等目标进行灭菌的方法和设备 (例如手鼓风机，其可以对手进行氧化、净化、消毒和/或灭菌）。
[0033] 在本发明的某些实施方式中（例如用于处理伤口），所提供的方法和设备使用基 本上是非细胞毒性的气态混合物。
[0034] 在本发明的一些实施方式中，对目标去除污染包括对目标进行氧化、净化、消毒和 /或灭菌。例如，本发明的各种实施方式涉及对在大的结构（例如建筑物）和/或高区域应 用中的目标去除污染。
[0035] 本发明的方法包括喷射气态混合物的气流。气态混合物含有50至30, OOOppmv 的二氧化氯。该浓度也可以被称为每百万份体积上二氧化氯浓度的时间-加权平均，意味 着对于任何时间段的"X"，分配或喷出的气态混合物的量，所列举的浓度是在此期间分配 或喷出的气体的平均浓度（例如对于在两分钟时间内喷射气体，在第一分钟期间浓度为 IOOppmv，第二分钟期间为300ppmv，则在两分钟时间内的二氧化氯浓度的时间-加权值将是 200ppmv) 〇
[0036] 例如，在一些实施方式中，气态混合物包含50, 100,500, 1，000, 1，500, 2, 000, 2, 5 00, 3, 000, 3, 500, 4, 000, 4, 500, 5, 000, 5, 500, 6, 000, 6, 500, 7, 000, 7, 500, 8, 000, 8, 500, 9， 000, 9, 500, 10, 000, 10, 500, 11，000, 11，500, 12, 000, 12, 500, 13, 000, 13, 500, 14, 000, 14, 5 00, 15, 000, 15, 500, 16, 000, 16, 500, 17, 000, 17, 500, 18, 000, 18, 500, 19, 000, 19, 500, 20, 0 00, 20, 500, 21, 000, 21, 500, 22, 000, 22, 500, 23, 000, 23, 500, 24, 000, 24, 500, 25, 000, 25, 5 00, 26, 000, 26, 500, 27, 000, 27, 500, 28, 000, 28, 500, 29, 000, 29, 500,或 30, OOOppmv的二 氧化氯，包括其中的任何范围和所有范围以及子范围（例如1，〇〇〇至15, OOOppmvU, 500至 10, 000ppmv、2, 000 至 10, 000ppmv、2, 000 至 8, 000ppmv、2, 500 至 3, 500ppmv等）。
[0037] 在一些实施方式中，气态混合物还包括氮气，氧气，氩气和/或二氧化碳。在优选 实施方式中，气态混合物包括二氧化氯和空气。在一些实施方式中，气态混合物基本上包括 二氧化氯和空气。
[0038] 在本发明的一些实施方式中（例如用于处理伤口的方法和设备中），气态混合物 可以包括一种或多种另外的治疗剂。
[0039] 本发明的方法包括从气体源喷射气态混合物。如本文所用，气体源可以是能够从 中喷射气体的任何合适的装置，无论是单独（例如，在管的情况下，气体通过栗穿过管）或 连同一个或多个其它组件（例如，在喷嘴的情况下，这可能需要一个或多个附加组件以允 许气体从喷嘴中喷射，例如，电动机或其它设备/组件，其使气体流过气体源）。例如，在 一些非限制性实施方式中，气体源可以是喷嘴，喷口，水龙头，阀门，容器，管材（pipe)，管 (tube)，软管，风扇，管道出口等。
[0040] 在一实施方式中，气体源是喷嘴。在一些实施方式中，喷嘴直径是0. 05至1cm。
[0041] 本发明的气体源包括或被配置为使其附着/连接至（直接或间接地）二氧化氯 源。二氧化氯源可以是包括二氧化氯的任何合适的源。例如，气体源包括或被配置为使其 连接至二氧化氯源，其包括以及任选地产生二氧化氯。这种二氧化氯源的实例包括，例如盛 有二氧化氯气体或含有如溶解二氧化氯的溶液的容器。在引入例如间歇式容器之前，二氧 化氯气体或溶液可以通过任何可接受的方式产生。在一些实施方式中，二氧化氯源产生二 氧化氯（例如一种装置如二氧化氯发生器）。例如，在一些实施方式中，气体源包括或被配 置为使其附着至二氧化氯发生器，例如如美国专利号6, 468, 479所公开和要求保护的，在 此其公开内容以引用的方式纳入本文。在包括和/或采用二氧化氯发生器的实施方式中， 二氧化氯作为气体直接产生，或作为含水（或其它合适的液体载体）二氧化氯的混合物/ 溶液产生。该发生器可以使用过量的亚氯酸钠运行，以减少产生杂质氯气的可能性。用于 产生采用二氧化氯的其它普遍接受的方法和设备，和/或本发明的方法和设备包括的其它 普遍接受的方法和设备可以在如美国专利号7, 678, 388,美国专利号5, 290, 524和美国专 利号5, 234, 678中找到，其公开内容以引用的方式纳入本文。
[0042] 二氧化氯源包括例如含有溶解的二氧化氯的溶液时，二氧化氯源可以包括，或本 发明的设备和方法可以包括或以其它方式采用二氧化氯汽提塔，其是一种装置（例如逆流 汽提塔、喷射汽提塔），其使用如空气将二氧化氯从溶液中汽提出来并最终送至气体源（例 如经由二氧化氯入口）。
[0043] 在本发明的各种实施方式中，气体源被配置为经由二氧化氯入口从二氧化氯源摄 入二氧化氯。二氧化氯入口可以是，例如，所述气体源的一部分（例如所述气体源包括二氧 化氯入口），或它可以从气体源物理分离。二氧化氯入口被配置用于（直接或间接地）从二 氧化氯源摄入气态混合物（直接或间接地）送至气体源。
[0044] 在一实施方式中，气体源是喷嘴，其直接或间接附着至二氧化氯源（例如二氧化 氯发生器或容器，其包含二氧化氯气体或在溶液中的二氧化氯）。喷嘴可以被配置为其通 过二氧化氯入口接收二氧化氯。在一些实施方式中，其中所述二氧化氯源包括二氧化氯溶 液，溶液行进至二氧化氯汽提塔，其从例如水溶液输送空气中的二氧化氯，而气体混合物最 终随后行进至气体源以向目标喷射。
[0045] 本发明的方法包括以25至900英尺/秒的速率从气体源喷射气态混合物的气流， 并且使气流与目标接触。例如，在一些实施方式中，以25, 50, 75, 100, 125, 150, 175, 200, 22 5, 250, 275, 300, 325, 350, 375, 400, 425, 450, 475, 500, 525, 550, 575, 600, 625, 650, 675, 700 ，725, 750, 775, 800, 825, 850, 875, or 900英尺/秒的速率从气体源喷射气流，包括在其中 的任何值和所有的范围和子范围（例如50至900英尺/秒，100至900英尺/秒，300至 850英尺/秒，600至800英尺/秒等）。
[0046] 本领域的普通技术人员很容易分辨出提高或降低从气体源喷射气体的速度的方 法，所有这些都在本发明中采用。例如，其中气体源是喷嘴时，可以例如，通过减小喷嘴的直 径提高喷射速度，而且可以例如，通过增加喷嘴的直径降低喷射速度。同样地，可以通过例 如，改变气体到达和/或通过气体源的流速的来提高或降低速度。
[0047] 已经发现，本发明的方法和设备采用上述速度（25至900英尺/秒）喷射气体有 利地对目标进行氧化、净化、消毒和/或灭菌。例如，在本发明的各种实施方式中，所提供的 方法和设备允许使用低于现有技术的方法和设备的二氧化氯的浓度-时间（CT)值有利的 氧化、净化、消毒和/或灭菌。
[0048] 如本文所用，浓度-时间（"CT"），或总浓度，等于按每百万份体积（ppmv)的二氧 化氯浓度的时间-加权平均值乘以以小时为单位的暴露时间。在二氧化氯浓度与以小时为 单位的暴露时间的曲线图中，CT将等于该曲线下的面积。例如，如果在12小时的暴露时间 内，时间-加权平均二氧化氯浓度是750ppmv，CT将是9, OOOppmv-小时（这是如，目前的EPA 指南要求的气态二氧化氯的应用于建筑物修复的CT值）。同样地，如果在3小时的暴露时 间内，时间-加权平均二氧化氯浓度是3, 000ppmv，CT仍然是9, OOOppmv-小时。如果在一分 钟的暴露时间内，时间-加权平均二氧化氯浓度是3, 000ppmv，CT将是50ppmv-小时。
[0049] 在用于建筑物修复的二氧化氯的气体或气相应用中，典型的二氧化氯浓度是在 500至3000ppmJ^范围内，而且暴露时间通常为3至12小时。例如，已经发现，在12小时 的时间内，时间平均二氧化氯气体浓度在500至1500ppm v范围内对于杀灭霉菌孢子和消除 过敏反应（CT = 6000-18000ppmv-小时）是有效的。类似地，已经发现9000ppmv-小时的CT 值对于灭菌炭疽孢子是有效的。
[0050] 任何符合限制的本发明的实施方式，其要求从气体源以25至900英尺/秒的速度 喷射含