阻气性膜及其制备方法与流程

文档序号:11140792阅读:来源:国知局

技术特征:

1.阻气性膜,其是在由高分子树脂组合物构成的基材上层合纳米复合膜而成,所述纳米复合膜由分散的高分子微晶和稳定地保持所述微晶的硅氧烷键的网状结构构成。

2.阻气性膜,其是在由高分子树脂组合物构成的基材上设置由氧化铝构成的蒸镀层,进而在所述蒸镀层上层合合纳米复合膜而成,所述纳米复合膜由分散的高分子微晶和稳定地保持所述微晶的硅氧烷键的网状结构构成。

3.权利要求1或2所述的阻气性膜,其中,分散的高分子微晶为水溶性高分子。

4. 权利要求1或2所述的阻气性膜,其中,形成纳米复合膜的硅氧烷键是使如下轻度水解缩合物与水溶性高分子共存而形成:以由通式Si(OR)4 (R为烷基)表示的烷氧基硅烷为原料,使所有硅原子中具有60%以上的Q1和Q2结构的轻度水解缩合物。

5. 权利要求4所述的阻气性膜,其中,轻度水解缩合物是在pH为1.5~3.0、液温为5℃以上且30℃以下的条件下将由通式Si(OR)4 (R为烷基)构成的烷氧基硅烷水解而得。

6. 权利要求1或2所述的阻气性膜,其中,在用激光拉曼分光法分析纳米复合膜中的硅原子的键合状态时,425cm-1 (来源于网状结构的峰)的面积强度(A425)与490cm-1 (对网状结构无贡献的峰)的面积强度(A490)的比值A425/A490为2.0以上且3.0以下。

7.权利要求1或2所述的阻气性膜,其特征在于,在使用固体13C-NMR装置通过CP/MAS法分析纳米复合膜中的水溶性高分子的状态时,从在66~75ppm得到的波谱将来源于70ppm的峰波形分离,其峰面积比(A70ppm/A66~75ppm)×100为40%以上。

8.权利要求1或2所述的阻气性膜,其特征在于,来源于纳米复合膜中水溶性高分子的分子运动性的使用固体13C-NMR装置得到的氢弛豫时间为2.0msec以上。

9.权利要求1所述的阻气性膜,其中,在60℃、90%RH的条件下保管500小时后所述纳米复合膜通过纳米压痕法测定得到的硬度为1.0GPa以上。

10.权利要求2所述的阻气性膜,其中,135℃、30分钟的加压蒸煮杀菌处理后所述纳米复合膜通过纳米压痕法测定得到的硬度为1.0GPa以上。

11.权利要求2所述的阻气性膜,其特征在于,蒸镀层通过以下方法形成:保持在等离子体前处理辊与等离子体供给设备之间施加电压的状态将塑料基材的表面进行等离子体前处理后,连续地将以氧化铝为主要成分的无机氧化物蒸镀膜成膜。

12.权利要求11所述的阻气性膜,其特征在于,等离子体前处理是使用对要设置蒸镀膜的塑料基材的表面进行等离子体处理的前处理区和形成蒸镀膜的成膜区被连续配置的辊式连续蒸镀膜成膜装置进行等离子体前处理,所述等离子体前处理具有以下结构:配置前处理辊,并与所述前处理辊相对地配置等离子体供给设备和磁场形成设备,将供给的等离子体原料气体制成等离子体导入至基材表面附近,并且形成封闭所述等离子体的空隙;并且保持在等离子体前处理辊与等离子体供给设备之间施加电压的状态进行等离子体处理。

13.权利要求11所述的粘附性增强耐湿热性的阻气性膜,其特征在于,基于等离子体的前处理中,使用等离子体前处理区和蒸镀膜成膜区被分隔的辊式连续蒸镀膜成膜装置,在以每单位面积的等离子体强度计为100~8000W·sec/m2的条件下,处理要设置蒸镀膜的塑料基材的表面。

14.权利要求2所述的阻气性膜,其特征在于,在塑料基材与以氧化铝为主要成分的无机氧化物蒸镀膜的界面具有AL-C的共价键。

15. 权利要求1所述的阻气性膜的制备方法,其中,在由高分子树脂组合物构成的基材上,涂布使由通式Si(OR)4 (R为烷基)表示的烷氧基硅烷的轻度水解缩合物和水溶性高分子共存而成的权利要求3所述的溶液后,通过至少进行2次加热处理形成由高分子微晶和保持所述微晶的硅氧烷键的网构成的纳米复合膜。

16. 权利要求2所述的阻气性膜的制备方法,其是在由高分子树脂组合物构成的基材上设置由氧化铝构成的蒸镀层,进而在该蒸镀层上涂布使由通式Si(OR)4 (R为烷基)表示的烷氧基硅烷的轻度水解缩合物和水溶性高分子共存而成的溶液后,通过至少进行2次加热处理形成由高分子微晶和保持所述微晶的硅氧烷键的网构成的纳米复合膜。

17.权利要求15或16所述的阻气性膜的制备方法,其特征在于,第1次加热处理为除去溶剂从而形成涂膜的处理,而且第2次加热处理的温度条件为比第1次加热处理的温度条件低的温度。

18. 权利要求15或16所述的阻气性膜的制备方法,其中,在使由通式Si(OR)4 (R为烷基)表示的烷氧基硅烷的轻度水解缩合物和水溶性高分子共存而成的溶液中使用的溶剂的沸点计为Tbp的情况下,第1次加热处理的温度(T)在(Tbp)℃~(Tbp)+100℃的范围内;在水溶性高分子的玻璃化转变温度计为Tg-coat、且基材膜的玻璃化转变温度计为Tg-base的情况下,第2次加热处理的温度在(Tg-coat)℃~(Tg-base)℃的范围内。

19.权利要求15或16所述的阻气性膜的制备方法,其特征在于,第2次加热处理的加热时间比第1次加热处理的加热时间长,第2次加热处理的加热时间为1~300小时。

20.权利要求15或16所述的阻气性膜的制备方法,其特征在于,第2次加热处理的加热时间为50~200小时。

21.包装材料,其中,在权利要求1~10中任一项所述的纳米复合膜面,经由粘接层层合热封性树脂。

22.包装材料,其中,在权利要求1~10中任一项所述的纳米复合膜面设置印刷层后,经由粘接层层合热封性树脂。

23.权利要求21或22所述的包装材料,其中,上述包装材料用于煮沸、加压蒸煮杀菌用包装。

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