一种提高保藏时间的莲籽生产工艺的制作方法

文档序号:12720764阅读:159来源:国知局

本发明涉及莲籽加工领域,更具体地说,涉及一种提高保藏时间的莲籽生产工艺。



背景技术:

莲子在分类学上属睡莲科莲属,据《本草纲目》记载,莲子有“益中养神,止渴去热,安心止痢。交心肾,固精气,强筋骨,补虚损,利耳目,除寒湿及女人带崩”等功效,久食,可轻身益气,令人强健,它可滋养交感神经,适用于心悸、失眠、酸痛、体虚、遗精、慢性腹泻等症。目前莲子加工制品有莲子羹、莲子罐头、莲子蜜饯、莲予泥等,以莲子为主要原料生产即食食物的技术目前较为罕见。以上现有莲子加工制品均是将莲籽煮熟后进行加工,因而一些营养成分或活性成分会存在流失。

如何将莲籽加工成即食莲籽是千百年来业者想解决的问题,虽然也提出过一些方案,但如何将莲籽加工成既食用方便,又营养成分不流失,同时又可长期保存,一直没有很好的解决方案。



技术实现要素:

本发明提供一种提高保藏时间的莲籽生产工艺,其主要目的在于克服现有莲籽加工制品存在的无法长期保存的缺陷。

为解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案:

一种提高保藏时间的莲籽生产工艺,由以下步骤依序制作而成:a、剥壳,将采集到的新鲜莲籽剥除外壳;b、通芯,将剥壳后的莲籽进行通芯处理工序,去除莲芯;c、清洗,将通芯后莲籽用清水洗净晾干;d、杀青,晾干后的莲籽进行加温,抑制发酵,使莲籽保持固有的颜色;e、杀菌,将杀青后的莲籽浸泡于亚硫酸纳溶液后,再至于一容器内晾干;f、熏气、将该容器抽真空后立即通入二氧化硫进行熏气处理,即可获得莲籽成品。

优选地,在步骤f中熏气处理的工艺条件为,维持正压0.3kg/平方厘米,温度40摄氏度,时间3~3.5小时。

优选地,在步骤e中莲籽于亚硫酸纳溶液浸泡2~3小时。

优选地,所述步骤a和步骤b之间还包括一去膜步骤。

优选地,在步骤d中,杀青是以微波杀青的方式将莲籽升温到60℃处理3分钟,持续破坏和钝化莲籽中的氧化酶活性。

优选地,在步骤f中,进行二氧化硫熏气处理后,放压回有氧状态后1~2小时,之后进行抽真空后立即充氮处理,放压回有氧状态后1~2小时,之后继续进行抽真空后立即充氮处理,由上循环,反复放压、抽真空及充氮处理3~4次,即可获得莲籽成品。

和现有技术相比,本发明产生的有益效果在于:

本发明通采用亚硫酸纳溶液对莲籽进行杀菌处理,并且配合二氧化硫气体对莲籽进行熏气处理,可以有效地防止莲籽进行褐变反应,提高莲籽的保存时间,并且起到完全杀除莲籽内细菌的功效,同时使得最终获得的莲籽能够保持新鲜莲籽的美丽色泽。

本发明通过反复进行充氮处理,可以极大程度地去除二氧化硫在成品莲籽内的残留量,从而在保证莲籽食用的安全性。

具体实施方式

下面对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

一种提高保藏时间的莲籽生产工艺,由以下步骤依序制作而成:a、剥壳,将采集到的新鲜莲籽剥除外壳;b、通芯,将剥壳后的莲籽进行通芯处理工序,去除莲芯;c、清洗,将通芯后莲籽用清水洗净晾干;d、杀青,晾干后的莲籽进行加温,抑制发酵,使莲籽保持固有的颜色;e、杀菌,将杀青后的莲籽浸泡于亚硫酸纳溶液后,再至于一容器内晾干;f、熏气、将该容器抽真空后立即通入二氧化硫进行熏气处理,即可获得莲籽成品。

优选地,在步骤f中熏气处理的工艺条件为,维持正压0.3kg/平方厘米,温度40摄氏度,时间3~3.5小时。

优选地,在步骤e中莲籽于亚硫酸纳溶液浸泡2~3小时。

优选地,所述步骤a和步骤b之间还包括一去膜步骤。

优选地,在步骤d中,杀青是以微波杀青的方式将莲籽升温到60℃处理3分钟,持续破坏和钝化莲籽中的氧化酶活性。

优选地,在步骤f中,进行二氧化硫熏气处理后,放压回有氧状态后1~2小时,之后进行抽真空后立即充氮处理,放压回有氧状态后1~2小时,之后继续进行抽真空后立即充氮处理,由上循环,反复放压、抽真空及充氮处理3~4次,即可获得莲籽成品。

和现有技术相比,本发明产生的有益效果在于:

本发明通采用亚硫酸纳溶液对莲籽进行杀菌处理,并且配合二氧化硫气体对莲籽进行熏气处理,可以有效地防止莲籽进行褐变反应,提高莲籽的保存时间,并且起到完全杀除莲籽内细菌的功效,同时使得最终获得的莲籽能够保持新鲜莲籽的美丽色泽。

本发明通过反复进行充氮处理,可以极大程度地去除二氧化硫在成品莲籽内的残留量,从而在保证莲籽食用的安全性。

本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以对本发明进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。

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