm、6mm、7mm、8mm、9mm、10mm。具体的，相邻两个第一条形部21中，两个第一边1之间的距离，以及两个第二边2之间的距离分别为0.001-10mm。由此，可以使多个第一条形部并排排列。

类似的，多个第二条形部22平行排列，由此，多个第二条形部中的第三边分别平行，且多个第二条形部中的第四边也分别平行。参考图3，在相邻两个第二条形部22中，相对应的边之间的距离(如图中所示出的d2)可以为0.001-10mm，如0.5mm、1mm、2mm、3mm、4mm、5mm、6mm、7mm、8mm、9mm、10mm。具体的，相邻两个第二条形部22中，两个第三边3之间的距离，以及两个第四边4之间的距离分别为0.001-10mm。由此，可以使多个第二条形部并排排列，多个并排排列的第一条形部和多个并排排列的第二条形部之间分别具有夹角从而可以限定出凹陷部。

在本申请的一些示例中，相邻两个第一条形部21中相对应边之间的距离d1，与相邻两个第二条形部22中相对应边之间的距离d2可以相等。由此，可以进一步优化该壳体的渐变效果。

关于凹陷部和平面部渐变的具体形式不受特别限制，例如，凹陷部和平面部呈上下渐变，使得壳体获得雾面和光面呈上下渐变的效果，或者，凹陷部和平面部呈左右渐变，使得壳体获得雾面和光面呈左右渐变的效果，或者，凹陷部和平面部呈对角渐变，使得壳体获得雾面和光面呈对角渐变的效果，或者，凹陷部和平面部呈中心和四周渐变，使得壳体获得雾面和光面呈中心和四周渐变的效果。

在本申请的一些示例中，参考图1，侧壁120与主体110所在平面之间的折弯角(如图1中所示出的α)可以大于70度，如90度、100度、120度。由此，该玻璃基体具有较大的弧度，且该玻璃基体为一体式结构，可以省去额外设置的中框等结构，具有良好的质感。

需要说明的是，本申请中的术语“折弯角”，特指侧壁与主体之间的夹角(如图1中所示出的α)，具体地，为侧壁和主体所在平面之间的夹角。在本申请的一些示例中，玻璃基体100的主体110可以为平面，或者还可以为弧面。当主体110整体为弧面时，主体所在平面为主体110凸起最高点处切线所在的平面。侧壁120也可以为平面或为弧面，当侧壁120的外表面为弧面时，侧壁120外表面上任一点处的切线与主体110所在平面之间的夹角中的最大值为该侧壁处的折弯角(如图1中所示出的α)。

在本申请的一些示例中，玻璃基体100可具有4个侧壁120，4个侧壁120和主体110之间的折弯角可以全部相等，也可以不全部相等。例如，4个侧壁中，相对设置的两个侧壁与主体之间的折弯角可以相等，相邻的两个侧壁与主体之间的折弯角可以不相等。玻璃基体4个侧壁的折弯角均大于70度，由此，该玻璃基体为大弧度曲面玻璃，且该玻璃基体为一体式结构，可以省去额外设置的中框等结构，具有良好的质感。

或者，在本申请的另一些示例中，玻璃基体100可以具有2个侧壁120，两个侧壁120相对设置(如在玻璃基体的长边侧)，2个侧壁120与主体110之间的折弯角均大于70度。

或者，在本申请的另一些示例中，侧壁120处的折弯角还可以不大于70度，也即是说，玻璃基体为小弧度曲面玻璃，同样可以使小弧度曲面玻璃获得雾面和光面渐变的外观效果，且可以提升手感。优选的，本申请侧壁120处的折弯角大于70度。

在本申请的一些示例中，参考图4，该壳体还可以包括：装饰膜片200，装饰膜片200设置在玻璃基体100的内表面。由此，可以进一步丰富壳体的外观效果。例如，装饰膜片200可以包括依次层叠设置的uv胶层、颜色层、镀膜层以及盖底油墨层，uv胶层靠近玻璃基体100设置，由此，在壳体呈现雾面和光面渐变效果的基础上，使壳体呈现颜色效果以及金属色泽。

综上，本申请的壳体缓解了光面和雾面直接过渡刮手的问题，实现了光面和雾面手感的均匀过渡，同时缓解了光面和雾面在视觉上直接过渡不美观的问题，实现了光面和雾面渐变过渡，壳体更加美观。

在本申请的另一方面，本申请提出了一种制备壳体的方法。在本申请的一些示例中，由该方法制备的壳体可以为前面所描述的壳体，由此，由该方法制备的壳体可以具有与前面所描述的壳体相同的特征以及优点，在此不再赘述。

在本申请的一些示例中，参考图5，该方法包括：

s100：制备玻璃基体粗坯

在该步骤中，制备玻璃基体粗坯。在本申请的一些示例中，玻璃基体粗坯包括主体。

在本申请的一些示例中，玻璃基体粗坯进一步包括侧壁，侧壁与主体相连。关于侧壁处的折弯角以及侧壁的个数，前面已经进行了详细描述，在此不再赘述。

在本申请的一些示例中，制备玻璃基体粗坯可以包括：对平面玻璃进行热弯处理，以形成具有主体和侧壁的玻璃基体粗坯，其中，热弯处理的温度可以为700-780℃，如700℃、720℃、740℃、760℃、780℃，热弯处理的时间可以为270-480s，如270s、300s、330s、350s、380s、400s、430s、450s、480s。由此，可形成具有较大折弯角(大于70度)的玻璃基体粗坯。

下面对玻璃基体粗坯的具体制备过程进行详细描述：

首先，选取平面玻璃为原材料，通过切削(cnc加工)将平面玻璃加工成所需要的尺寸，并在平面玻璃四周单边预留0.05-0.1mm的余量，以便后续抛光去除切削造成的微裂纹。发明人发现，目前在制备具有主体以及侧壁的玻璃基体粗坯时，通常采用曲面玻璃作为原材料，本申请选取平面玻璃作为原材料，相较于曲面玻璃，平面玻璃在切削过程中更容易定位，破损率更低，可有效提高生产良率。

随后，对经切削后的平面玻璃进行抛光，以将平面玻璃边缘处的微裂纹抛除掉，平面玻璃单边被抛除的厚度为0.05-0.1mm。该工序中使用的抛光液可以是由抛光粉(氧化铈含量不小于70％)和水配制成的溶液。

随后，将抛光后的平面玻璃热弯形成具有主体和侧壁的玻璃基板粗坯，热弯的温度可以为700-780℃，热弯的时间可以为270-480s。

最后，对玻璃基体粗坯进行抛光并清洗，以去除热弯造成的橘纹、压痕、凹凸等缺陷，玻璃基体粗坯内外两面各抛除0.01-0.02mm的厚度。该工序中使用的抛光液可以是由抛光粉(氧化铈含量不小于70％)和水配制成的溶液。

s200：在玻璃基体粗坯外表面的预定区域以及整个内表面印刷保护油墨，形成油墨层

在该步骤中，在玻璃基体粗坯外表面的预定区域以及整个内表面印刷保护油墨，形成油墨层。在本申请的一些示例中，主体的外表面和侧壁的外表面均具有预定区域，预定区域为由交错排布的多个第一条形部和多个第二条形部构成的图形，多个第一条形部平行排列，多个第二条形部平行排列，第一条形部的宽度沿其延伸方向逐渐增大，第二条形部的宽度沿其延伸方向逐渐增大。在预定区域印刷保护油墨，也即是说，位于玻璃基体粗坯外表面的油墨层，覆盖第一条形部和第二条形部，该油墨层具有与第一条形部和第二条形部相同的形状和分布，从而在后续蒙砂处理时，该油墨层覆盖的区域不被刻蚀，最终形成玻璃基体的平面部。关于第一条形部和第二条形部的具体结构和排布，前面已经进行了详细描述，在此不再赘述。

在本申请的一些示例中，玻璃基体粗坯的折弯角大于70度，发明人发现，针对折弯角大于70度的玻璃基体粗坯，由于折弯角较大，若将保护油墨丝印在预定区域，会导致侧壁处的预定区域不能完全被保护油墨覆盖的问题，进而在后续蒙砂处理时，侧壁处未被保护油墨覆盖的预定区域会被刻蚀，进而影响最终的外观效果。

在本申请的一些示例中，针对折弯角大于70度的玻璃基体粗坯，在其外表面的预定区域形成油墨层可以包括：首先，在用于形成该油墨层的模具中刮涂保护油墨，随后，利用硅胶胶头垂直按压上述模具，以粘取保护油墨，该硅胶胶头具有弧形表面，最后，将粘取有保护油墨的硅胶胶头垂直按压在玻璃基体粗坯的外表面上，以将保护油墨转移至玻璃基体粗坯的主体和侧壁上，并进行烘烤处理，以获得位于玻璃基体粗坯外表面的油墨层。由此，对于折弯角大于70度的玻璃基体粗坯，利用上述方法可有效的在主体的预定区域处以及侧壁的预定区域处形成保护油墨，保证侧壁处的预定区域也完全被保护油墨覆盖，在后续蒙砂处理时，可以保证预定区域均不被刻蚀。

在本申请的一些示例中，上述过程中用到的模具具有油墨层(位于玻璃基体粗坯外表面的油墨层)的图案，由此，在该模具中刮涂保护油墨后，可以形成具有上述图案的油墨层。在本申请的一些示例中，该模具的材质可以为钢材，模具中的图案可以是通过激光刻蚀的方式形成的。

在本申请的一些示例中，参考图6，转印过程中使用的硅胶胶头300具有弧形表面，具体的，硅胶胶头300包括主体以及位于主体边缘的侧壁，硅胶胶头300的折弯角是指侧壁任一点处的切线与主体所在平面之间的夹角(如图中所示出的θ)，由于该硅胶胶头为软质胶头，由此，在利用该硅胶胶头按压模具时，硅胶胶头可以发生变形，使得保护油墨能够全部被粘取到硅胶胶头上，且在按压结束后，硅胶胶头可以恢复原来的形状，由此，在硅胶胶头的主体以及侧壁处均粘有保护油墨。

在本申请的一些示例中，参考图6，硅胶胶头300的折弯角小于玻璃基体粗坯100’的折弯角，且硅胶胶头300的折弯角θ比玻璃基体粗坯100’的折弯角α小5-15度，如θ比α小5度、10度、15度，硅胶胶头300的折弯角θ为其侧壁与其主体之间夹角中的最大夹角。由此，可在硅胶胶头和玻璃基体粗坯之间形成有效的避空区，将粘有保护油墨的硅胶胶头按压玻璃基体粗坯外表面时，在上述避空区内的硅胶胶头会发生变形，以使硅胶胶头侧壁处的保护油墨紧密贴合到玻璃基体粗坯侧壁的外表面上，从而使得侧壁处的预定区域能够完全被保护油墨覆盖，且在按压结束后，硅胶胶头恢复原来的形状，实现其与保护油墨的分离，该方法操作简便，生产良率较高。

在本申请的一些示例中，硅胶胶头将保护油墨按压到玻璃基体粗坯的外表面上之后，还需进行烘烤处理，以在玻璃基体粗坯外表面上形成稳定的油墨层，烘烤处理的温度可以为150℃，烘烤处理的时间可以为30min。

该步骤中，玻璃基体粗坯的整个内表面也印刷保护油墨，在后续蒙砂处理时，可防止玻璃基体粗坯的内表面被刻蚀，保证最终壳体雾面和光面渐变效果的实现。针对折弯角大于70度的玻璃基体粗坯，可以利用硅胶胶头将保护油墨转印到玻璃基体粗坯的整个内表面处，此时硅胶胶头的折弯角比玻璃基体粗坯的折弯角大5-15度，由此，可在硅胶胶头和玻璃基体粗坯之间形成有效的避空区，将粘有保护油墨的硅胶胶头按压玻璃基体粗坯内表面时，在上述避空区内的硅胶胶头会发生变形，以使硅胶胶头侧壁处的保护油墨紧密贴合到玻璃基体粗坯侧壁的内表面上，以保证玻璃基体粗坯侧壁的内表面也完全被保护油墨覆盖。

s300：对设置有油墨层的玻璃基体粗坯进行蒙砂处理，以在预定区域以外的部分形成凹陷部，形成玻璃基体

在该步骤中，对设置有油墨层的玻璃基体粗坯进行蒙砂处理，以在预定区域以外的部分形成大小形状相似的非透明的凹陷部，形成玻璃基体。在本申请的一些示例中，蒙砂处理的温度可以为28-32℃，如28℃、29℃、30℃、31℃、32℃，蒙砂处理的时间可以为60-120s，如60s、70s、80s、90s、100s、110s、120s。发明人发现，当蒙砂处理的时间大于上述范围时，凹陷部较深，手感较为粗糙，当蒙砂处理的时间小于上述范围时，凹陷部较浅，雾面效果不明显。本申请将蒙砂处理的条件设置在上述范围内，可获得手感较细腻且雾面效果较好的壳体。

该步骤中所使用的蒙砂液可以选用蒙砂处理常用的溶液，例如，蒙砂液可以包括40.5wt％的氢氟酸，26.5wt％的氟化铵，3.6wt％的硫酸以及29.4wt％的水。

在本申请的一些示例中，在蒙砂处理之后，该方法还包括：首先，对经蒙砂处理的玻璃基体粗坯进行超声波清洗，以清洗掉玻璃基体粗坯表面残留的废渣，随后，采用退墨剂除去覆盖在玻璃基体粗坯上的油墨层并进行清洗，随后，对玻璃基体粗坯具有凹陷部的区域进行抛光，将凹陷部处理透亮，达到漫反射效果，最后，对抛光后的玻璃基体粗坯进行超声波清洗，以清洗掉玻璃基体粗坯表面的残留物，获得光面和雾面渐变效果的玻璃基体。该工序中抛光的时间可以为20-30min，抛光所使用的抛光液可以包括氢氟酸、硫酸以及水，三者的体积比可以为1：(1.61-2)：(2.74-3)，硫酸的浓度可以为10.62-11.28mol/l，氢氟酸的浓度可以为6.15-7.6mol/l。

在本申请的一些示例中，在制备好玻璃基体后，还可以在玻璃基体的内侧形成装饰膜片，以进一步提高壳体的外观效果。关于装饰膜片的结构前面已经进行了详细描述，在此不再赘述。关于装饰膜片的制备方法不受特别限制，本领域技术人员可以根据装饰膜片的常用制备方法进行设计。

在本申请的另一方面，本申请提出了一种电子设备。在本申请的一些示例中，参考图7，该电子设备包括：壳体1000、主板以及显示屏(图中未示出)，壳体1000为前面所描述的壳体，主板和显示屏设置在壳体1000的内侧，且主板设置在壳体1000和显示屏之间。由此，该电子设备具有雾面和光面渐变的外观效果，同时具有良好的手感。

在本申请的一些示例中，该电子设备可以为移动或便携式并执行无线通信的各种类型的计算机系统设备中的任何一种。具体的，电子设备可以为移动电话或智能电话、便携式游戏设备、膝上型电脑、个人数字助理、便携式互联网设备、音乐播放器以及数据存储设备，其他手持设备以及诸如手表等。由此，可以使上述电子设备具有雾面和光面渐变的外观效果，同时具有良好的手感。

需要说明的是，本申请中的术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”仅用于描述目的，具体的，便于直观的描述第一条形部和第二条形部，以及构成第一条形部的第一边和第二边，以及构成第二条形部的第三边和第四边，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。

尽管上面已经示出和描述了本申请的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本申请的限制，本领域的普通技术人员在本申请的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。