显示基板、显示基板制备方法及显示屏与流程

本技术涉及显示，尤其涉及一种显示基板、显示基板制备方法及显示屏。

背景技术：

1、随着显示技术的不断发展，显示屏的应用越来越广泛。一些情况下，手机或平板电脑等具备显示功能的电子设备的用户，希望将显示屏上资讯与旁人分享，但是在一些情况下，用户又希望能有隐私性，比如用户在处理公司机密资料时，又比如手机在输入个人资料时，希望能够减少资料被其他人看到的风险，所以显示的分享与隐私切换逐渐形成功能趋势。

2、相关技术中，为了实现显示屏防窥与共享的可切换，将整个像素区域分为防窥像素区及正常像素区，正常像素区的出射光角度较大(与显示屏垂直方向上的角度)，显示屏侧面及正面均可以观测到出射光，防窥像素区的出射光角度很小，仅有显示屏正面能观测到出射光。当防窥模式时，仅点亮防窥像素区中的像素，显示屏侧面无法观测到出射光，从而实现防窥功能。然而如何实现防窥像素区的小角度出射光，成为亟待解决的问题。

技术实现思路

1、本技术实施例的目的在于提供一种显示基板、显示基板制备方法及显示屏，以实现像素区的小角度出射光。具体技术方案如下：

2、第一方面，本技术实施例提供了一种显示基板，所述显示基板划分为第一类像素区及第二类像素区，所述显示面板包括：

3、衬底、像素部分及触控部分；所述像素部分设置在所述衬底上，所述触控部分设置在所述像素部分远离所述衬底的一侧；

4、所述触控部分包括第一隔离层、第二隔离层及第三保护层，所述第二隔离层设置在所述第一隔离层远离所述衬底的一侧；

5、在所述第二类像素区中，所述第一隔离层具有多个第一间隔区域，所述第二隔离层具有多个第二间隔区域，所述第一间隔区域、所述第二间隔区域与所述像素部分中的像素发光区域在所述衬底上的投影相对应；

6、所述第三保护层设置在所述第二隔离层远离所述衬底的一侧，且所述第一间隔区域、所述第二间隔区域被所述第三保护层填充；

7、其中，所述第三保护层的第三折射率小于所述第一隔离层的第一折射率，所述第三折射率小于所述第二隔离层的第二折射率。

8、在一种可能的实施方式中，所述第一隔离层图形化为多个第一梯形结构，相邻的两个所述第一梯形结构之间为所述第一间隔区域；所述第一梯形结构下底角的取值范围为45度至75度；

9、所述第二隔离层图形化为多个第二梯形结构，相邻的两个所述第二梯形结构之间为所述第二间隔区域；所述第二梯形结构下底角的取值范围为45度至75度；

10、其中，所述第一梯形结构的上底长度不小于所述第二梯形结构的下底长度。

11、在一种可能的实施方式中，所述第二折射率与所述第三折射率的比值大于1.10；和/或，所述第一折射率与所述第三折射率的比值大于1.10。

12、在一种可能的实施方式中，所述触控部分还包括第二缓冲层、第二金属层、第三金属层、光学控制层、黑色矩阵层及第四保护层；

13、所述第二缓冲层设置在所述像素部分上远离所述衬底的一侧；所述第一隔离层设置在所述第二缓冲层上远离所述衬底的一侧；所述第二金属层设置在所述第一隔离层与所述第二隔离层之间；所述第三金属层设置在所述第二隔离层与所述第三保护层之间；所述光学控制层设置在所述第三保护层上远离所述衬底的一侧；所述黑色矩阵层设置在所述光学控制层上远离所述衬底的一侧；

14、所述黑色矩阵层具有多个第三间隔区域，所述第三间隔区域与所述像素部分中的像素发光区域在所述衬底上的投影相对应；所述第四保护层设置在所述黑色矩阵层上远离所述衬底的一侧，且所述第三间隔区域被所述第四保护层填充。

15、在一种可能的实施方式中，所述第二类像素区中的触控部分还包括第一金属层，所述第一金属层设置在所述第一隔离层与所述第二缓冲层之间，所述第一金属层的走线宽度大于所述第二金属层的走线宽度，所述第一金属层的走线宽度大于所述第三金属层的走线宽度。

16、在一种可能的实施方式中，所述第一金属层与所述显示基板的地连接。

17、在一种可能的实施方式中，所述第一类像素区中的正常像素与所述第二类像素区中的防窥像素间隔排布，所述防窥像素中的各子像素均包括多个防窥像素单元。

18、在一种可能的实施方式中，所述显示基板中的各子像素均包括多个防窥像素单元及至少一个正常像素单元，所述防窥像素单元所在的区域为所述第二类像素区，所述正常像素单元所在的区域为所述第一类像素区。

19、在一种可能的实施方式中，所述防窥像素单元的尺寸不超过15um。

20、在一种可能的实施方式中，所述触控部分还包括第二金属层、第三金属层，所述第二金属层及所述第三金属层包括多条触控走线；在所述衬底的投影方向上，所述触控走线位于相邻子像素之间的间隔中、以及布设在相邻的防窥像素单元与正常像素单元之间的间隔中。

21、在一种可能的实施方式中，所述像素部分包括阳极层及像素定义层，所述阳极层包括多个阳极结构，所述像素定义层包括多个像素隔离结构；

22、针对所述防窥像素中的任一子像素，该子像素通过所述像素隔离结构划分为多个防窥像素单元，且该子像素的各防窥像素单元共用一个阳极结构。

23、在一种可能的实施方式中，所述像素部分包括阳极层及像素定义层，所述阳极层包括多个阳极结构，所述像素定义层包括多个像素隔离结构；

24、针对所述防窥像素中的任一子像素，该子像素通过所述像素隔离结构划分为多个防窥像素单元，该子像素的各防窥像素单元分别连接不同的阳极结构。

25、在一种可能的实施方式中，所述触控部分还包括第二金属层、第三金属层，所述第二金属层及所述第三金属层包括多条触控走线；在所述衬底的投影方向上，所述触控走线位于相邻子像素之间的间隔中。

26、在一种可能的实施方式中，所述像素部分包括阳极层及像素定义层，所述阳极层包括多个阳极结构，所述像素定义层包括多个像素隔离结构；

27、针对任一子像素，该子像素通过所述像素隔离结构划分为多个防窥像素单元及一个正常像素单元，且该子像素的正常像素单元连接一个阳极结构，该子像素的各防窥像素单元共用另一个阳极结构。

28、在一种可能的实施方式中，所述像素部分包括阳极层及像素定义层，所述阳极层包括多个阳极结构，所述像素定义层包括多个像素隔离结构；

29、针对任一子像素，该子像素通过所述像素隔离结构划分为多个防窥像素单元及一个正常像素单元，且该子像素的正常像素单元、各防窥像素单元分别连接不同的阳极结构。

30、在一种可能的实施方式中，所述第一隔离层为第一保护层，所述第二隔离层为第二保护层；或，

31、所述第一隔离层为第一层间介质层，所述第二隔离层为第二层间介质层。

32、第二方面，本技术实施例提供了一种显示基板制备方法，包括：

33、在预制板上远离衬底的一侧制作第二缓冲层，其中，所述预制板包括衬底及像素部分，所述像素部分设置在所述衬底上；

34、在第二缓冲层上制备第一隔离层；

35、对第二类像素区中的第一隔离层进行图形化操作，在第二类像素区中的第一隔离层中形成多个第一间隔区域；其中，所述第一间隔区域与所述像素部分中的像素发光区域在所述衬底上的投影相对应；

36、在所述第一隔离层上制备图形化的第二金属层，并在所述第一隔离层及所述第二金属层上制备第二隔离层；

37、对第二类像素区中的第二隔离层进行图形化操作，在第二类像素区中的第二隔离层中形成多个第二间隔区域；其中，所述第二间隔区域与所述像素部分中的像素发光区域在所述衬底上的投影相对应；

38、在所述第二隔离层上制备图形化的第三金属层，并在所述第二隔离层及所述第三金属层上制备第三保护层；其中，所述第一间隔区域、所述第二间隔区域被所述第三保护层填充；所述第三保护层的第三折射率小于所述第一隔离层的第一折射率，所述第三折射率小于所述第二隔离层的第二折射率；

39、进行显示基板的后续制备工艺。

40、在一种可能的实施方式中，在所述在第二缓冲层上制备第一隔离层之后，所述方法还包括：

41、在所述第一隔离层上沉积第一金属层，对所述第一金属层进行走线刻蚀得到图像化后的第一金属层；其中，所述第一金属层的走线宽度大于所述第二金属层的走线宽度，所述第一金属层的走线宽度大于所述第三金属层的走线宽度。

42、第三方面，本技术实施例提供了一种显示屏，所述显示屏包括本技术中任一项所述的显示基板。

43、本技术实施例中的显示基板、显示基板制备方法及显示屏，第三保护层填充到第一间隔区域及第二间隔区域中，第三保护层的第三折射率小于第一隔离层的第一折射率，且第三折射率小于第二隔离层的第二折射，当出射光线经第三保护层入射到第一隔离层及第二隔离层侧面时，由于折射率变大，第一隔离层及第二隔离层侧面入射角度较大的光线会出现全反射现象，即对于显示基板来说，角度较大的出射光在第一隔离层及第二隔离层侧面发生了全反射，从而反射后的出射光与显示基板垂直方向的角度变小，从而实现了第二类像素区的小角度出射光，并且因为小角度出射光更多，还能够增加小角度出射光的亮度。当然，实施本技术的任一产品或方法并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。