一种防辐射钢化玻璃膜的制作方法

本实用新型涉及钢化玻璃膜技术领域，尤其涉及一种防辐射钢化玻璃膜。

背景技术：

钢化玻璃膜是专为保护手机屏幕而设计的高科技保护膜，是目前对保护屏幕最具强化保护的高端新产品，能将原有的屏幕面完全覆盖，防止受到外力的损害外，更增加了冲击吸收性，比PET膜的标准高5倍，不会影响屏幕的视频效果，可做到主屏防碎裂，抗划痕和刮伤，其坚韧程度也足以保护手机显示屏免受重压。当手机掉地上，承受的冲击力很大，张力过大屏就碎了。钢化玻璃膜韧性低，当手机传出张力时膜就会承受张力，这样大大减少了主屏承受的张力。现有的钢化玻璃膜对于在白天室外光线较强使用时难以降低反射光从而导致在室外难以正常使用手机，且难有效的降低电磁辐射。

技术实现要素：

本实用新型提供一种防辐射钢化玻璃膜，可以有效降低钢化膜的光反射作用，同时有效的降低了电磁辐射；且具备良好的散热作用。

为了解决上述技术问题，本实用新型所采取的技术方案为：

一种防辐射钢化玻璃膜，包括钢化玻璃层、透明基材层，所述钢化玻璃层设置在所述透明基材层的上端，在所述透明基材层的下端设置有胶粘层，在所述胶粘层的下端和所述钢化玻璃层的上方分别设置有离型层；所述钢化玻璃层包括玻璃基片，在所述玻璃基片上设置有第一氮化硅膜层、第二氮化硅膜层和第三氮化硅膜层，在所述玻璃基片与第一氮化硅膜层之间、所述第一氮化硅膜层与第二氮化硅膜层之间和第二氮化硅膜层与第三氮化硅膜层之间分别设置有透明导电膜层。

优选地，所述透明导电膜层为铟—锡氧化物层。

优选地，所述第三氮化硅膜层的厚度为75-80nm，折射率为2.05-2.07。

优选地，所述第二氮化硅膜层的厚度为80-85nm，折射率为2.08-2.10。

优选地，所述第一氮化硅膜层的厚度为85-90nm，折射率为2.12-2.15。

可选地，所述第三氮化硅膜层的厚度为75nm，折射率为2.05；所述第二氮化硅膜层的厚度为80nm，折射率为2.08；所述第一氮化硅膜层的厚度为85nm，折射率为2.12。

进一步地，在所述钢化玻璃层的四周边缘设置有碳纳米管层。

优选地，在所述第三氮化硅膜层与所述透明导电膜层之间设置有陶瓷光学膜层。

优选地，所述陶瓷光学膜层为氧化钛膜层。

本实用新型提供一种防辐射钢化玻璃膜，该钢化玻璃膜在所述玻璃基片上设置有第一氮化硅膜层、第二氮化硅膜层和第三氮化硅膜层，在所述玻璃基片与第一氮化硅膜层之间、所述第一氮化硅膜层与第二氮化硅膜层之间和第二氮化硅膜层与第三氮化硅膜层之间分别设置有透明导电膜层，有效的降低了玻璃膜的光反射作用，同时氮化硅膜具备良好的防辐射作用。同时设置有良好散热作用的碳纳米管层，使得整个钢化玻璃膜具有良好的散热效果。

附图说明

图1是本实用新型一种防辐射钢化玻璃膜的内部结构示意图；

图2是本实用新型一种防辐射钢化玻璃膜的局部分解结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图，具体阐明本实用新型的实施方式，附图仅供参考和说明使用，不构成对本实用新型专利保护范围的限制。

如图1和2所示，一种防辐射钢化玻璃膜，包括钢化玻璃层2、透明基材层1，所述钢化玻璃层2设置在所述透明基材层1的上端，在所述透明基材层1的下端设置有胶粘层3，在所述胶粘层3的下端和所述钢化玻璃层2的上方分别设置有离型层4；所述钢化玻璃层2包括玻璃基片21，在所述玻璃基片21上设置有第一氮化硅膜层22、第二氮化硅膜层23和第三氮化硅膜层24，在所述玻璃基片21与第一氮化硅膜层22之间、所述第一氮化硅膜层22与第二氮化硅膜层23之间和第二氮化硅膜层23与第三氮化硅膜层24之间分别设置有透明导电膜层25、26、27。所述透明导电膜层为铟—锡氧化物层。所述第三氮化硅膜层24的厚度为75-80nm，折射率为2.05-2.07。所述第二氮化硅膜层23的厚度为80-85nm，折射率为2.08-2.10。所述第一氮化硅膜层22的厚度为85-90nm，折射率为2.12-2.15。本实施例中，所述第三氮化硅膜层24的厚度为75nm，折射率为2.05；所述第二氮化硅膜层23的厚度为80nm，折射率为2.08；所述第一氮化硅膜层22的厚度为85nm，折射率为2.12。在所述钢化玻璃层2的四周边缘设置有碳纳米管层5。在所述第三氮化硅膜层24与所述透明导电膜层27之间设置有陶瓷光学膜层28。所述陶瓷光学膜层28为氧化钛膜层。

以上所揭露的仅为本实用新型的较佳实施例，不能以此来限定本实用新型的权利保护范围，因此依本实用新型申请专利范围所作的等同变化，仍属本实用新型所涵盖的范围。