专利名称：玻璃板的制造装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及制造玻璃板的玻璃板制造装置。
背景技术：
以往以来，在制造玻璃板时，使用溢流下拉法来进行玻璃板的成型。溢流下拉法中,在熔解槽中将玻璃原料熔融从而形成熔融玻璃,对该熔融玻璃实施澄清处理、均质化处理之后，熔融玻璃通过移送管而被供给至长条状的成型体。长条状的成型体中，在成型体的上部设置有沿长度方向延伸的沟槽部，向该沟槽部的一端供给熔融玻璃。对于该沟槽部而言，从熔融玻璃的供给侧越向长度方向的相反侧则沟槽深度越浅，因此熔融玻璃从成型体的沟槽部溢出，沿着成型体两侧的侧壁而向下方流下。沿着成型体两侧的侧壁而向下方流下的熔融玻璃在成型体的下端合流从而汇聚成一体，形成片状玻璃。另外，将熔融玻璃供给至成型体的移送管的流路截面形状一般是圆形状，成型体的沟槽部的流路截面形状为矩形或多边形形状。使移送管的流路截面形状为圆形状是因为，优选即使将高温的熔融玻璃填充至移送管内也不存在弯曲部分、能够维持强度。另一方面，使成型体的沟槽部的流路截面形状为矩形或多边形形状是因为沟槽部加工的容易性。例如，在下述专利文献I的图1、图3中公开了一种成型体，其具有流路截面形状为圆形状的移送管、和流路截面形状为矩形形状的沟槽部。该情况下，将熔融玻璃从圆形形状的移送管供给至成型体的沟槽部时，熔融玻璃的流路截面具有高度差而急剧扩大。现有技术文献专利文献·专利文献1:日本特表2008-501609号公报
实用新型内容实用新型所要解决的课题如上所述，通常情况下，将熔融玻璃供给至成型体的移送管的流路截面形状为圆形状，成型体的沟槽部的流路截面形状为矩形或多边形形状，因此将熔融玻璃从移送管供给至成型体的沟槽部时，熔融玻璃的流路截面具有高度差而急剧扩大。因此，由于熔融玻璃的流路的急剧扩大有时会导致熔融玻璃的流体的一部分容易停留在成型体的沟槽部内。熔融玻璃的流体的停留容易导致熔融玻璃的失透。另外，熔融玻璃的流体的停留易产生异质坯料，也容易导致波筋的产生。更详细地说明，若熔融玻璃的流体停留，则与其它部分的熔融玻璃相比，其与成型体的接触时间变长，因此成型体的成分从成型体的表面溶出，容易使熔融玻璃的玻璃组成局部性变化。另外，受成型体的温度的影响，熔融玻璃的粘度容易局部性发生变化。即，熔融玻璃中易产生异质坯料，其结果是:在最终产品的玻璃板上容易产生波筋，并且玻璃板的厚度容易变得不均匀。另外，对于平板显示器用玻璃板，在玻璃板上形成有TFT (薄膜晶体管)等半导体元件。近年来，为了实现显示器显示的进一步的高精细化，要求在玻璃板上形成P-Si (低温多晶硅) TFT或氧化物半导体来代替以往以来一直使用的a -Si TFT。在p_Si TFT或氧化物半导体的形成工序中，存在比a-Si *TFT的形成工序的温度更高的热处理工序。因此，对于形成有P-Si (低温多晶硅)TFT或氧化物半导体的玻璃板要求其热收缩率要小。为了减小收缩率，优选提高玻璃的应变点，但应变点高的玻璃存在液相温度增高的倾向，液相粘度(在液相温度的粘度)倾向于下降。因此，有时片状玻璃的成型所需的熔融玻璃的粘度(成型粘度)与液相粘度的差减小、或成型粘度比液相粘度大，其结果会导致玻璃容易失透。因此，由P-Si (低温多晶硅) TFT形成用或氧化物半导体形成用等玻璃、特别是液相粘度低的玻璃来制造片状玻璃时，必须竭力避免熔融玻璃的一部分流体容易停留在成型体的沟槽部内这样的情况，因为该情况有可能导致成型体的成分从成型体的表面溶出、液相粘度上升(失透的产生)。因此，为了解决以往的问题，本实用新型的目的在于提供一种玻璃板的制造装置，其中，在使用成型体来进行熔融玻璃的成型时，通过成型体的沟槽部的熔融玻璃的流体难以停留，熔融玻璃中不会产生失透或异质坯料，可以制造没有波筋且板厚均匀的高品质玻璃板。用于解决课题的方法本实用新型的一个方式涉及制造玻璃板的玻璃板制造装置。该制造装置具备:熔解槽，其中，将玻璃原料熔解从而制作熔融玻璃；成型装置，其中，一边使所述熔融玻璃流向成型体的沟槽部一边利用溢流下拉法对所述熔融玻璃进行成型，从而制作片状玻璃；和移送管，其设置在所述熔解槽与所述成型装置之间，用于将所述熔融玻璃供给至所述成型体。在所述成型体的所述沟槽部与所述移送管连接的连接端部，所述沟槽部具有沟槽宽度向着所述沟槽部的深度方向阶段性或连续性变窄的沟槽宽度狭小部分。在所述成型体的熔融玻璃流动方向，所述沟槽宽度狭小部分的沟槽宽度随着远离所述移送管而变大。如此，所述沟槽部在连接端部具有所述沟槽宽度狭小部分，因此熔融玻璃能够无停留地从所述移送管平滑地流向所述沟槽部。因此，能够将熔融玻璃在所述沟槽部的滞留时间控制在比较恒定的范围内，从而使熔融玻璃从所述沟槽部溢出。因此，难以产生玻璃的失透或异质坯料，可制造无波筋且板厚均匀的高品质玻璃板。
另外，优选的是，所述成型体的所述沟槽部具有与所述沟槽部的深度方向的位置无关的沟槽宽度为恒定的沟槽宽度恒定部分，所述沟槽宽度狭小部分相对于所述沟槽宽度恒定部分而设置在所述沟槽部的沟槽深度方向的沟槽底面侧。该情况下，流经所述沟槽部的沟槽底面附近的熔融玻璃的流体难以产生停留。因此，难以产生玻璃的失透或异质坯料，可制造无波筋且板厚均匀的高品质玻璃板。另外，优选的是，所述沟槽宽度狭小部分由平面状的沟槽底面、和相对于所述沟槽底面倾斜的倾斜面形成，所述倾斜面的区域在所述熔融玻璃流动方向随着远离所述移送管而变小。该情况下，所述沟槽部中的熔融玻璃的流路截面随着向熔融玻璃的流动方向前进而扩大，所述沟槽宽度狭小部分的沟槽宽度逐渐接近于所述沟槽宽度恒定部分的沟槽宽度，因此熔融玻璃在所述沟槽部平滑地流动、难以产生停留。因此，难以产生玻璃的失透或异质坯料，可制造无波筋且板厚恒定的高品质玻璃板。另外，优选的是，所述移送管的截面形状为圆形状，所述沟槽宽度狭小部分的所述沟槽宽度对应于所述圆形状、并且沟槽宽度向着所述沟槽部的底面阶段性或连续性变窄。另外，优选的是，所述沟槽宽度狭小部分的截面形状为半圆弧形状，在所述连接端部，按照所述移送管的截面形状的圆弧部分沿着所述沟槽宽度狭小部分的截面形状的半圆弧部分的方式来配置所述移送管。进一步，优选的是，所述沟槽宽度狭小部分由平面状的沟槽底面、和相对所述沟槽底面倾斜的倾斜面形成，所述倾斜面的区域在所述熔融玻璃流动方向随着远离所述移送管而变小，所述移送管的截面形状为圆形状，所述沟槽宽度狭小部分的所述沟槽宽度对应于所述圆形状、并且沟槽宽度向着所述沟槽部的底面阶段性或连续性变窄。这些情况下，流经所述沟槽部的沟槽底面附近的熔融玻璃的流路截面的扩大程度比以往减小，难以产生熔融玻璃的流体的停留。因此，难以产生玻璃的失透或异质坯料，可制造无波筋且板厚均匀的高品质玻璃板。即使所述熔融玻璃的应变点为655°C以上，也能够适用于所述玻璃板的制造。这样的玻璃是应变点高的玻璃，液相温度(失透温度)倾向于增高。使用该应变点为655°C以上的玻璃时，成型工序中的熔融玻璃的适合粘度(例如为40000泊以上)与玻璃的液相粘度接近，因此 容易失透。特别是，若熔融玻璃在成型时停留，则成型体的成分从成型体表面溶出，更容易失透。所述玻璃板的制造时，熔融玻璃的流体难以停留在所述成型体的所述沟槽部，因此能够抑制玻璃的失透。即使是所述熔融玻璃的应变点为675V以上的玻璃，也能够适用于所述玻璃板的制造，难以产生失透。另外，即使是所述熔融玻璃的应变点为680°C以上的玻璃，也能够适用于所述玻璃板的制造，难以产生失透。进一步，即使是所述熔融玻璃的应变点为690°C以上的玻璃，也能够适用于所述玻璃板的制造，难以产生失透。也能够使所述熔融玻璃的液相粘度为45000泊以上。这样的玻璃接近于成型工序中的适合的熔融玻璃的粘度，因此容易失透。特别是，若熔融玻璃停留在成型体中，则更容易失透。但是，在上述玻璃板的制造装置中，熔融玻璃的流体难以停留在所述成型体的所述沟槽部，因此即使是液相粘度为45000泊的情况，也能够抑制玻璃的失透，制造玻璃片。若所述熔融玻璃的液相粘度为50000泊以上，则通过适用于所述玻璃板的制造，更难以产生失透；进一步，若所述熔融玻璃的液相粘度为60000泊以上，则通过适用于所述玻璃板的制造，进一步难以产生失透，能够制造高品质的玻璃片。另外，所述玻璃板例如为平板显示器用玻璃板，例如是P-Si (低温多晶硅)TFT形成用或氧化物半导体形成用的玻璃板。p-Si (低温多晶硅)TFT形成用或氧化物半导体形成用的玻璃板的应变点高。若应变点高则液相温度具有增高的倾向，液相粘度(在液相温度的粘度)倾向于变低。因此，有时片状玻璃成型所需的熔融玻璃的粘度(成型粘度)与液相粘度的差变小、或者成型粘度比液相粘度大，其结果容易导致玻璃失透。特别是，若熔融玻璃停留在成型体，则更容易失透。因此，即使将能够使熔融玻璃难以停留在成型体的沟槽部而平滑地流动的上述方式的玻璃板的制造适用于平板显示器用玻璃板、特别是p-Si (低温多晶硅)TFT形成用或氧化物半导体形成用的玻璃板，也难以产生失透。实用新型的效果根据上述方式的玻璃板的制造装置，在使用成型体进行熔融玻璃的成型时，通过成型体的沟槽部的熔融玻璃的流体难以停留，在熔融玻璃中不会产生失透和异质坯料，可制造闻品质的玻璃板。
图1是示出本实施方式的玻璃基板的制造方法的工序的一个示例的图。图2是示意性地示出本实施方式中进行熔解工序 切断工序的装置的一个示例的图。图3(a)是示出本实施方式中的成型体与玻璃供给管的连接部分的分解立体图；图3(b)是示出本实施方式的玻璃供给管与沟槽部连接时的连接端部与沟槽部之间的相对位置的前视图；图3(c)是示出本实施方式的玻璃供给管与沟槽部连接时的连接端部与沟槽部之间的相对位置的俯视图。图4是示出以往的管扩张部与沟槽部连接时的连接端部与沟槽部之间的相对位置的前视图。图5(a)、(b)是说明变形例中的沟槽部与玻璃供给管的连接状态的图。
具体实施方式
以下对本实 用新型的玻璃板的制造装置进行详细说明。图1是示出本实施方式的玻璃基板的制造方法的工序的一个示例的图。(玻璃基板的制造方法的整体概要)玻璃基板的制造方法主要具有熔解工序(STl)、澄清工序(ST2)、均质化工序(ST3)、供给工序(ST4)、成型工序(ST5)、缓慢冷却工序(ST6)和切断工序(ST7)。除此以夕卜，还具有研削工序、研磨工序、清洗工序、检查工序、包装工序等；在包装工序中进行了层积的2个以上的玻璃基板搬运至收货方的工作人员。熔解工序(STl)在熔解槽中进行。熔解工序中，将玻璃原料投入至蓄积在熔解槽中的熔融玻璃的液面上并进行加热来制作熔融玻璃。进一步，使熔融玻璃从设置在熔解槽的内侧侧壁的I个底部的流出口流向下游工序。熔解槽的熔融玻璃的加热除了对熔融玻璃自身通电而进行自发热来加热的方法之外，也可以利用燃烧器辅助性地提供火焰来将玻璃原料熔解。需要说明的是，玻璃原料中添加有澄清剂。作为澄清剂没有特别限制，已知有Sn02、As2O3, Sb2O3等。但是，从降低环境负荷的观点出发，可以使用SnO2(氧化锡)作为澄清剂。澄清工序(ST2)至少在澄清管内进行。澄清工序中，使澄清槽内的熔融玻璃升温，由此熔融玻璃中所含有的含o2、co2或SO2的气泡会吸收因澄清剂的还原反应而生成的O2而成长，气泡上浮至熔融玻璃的液面从而放出。进一步，澄清工序中，使熔融玻璃的温度下降，从而使由澄清剂的还原反应得到的还原物质进行氧化反应。由此，熔融玻璃中残存的气泡中的O2等气体成分再次被吸收至熔融玻璃中，气泡消失。基于澄清剂的氧化反应以及还原反应能够通过控制熔融玻璃的温度来进行。需要说明的是，澄清工序能够使用减压脱泡方式，该减压脱泡方式是在澄清槽中形成减压气氛的空间、并使熔融玻璃中存在的气泡在减压气氛中成长从而进行脱泡。该情况下，即使不使用澄清剂也是有效的。需要说明的是，澄清工序中使用了将氧化锡用作澄清剂的澄清方法。在均质化工序(ST3)中，使用搅拌器对通过从澄清槽延伸出的配管而供给的搅拌槽内的熔融玻璃进行搅拌，从而进行玻璃成分的均质化。由此能够减少作为波筋等的原因的玻璃组成不均。在供给工序(ST4)中，通过从搅拌槽延伸出的配管将熔融玻璃供给至成型装置。在成型装置中，进行 成型工序(ST5)以及缓慢冷却工序(ST6)。在成型工序(ST5)中，将熔融玻璃成型为片状玻璃，形成片状玻璃的流体。成型能够使用溢流下拉法。在缓慢冷却工序(ST6)中，进行冷却以使成型流动的片状玻璃为期望的厚度、不产生内部应变、进一步不产生翘曲。在切断工序(SI7)中，在切断装置中将从成型装置供给的片状玻璃切断为规定的长度，从而得到板状的玻璃板。切断后的玻璃板进一步切断为规定的尺寸，形成目标尺寸的玻璃基板。之后，进行玻璃基板的端面的研削、研磨，进行玻璃基板的清洗，进一步，检查有无气泡等异常缺陷后，检查合格品的玻璃板作为最终产品进行包装。图2是示意性地示出本实施方式中进行熔解工序(STl) 切断工序(ST7)的装置的一个示例的图。如图2所示，该装置中主要具有熔解装置100、成型装置200和切断装置300。熔解装置100具有熔解槽101、澄清槽102、搅拌槽103和玻璃供给管104、105、106。在图2所示的熔解装置101中，玻璃原料的投入是使用料斗IOld来进行的。澄清管102中，调整熔融玻璃MG的温度从而利用澄清剂的氧化还原反应来进行熔融玻璃MG的澄清。进一步，在搅拌槽103中，利用搅拌器103a来搅拌熔融玻璃MG从而使其均质化。在成型装置200中，片状玻璃SG是通过使用了成型体210的溢流下拉法而由熔融玻璃MG成型得到的。(玻璃供给管与成型体的连接)图3(a)是示出成型体210与玻璃供给管106的连接部分的分解立体图；图3(b)是示出玻璃供给管106与沟槽部210a连接时的连接端部与沟槽部210a之间的相对位置的前视图；图3(c)是其俯视图。成型体210是在其上部形成有沟槽部210a的沿一个方向(图中的X方向)延伸的长条状的结构体。沟槽部210a的沟槽深度随着沿X方向前进而变浅。因此，供给至沟槽部210a的熔融玻璃MG从沟槽部210a溢出，沿着设置在成型体210两侧的侧壁210b垂直流向下方。沿两侧的侧壁210b流下的熔融玻璃MG在设置于成型体210的垂直下方的下方前端210c合流，聚集为一体，形成片状玻璃SG。从不产生失透和波筋的角度考虑，优选平滑地将熔融玻璃MG (熔融玻璃MG的流体难以停留)供给至这样的成型体210的沟槽部210a。特别是对于液相温度高、液相粘度接近于成型工序时的熔融玻璃的粘度(成型粘度)，或者是液相粘度小于成型粘度这样的容易失透的玻璃，必须要避免熔融玻璃MG的流体停留在沟槽部210a。成型体210的沟槽部210a沿着沟槽部210a的沟槽深度方向从上部具有沟槽宽度恒定部分和沟槽宽度狭小部分。沟槽宽度恒定部分是与沟槽深度方向的位置无关且沟槽宽度为恒定的部分。沟槽宽度狭小部分是沟槽宽度向着沟槽深度方向阶段性或连续性变窄的部分。从使熔融玻璃MG的流体平滑的方面考虑，沟槽宽度狭小部分优选沟槽宽度向着沟槽深度方向连续性变窄。沟槽宽度狭小部分相对于沟槽宽度恒定部分的沟槽部而设置在沟槽深度方向的沟槽底面侧。沟槽宽度狭小部分由平面状的沟槽底面210d、和相对该沟槽底面210d倾斜的倾斜面210e形成，倾斜面210e的区域在熔融玻璃MG流动的X方向随着远离玻璃供给管106而减小。另一方面，与成型体210的沟槽部210a连接的玻璃供给管106是移送管，其包括具有恒定的流路截面的玻璃供给管主体106a和设置在玻璃供给管主体106a的端部的板状的端部106b。玻璃供给管主体106a的流路截面呈圆形状。另外，作为玻璃供给管主体106a的流路截面形状的圆的直径小于沟槽部210a的沟槽宽度恒定部分的沟槽宽度。如此，在沟槽部210a与玻璃供给管106连接的连接端部，沟槽部210a具有沟槽宽度向着沟槽深度方向阶段性或连续性变窄的沟槽宽度狭小部分。在成型体210的熔融玻璃MG流动的X方向，该沟槽宽度狭小部分的沟槽宽度(在沟槽深度方向相同位置的沟槽宽度)随着远离玻璃供给管106而增大，变得与沟槽宽度恒定部分的沟槽宽度相同。因此，沟槽宽度狭小部分的沟槽宽度越靠近玻璃供给管106越小,从而使从玻璃供给管106流通至沟槽部210a的熔融玻璃MG的流路截面不会在与玻璃供给管106接触位置急剧扩大。如图3(b)所示，对应于玻璃供给管主体106a的圆形状的截面形状中的沟槽底面210d附近的形状设置有沟槽宽度狭小部分，因此能够抑制从玻璃供给管106流经沟槽部210a的沟槽底面附近的熔融玻璃MG的流路截面扩大的程度。进一步，流经沟槽部210a的沟槽底面附近的熔融玻璃MG按照沟槽宽度狭小部分的截面形状而沿X方向前进，伴随于此，沟槽宽度逐渐扩大，最终形成为沟槽宽度恒定部分的沟槽宽度。即，从玻璃供给管106流经沟槽部210a的熔融玻璃MG逐渐地扩大流路截面，因此难以产生熔融玻璃MG的停留。图4是示出 不具有上述沟槽宽度狭小部分而具有以往的矩形形状的截面形状的沟槽部210a’、和具有圆形状的截面形状的玻璃供给管106’的关系的图。与图3(b)所示的实施方式相比，在图4所示的示例中，在区域Y流动的熔融玻璃MG的流路截面扩大的程度较大。因此，从玻璃供给管106’流经沟槽部210a’的区域Y附近的熔融玻璃MG的流体容易停留。(变形例)图5(a)、图5(b)是示出具有与上述实施方式不同的沟槽部形状的变形例。如图5 (a)所示，从沟槽部210a与玻璃供给管106连接的连接端的截面来看，沟槽部210a具有设置于沟槽部210a的图中上方的沟槽宽度恒定部分、和设置于下方的沟槽宽度狭小部分。沟槽宽度狭小部分的截面形状为半圆弧形状，其是对应于具有圆形状的截面形状的玻璃供给管主体106a而由曲面210f而形成的。玻璃供给管主体106a是按照玻璃供给管主体106a的截面形状的圆弧部分在连接端沿着沟槽宽度狭小部分的截面形状的圆弧部分(曲面210f)的方式而设置的。另外，如图5(b)所示，沟槽部210a的曲面210f的区域越远离玻璃供给管106 (玻璃供给管主体106a)(越向X方向前进)，则曲面210f的区域逐渐变窄。即，在成型体210的熔融玻璃MG的流动方向，沟槽宽度狭小部分的沟槽宽度随着远离玻璃供给管106而增大。[0068]本变形例中，与上述的实施方式同样，沟槽宽度狭小部分设置在沟槽宽度恒定部分的沟槽部210a的沟槽深度方向的沟槽底面侧，因此特别难以产生流经沟槽部210a的曲面210f附近的熔融玻璃MG的流体的停留。因此，本变形例难以产生玻璃的失透或异质坯料，可制造无波筋且板厚均匀的高品质玻璃板。另外，沟槽部210a的曲面210f的区域越远离玻璃供给管106 (玻璃供给管主体106a)(越向X方向前进)，则曲面210f的区域变窄。因此，流经沟槽部210a的熔融玻璃MG的流路断面逐渐扩大而变成沟槽宽度恒定部分的流路截面，因此难以产生熔融玻璃MG的流动的停留。因此，本实施方式难以产生玻璃的失透或异质坯料，可制造无波筋且板厚均匀的高品质玻璃板。(玻璃板的特性、适用)将本实施方式的玻璃板用于平板显示器用玻璃板的情况下，可以举出按照具有以下的玻璃组成的方式来混合玻璃原料的示例。含有下述成分的无碱玻璃。SiO2:50 质量 ％ 70 质量 ％、Al2O3:0 质量 ％ 25 质量 ％、B2O3: I 质量 % 15 质量 ％、
·[0076]MgO:0 质量 ％ 10 质量 ％、CaO:0 质量 ％ 20 质量 ％、SrO:0 质量 ％ 20 质量 ％、BaO:0 质量 ％ 10 质量 ％、RO:5质量％ 30质量％(其中，R是Mg、Ca、Sr以及Ba的总量)需要说明的是,本实施方式中为无碱玻璃，但玻璃基板也可以是微量含有碱金属的微量含碱玻璃。含有碱金属的情况下，R’ 20的总含量优选为0.10质量％以上且0.5质量％以下、更优选为0.20质量％以上且0.5质量％以下(其中，R’是选自L1、Na以及K中的至少I种，并且是玻璃基板所含有的物质)。当然，R’ 20的总量可以低于0.10质量％。另外，使用本实施方式的玻璃板的制造装置的情况下，除了上述各成分之外，玻璃组成物还能够含有0.01质量％ I质量％(优选为0.01质量％ 0.5质量％)的Sn02、0质量％ 0.2质量％(优选为0.01质量％ 0.08质量％)的Fe2O3,考虑到环境负荷，可以按照实质上不含有As203、Sb2O3以及PbO的方式调制玻璃原料。另外，近年来，为了实现平板显示器的画面显示的进一步的高精细化，要求使用P-Si (低温多晶硅) TFT或氧化物半导体而非a-Si (非晶硅) TFT的显示器。此处，在P-Si (低温多晶硅)TFT或氧化物半导体的形成工序中，存在有比a -S1-TFT的形成工序温度高的热处理工序。因此，对于形成有P-Si TFT或氧化物半导体的玻璃板要求其热收缩率小。为了减小热收缩率，优选提高应变点，但如上所述，应变点高的玻璃倾向于液相温度增高、液相粘度下降。即，上述液相粘度接近于成型工序中的熔融玻璃的适合粘度。因此，为了抑制失透，更加强烈要求使熔融玻璃MG的流体不停留在成型体210的沟槽部210a。本实施方式以及变形例中，熔融玻璃MG的流体难以停留。因此，本实施方式的玻璃板的制造装置也能够适用于例如使用了应变点为655°C以上的玻璃的玻璃板。特别是在使用了适合于p-Si TFT或氧化物半导体的应变点为655°C以上、应变点为680°C以上、进一步应变点为690°C以上的玻璃的玻璃板的情况下，利用本实施方式的玻璃板的制造装置难以产生失透。另外，即使在使用了液相粘度为45000泊以上的玻璃、进一步液相粘度为50000泊以上的玻璃、特别是液相粘度为60000泊以上的玻璃的玻璃板的情况下，也能够使用本实施方式的玻璃板的制造装置，难以产生失透。将应变点为655°C以上或液相粘度为45000泊以上的玻璃用于玻璃板时，可以举出:作为玻璃组成，以质量％表示，例如玻璃板可含有以下成分。优选含有如下成分，且质量比(Si02+Al203)/B203在7 20范围的无碱玻璃或微量含碱玻璃。SiO2 52 质量 ％ 78 质量 ％Al2O3 3 质量 ％ 25 质量 ％B2O3 3质量％ 15质量％RO (其中，R是选自Mg、Ca、Sr、以及Ba的玻璃板所含有的全部成分中的至少I种)3
质量％ 20质量％进一步，为了更加提高应变点，优选质量比(Si02+Al203)/R0为7.5以上。进一步，为了提高应变点，优选使P -OH值为0.1mm 1 0.3mm、进一步，为了实现高应变点同时防止液相粘度下降，优选使Ca0/R0为0.65以上。考虑到环境负荷，可以按照实质上不含有As203、Sb2O3以及PbO来调制玻璃原料。进一步，除了上述成分之外，为了调节玻璃的各种各样的物理特性、熔融、澄清、以及成型的特性，用于本实施方式的`玻璃板的玻璃可以含有各种各样的其它氧化物。作为这样的其它氧化物的示例并不限于以下物质，但可以举出Sn02、TiO2, MnO、ZnO, Nb2O5, MoO3>Ta2O5, WO3> Y2O3以及La203。此处，液晶显示器或有机EL显示器等平板显示器用玻璃板中，对气泡的要求特别严格，因此优选上述氧化物中至少含有澄清效果大的Sn02。对于上述RO的供给源可以使用硝酸盐或碳酸盐。需要说明的是，为了提高熔融玻璃的氧化性，更期望以适合于工序的比例使用硝酸盐作为RO的供给源。以上，对本实用新型的玻璃板的制造装置进行了详细说明，但本实用新型并不限于上述实施方式，在不脱离本实用新型的主体思想的范围内，可以进行各种各样的改良及变更，这自不必而言。符号说明100熔解装置101熔解槽IOld 料斗102澄清槽103搅拌槽103a 搅拌器104、105、106、106’ 玻璃供给管106a玻璃供给管主体106b管扩张部200成型装置[0106]210成型体210a、210a，沟槽部210b 侧壁210c下方前端210d沟槽底面2IOe 倾斜面210f 曲面300切断 装置
权利要求1.一种玻璃板的制造装置，其是制造玻璃板的玻璃板制造装置，其特征在于， 该玻璃板的制造装置具备: 熔解槽，其中，将玻璃原料熔解从而制作熔融玻璃； 成型装置，其中，一边使所述熔融玻璃流向成型体的沟槽部一边利用溢流下拉法对所述熔融玻璃进行成型，从而制作片状玻璃；和 移送管，其设置在所述熔解槽与所述成型装置之间，用于将所述熔融玻璃供给至所述成型体， 在所述成型体的所述沟槽部与所述移送管连接的连接端部，所述沟槽部具有沟槽宽度向着所述沟槽部的深度方向阶段性或连续性变窄的沟槽宽度狭小部分， 在所述成型体的熔融玻璃流动方向，所述沟槽宽度狭小部分的沟槽宽度随着远离所述移送管而变大。
2.如权利要求1所述的玻璃板的制造装置，其中，所述成型体的所述沟槽部具有与所述沟槽部的深度方向的位置无关、且沟槽宽度为恒定的沟槽宽度恒定部分，所述沟槽宽度狭小部分相对于所述沟槽宽度恒定部分而设置在所述沟槽部的沟槽深度方向的沟槽底面侧。
3.如权利要求1或权利要求2所述的玻璃板的制造装置，其中，所述沟槽宽度狭小部分由平面状的沟槽底面、和相对于所述沟槽底面倾斜的倾斜面形成，所述倾斜面的区域在所述熔融玻璃流动方向随着远离所述移送管而变小。
4.如权利要求1或权利要求2所述的玻璃板的制造装置，其中， 所述移送管的截面形状为圆形状， 所述沟槽宽度狭小部分的所述沟槽宽度对应于所述圆形状、并且沟槽宽度向着所述沟槽部的底面阶段性或连续性变窄。
5.如权利要求4所述的玻璃板的制造装置，其中， 所述沟槽宽度狭小部分的截面形状为半圆弧形状， 在所述连接端部中，按照所述移送管的截面形状的圆弧部分沿着所述沟槽宽度狭小部分的截面形状的半圆弧部分的方式来配置所述移送管。
6.如权利要求1或权利要求2所述的玻璃板的制造装置，其中， 所述沟槽宽度狭小部分由平面的沟槽底面、和相对于所述沟槽底面倾斜的倾斜面形成，所述倾斜面的区域在所述熔融玻璃流动的方向随着远离所述移送管而变小， 进一步，所述移送管的截面形状为圆形状， 所述沟槽宽度狭小部分的所述沟槽宽度对应于所述圆形状、并且沟槽宽度向着所述沟槽部的底面阶段性或连续性变窄。
专利摘要本实用新型提供一种玻璃板的制造装置，其中，在使用成型体进行熔融玻璃的成型时，通过成型体的沟槽部的熔融玻璃的流体难以停留，熔融玻璃中不会产生失透和异质坯料，可制造高品质的玻璃板。制造玻璃板时，在成型体的沟槽部与移送管连接的连接端部，所述沟槽部具有沟槽宽度向着所述沟槽部的深度方向阶段性或连续性变窄的沟槽宽度狭小部分。在所述成型体的熔融玻璃流动方向，所述沟槽宽度狭小部分的沟槽宽度随着远离所述移送管而变大。
文档编号C03B17/06GK203128398SQ20132007809
公开日2013年8月14日 申请日期2013年2月20日 优先权日2012年4月11日
发明者苅谷浩幸 申请人:安瀚视特控股株式会社