壳体、制造方法及移动终端与流程

文档序号:12135551阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种壳体,其特征在于,所述壳体包括:

基体;及

形成在所述基体上的光学膜层,所述光学膜层烧结在所述基体上以调整所述基体的外观表现色。

2.如权利要求1所述的壳体,其特征在于,所述光学膜层由高折射率膜层及低折射率膜层堆叠形成,或由所述光学膜层由高折射率膜层及低折射率膜层融合形成。

3.如权利要求1所述的壳体,其特征在于,所述基体包括陶瓷、玻璃、不锈钢、钛合金、锆合金中的任意一种。

4.如权利要求2所述的壳体,其特征在于,所述壳体还包括颜色层,所述颜色层形成在所述基体上,所述颜色层位于所述基体与所述高折射率膜层/所述低折射率膜层之间。

5.如权利要求4所述的壳体,其特征在于,所述颜色层包括白色层、黑色层、金色层、玫瑰金层、蓝色层中的任意一种。

6.如权利要求2所述的壳体,其特征在于,所述高折射率膜层的材料包括硫化锌、二氧化钛、氧化锆、及氧化钽中的任意一种。

7.如权利要求2所述的壳体,其特征在于,所述低折射率膜层的材料包括氟化镁、一氧化硅及二氧化硅中的任意一种。

8.如权利要求2所述的壳体,其特征在于,在远离所述基体的方向上,所述高折射率膜层与所述低折射率膜层依序设置在所述基体上。

9.如权利要求2所述的制造方法,其特征在于,所述基体为陶瓷,所述高折射率膜层的材料为二氧化锆,所述高折射率膜层的厚度为20nm~40nm,所述低折射率膜层的材料为二氧化硅,所述低折射率膜层的厚度为50nm~100nm。

10.如权利要求2所述的壳体,其特征在于,在远离所述基体的方向上,所述低折射率膜层与所述高折射率膜层依序设置在所述基体上。

11.如权利要求2所述的壳体,其特征在于,所述低折射率膜层为多层,所述高折射率膜层为多层,多层所述高折射率膜层与多层所述低折射率膜层交替堆叠形成在所述基体上。

12.如权利要求11所述的壳体,其特征在于,多层所述高折射率膜层的材料包括硫化锌、二氧化钛、氧化锆、及氧化钽中的任意两种,多层所述低折射率膜层包括氟化镁、一氧化硅及二氧化硅中的任意两种。

13.如权利要求11所述的壳体,其特征在于,多层所述高折射率膜层的材料相同,多层所述低折射率膜层的材料相同。

14.如权利要求2所述的壳体,其特征在于,所述高折射率膜层与所述低折射率膜层形成后采用200摄氏度~1000摄氏度的温度进行烧结以加强附着在所述基体上。

15.一种壳体,其特征在于,所述壳体包括:

基体;及

形成在所述基体上的膜堆,所述膜堆形成后进行烧结以加强附着在所述基体上,所述膜堆用于控制反射特定波长的光线以给使用者带来视觉上不同颜色的感观。

16.一种制造方法,用于制造如权利要求1-15任意一项所述的壳体,其特征在于,所述制造方法包括以下步骤:

提供一个基体;

在所述基体上形成光学膜层;及

加热所述光学膜层以及所述基体以使所述光学膜层结合至所述基体上。

17.如权利要求16所述的制造方法,其特征在于,所述加热所述光学膜层以及所述基体以使所述光学膜层结合至所述基体上的步骤包括:

加热所述光学膜层以及所述基体以使所述光学膜层烧结至所述基体上。

18.如权利要求17所述的制造方法,其特征在于,所述在所述基体上形成光学膜层的步骤包括:

对所述基体进行表面预处理;

将二氧化锆膜层形成在所述基体表面;和

将二氧化硅膜层形成在所述二氧化锆膜层表面。

19.如权利要求18所述的制造方法,其特征在于,将所述二氧化锆膜层形成在所述基体的表面,包括:将所述二氧化锆膜层印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式形成在所属基体的表面;和/或

将二氧化硅膜层形成在所述二氧化锆膜层表面,包括:将所述二氧化锆膜层印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式形成在所属基体的表面。

20.如权利要求17所述的制造方法,其特征在于,所述在所述基体上形成光学膜层的步骤包括:

对所述基体进行表面预处理;

将二氧化硅膜层形成在所述基体表面;和

将二氧化锆膜层形成在所述二氧化硅膜层表面。

21.如权利要求20所述的制造方法,其特征在于,将二氧化硅膜层形成在所述基体表面,包括:将所述二氧化锆膜层印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式形成在所属基体的表面;和/或

将二氧化锆膜层形成在所述二氧化硅膜层表面,包括:将所述二氧化锆膜层印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式形成在所属基体的表面。

22.如权利要求17所述的制造方法,其特征在于,所述烧结所温度范围为200摄氏度~1000摄氏度。

23.一种制造方法,用于制造如权利要求1-15任意一项所述的壳体,其特征在于,所述制造方法包括以下步骤:

提供一个基体;

形成一种包含高折射率膜层与低折射率膜层的膜堆;

固定所述膜堆在所述基体的表面上;及

烧结所述高折射率膜层与所述低折射率膜层。

24.一种制造方法,用于制造壳体,其特征在于,所述制造方法包括以下步骤:

提供一个陶瓷基体;

将二氧化锆镀至所述陶瓷表面形成二氧化锆膜层;

将二氧化硅镀至所述二氧化锆膜层表面形成二氧化硅膜层;

烧结所述陶瓷基体、所述二氧化锆膜层及所述二氧化硅膜层。

25.一种移动终端,其特征在于,包括如权利要求1-15任一项所述的壳体。

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