专利名称：烧制陶瓷用的支架的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种窑具，特别是一种烧制陶瓷用的窑具。
背景技术：
现有技术中，在烧制陶瓷前，需要将待烧陶瓷盛放在支架上。现有的盛装陶瓷的支架为 一种多层组合支架系统，每层支架包括盛装陶瓷的大张承烧板和支撑该层承烧板的多个支架 砖。使用时，先将支架砖摆放好，再放置该层承烧板，接着再放置上层的支架砖以及承烧板， 组合好支架系统后，在每层支架的承烧板上放置待烧陶瓷。由于，承烧板为大张的板面，其 上可以放置多个待烧陶瓷制品。因此，每层的大张承烧板上盛装多个待烧陶瓷制品，陶瓷制 品与陶瓷制品之间浪费了大量的空间，极大地限制了装载陶瓷制品的密度；同时使用大张的 承烧板不仅浪费材料，而且在烧制过程中会吸收大量的热量，增加能量的损耗。
实用新型内容
为了解决现有烧制陶瓷用的支架存在的装载陶瓷制品密度低、材料用量大、能耗高的问 题，本实用新型提供一种烧制陶瓷用的仿形支架，可充分利用支架空间承载陶瓷制品，极大 提高了陶瓷制品的装载量，并且支架承烧板的材料用量与待烧陶瓷制品相适配，节约材料的 同时降低了能量的损耗。
技术方案
一种烧制陶瓷用的支架，包括承烧托板和支撑承烧托板的支撑脚，其特征在于，所述 承烧托板具有与待烧陶瓷相适配的仿形形状。
所述承烧托板为圆形、椭圆形、长方形、正方形或仿鱼形。 所述承烧托板的中部设置有通孔。
所述承烧托板与支撑该承烧托板的支撑脚为一体结构。
所述承烧托板上设置有与所述支撑脚数量相同的横向凹槽或纵向通孔，所述支撑脚通过 插入相应凹槽或通孔与承烧托板可拆卸连接。
所述支撑脚的上、下端面设置有与其他支架的支撑脚相配合的定位结构。
所述定位结构为凸凹结构。
所述支撑脚的数量为3。技术效果-
本实用新型的承烧托板具有与待烧陶瓷相适配的仿形形状， 一方面，可以充分利用承烧 托板的空间，提高支架本身的装载陶瓷制品的密度；另一方面，仿形形状的承烧托板可以最 大限度的节省承烧托板的面积从而节省材料，降低在烧制过程中能量的消耗；此外，每层支 架只装载一个陶瓷制品，使其不会受到其他陶瓷制品的影响，提高陶瓷的烧制质量。在承烧 托板的中部设置一通孔，可以进一步减少承烧托板的面积从而节约材料、降低能源的损耗； 同时在烧制过程中便于热量在各层支架之间的传递，提高陶瓷的烧制质量。
支撑脚的上、下端面设置有定位结构，各层支架之间通过该定位结构相互连接从而多层 叠放形成支架系统。所述定位结构增加了支架系统的稳定性，可以使支架直接从窑车台面码 放到窑顶，从而大大提高陶瓷的装载量。优选地，定位结构为凸凹结构，因其加工工艺简单、 在工业中常常使用。采用3个支撑脚来支撑承烧托板，目的在于在尽量减少支撑脚数量的同 时保证所支撑的承烧托板的稳定性。
图l 一种烧制陶瓷用的支架系统的示意图2图1中承烧托板的俯视图3另一种烧制陶瓷用的支架系统的示意图4图3中烧制陶瓷用的支架系统的局部剖视图5又一种烧制陶瓷用的支架系统的示意图6图5中承烧托板的俯视图7图5中支撑脚的示意图8为另外一种烧制陶瓷用的支架的承烧托板的俯视图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的技术方案作进一步详细的说明。 实施例1
如图l和图2所示为一种烧制陶瓷用的支架系统，图中示意性地仅由两层支架组成，每 层支架都包括承烧托板11和支撑该承烧托板11的3个支撑脚12，承烧托板11和支撑脚12 为一体结构。支撑脚12的上端面设置有长条形的凹槽13，支撑脚的下端面设置有与长条形 凹槽13大小、形状相应的长条形凸块14，通过支撑脚上端面的凹槽13与上层支撑脚下端面的凸块(未示出)的配合以及支撑脚下端面凸块14与下层支撑脚上端面凹槽13'的配合，使 若干层支架上、下稳定叠放、不会发生相对滑动。如图2所示，承烧托板ll为圆形结构，用 于盛装圆形盘、圆形碗及其他圆形陶瓷制品，可以充分发挥圆形承烧托板的特点。在圆形承 烧托板的中央设置一通孔15，在不影响承烧托板对陶瓷制品稳定支撑的情况下，进一步的减 少承烧托板所用的材料、降低在烧制过程中的能量消耗。更重要的是通孔起到传递热量的作 用，使各层支架上的陶瓷制品受热均匀，提高陶瓷的烧制质量。 实施例2
图3和图4为另一种烧制陶瓷用的支架系统。同实施例1相比，本实施例中的承烧托板 31为椭圆形结构，适用于盛放椭圆形结构的陶瓷制品。另外，该支架的支撑脚32与所支撑 的承烧托板31为可拆卸连接。支撑脚上端面设置一台阶柱33、下端面设置有与所述台阶柱 相配合的盲孔34。承烧托板31包括沿承烧托板上下面延伸的3个凸出部分，每个凸出部分 上均设置一通孔，通孔的直径正好与支撑脚上端面的台阶柱33相配合。台阶柱33穿过承烧 托板31的通孔与上层支架的支撑脚下端面的盲孔34相配合，使支撑脚32在支撑承烧托板 31的同时与上层支架相连接。
当然，承烧托板的形状也可以为仿鱼形，适用于盛放仿鱼形结构的陶瓷制品，比如，鱼 形盘。(见图8)
实施例3
图5-7为又一种烧制陶瓷用的支架系统，每层支架包括圆形的承烧托板51和支撑该承烧 托板51的支撑脚52。与实施例2相比，该支架系统的区别在于支架的支撑脚52上端面设 置一凸块53、下端面设置一与凸块53相适配的凹槽54，同时承烧托板的每个凸出部分处开 有一横向凹槽55，凸块53穿过横向凹槽55与上层支架的支撑脚下端面凹槽54相配合使支 撑脚52在支撑承烧托板51的同时与上层支架相连接。
另外，支架的支撑脚上、下端面的定位结构，不局限于上述实施例的凸凹结构，还可以 为使若干支架稳定层叠安放的其它结构，另外在组装支架系统时也可以在支撑脚的上、下端 面涂粘结剂，达到进一歩稳固连接的目的。
上述实施例中支撑每层支架的支撑脚为3个，所述的3个支撑脚优选在空间呈T型分布 或呈Y型分布。但是，支撑脚的数量和空间分布状态并不局限于上述两种形式，只要能够稳 定地支撑相应的承烧托板即可。承烧托板的仿形形状不局限于上述实施例中的圆形、椭圆形、仿鱼形，还可以为长方形、 正方形等，使其与待烧的陶瓷制品的形状相适配，达到提高装载率、节约材料、降低能耗的 目的。
应当指出，以上所述具体实施方式
可以使本领域的技术人员更全面地理解本实用新型， 但不以任何方式限制本实用新型。因此，尽管本说明书参照附图和实施例对本实用新型已进 行了详细的说明，但是，本领域技术人员应当理解，仍然可以对本实用新型进行修改或者等 同替换；而一切不脱离本实用新型的精神和范围的技术方案及其改进，其均应涵盖在本实用 新型专利的保护范围当中。
权利要求1. 一种烧制陶瓷用的支架，包括承烧托板和支撑承烧托板的支撑脚，其特征在于，所述承烧托板具有与待烧陶瓷相适配的仿形形状。
2. 根据权利要求l所述的烧制陶瓷用的支架，其特征在于，所述承烧托板为圆形、椭圆形、 长方形、正方形或仿鱼形。
3. 根据权利要求1或2所述的烧制陶瓷用的支架，其特征在于，所述承烧托板的中部设置有 通孔。
4. 根据权利要求l所述的烧制陶瓷用的支架，其特征在于，所述承烧托板与支撑该承烧托板 的支撑脚为一体结构。
5. 根据权利要求l所述的烧制陶瓷用的支架，其特征在于，所述承烧托板上设置有与所述支 撑脚数量相同的横向凹槽或纵向通孔，所述支撑脚通过插入相应凹槽或通孔与该承烧托板 可拆卸连接。
6. 根据权利要求4或5所述的烧制陶瓷用的支架，其特征在于，所述支撑脚的上、下端面设 置有与其他支架的支撑脚相配合的定位结构。
7. 根据权利要求6所述的烧制陶瓷用的支架，其特征在于，所述定位结构为凸凹结构。
8. 根据权利要求l、 2、 4、 5、 7之一所述的烧制陶瓷用的支架，其特征在于，所述支撑脚的 数量为3。
专利摘要为了解决现有烧制陶瓷用的支架存在的装载陶瓷制品密度低、材料用量大、能耗高的问题，本实用新型提供一种烧制陶瓷用的支架，包括承烧托板和支撑承烧托板的支撑脚，所述承烧托板具有与待烧陶瓷相适配的仿形形状，可充分利用支架承载陶瓷，极大地提高了陶瓷的装载量，并且材料用量与待烧陶瓷相适配，节约材料的同时降低了能量的损耗。
文档编号C04B35/64GK201305557SQ20082012461
公开日2009年9月9日 申请日期2008年12月12日 优先权日2008年12月12日
发明者于发明, 于锦明, 夏霞云, 张卫国, 郭占清, 郭海珠 申请人:北京创导工业陶瓷有限公司