一种掺杂硼化镧azo低辐射镀膜玻璃及其制备方法
【专利摘要】本发明提供一种掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层自内向外依次包括：第一层TiOx、第二层：LaB6-AZO、第三层：Ag、第四层：NiCr、第五层：LaB6-AZO、第六层：Si3N4。还公开了这种镀膜玻璃的制备方法。本发明镀膜玻璃具有以下优点：本镀膜玻璃可见光透过率较高，透过率相对AZO可提高3～4%；在Low-E产品中，作为Ag的打底层与Ag的结合力更好；辐射率低；产品性能稳定，适于大规模生产，光学及热学性能稳定。该玻璃具有良好的外观颜色，膜层不易脱落等特点，可夹层或合中空使用。
【专利说明】一种掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种镀膜玻璃，更具体的涉及一种掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃及其制备方法。
【背景技术】
[0002]目前，透明介质膜在大面积镀膜玻璃中的应用十分广泛。其中，陶瓷态氧化锌铝(AZO)由于溅射速率快，可使用纯Ar进行溅射，溅射条件易控，可节省隔气靶位且薄膜可见光透过高等优点而得到广泛研究及应用。但是，陶瓷态AZO靶在安装使用一段时间后，表面容易出现结瘤放电现象，严重影响了靶材的使用功率和寿命，同时也会造成镀膜产品存在颜色波动的隐患。AZO膜层作为Ag的打底层容易脱膜。
【发明内容】
[0003]本发明的目的是针对现有技术的技术缺陷，本发明旨在提供一种低辐射镀膜玻璃，为实现以上技术目标，本发明采用以下技术方案:一种掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层自内向外依次包括:第一层TiOx、第二层:LaB6-AZ0、第二层:Ag、弟四层:NiCr、弟五层:LaB6_AZ0、弟/、层:Si3N4，弟二层Ag打底层是LaB6-AZO。
[0004]进一步，所述的LaB6-AZO层采用真空磁控溅射法直接溅射掺入LaB6的氧化锌铝靶材，其中LaB6掺入量是2.5~10wt%。
[0005]—种掺杂硼化镧AZO低福射镀膜玻璃,第一层TiOx厚度为15~25nm、第二层:LaB6-AZO厚度为20~30nm、第三层:Ag厚度为5~15nm、第四层:NiCr厚度I~5nm、第五层=LaB6-AZO厚度15~25nm、第六层=SiNx厚度20~45nm。
[0006]一种掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤:
[0007](I)使用丙酮、无水乙醇和去离子水依次超声清洗玻璃基片；
[0008](2)烘干；
[0009](3)放入真空腔室内进行抽真空；
[0010](4)达到真空度后充入1200sccm纯Ar气派射陶瓷氧化钛祀材进行祀表清洁,5min后纯氩溅射进行TiOx薄膜的制备；
[0011](5)达到厚度后关闭该靶，依次纯氩进行靶表清洁和掺杂LaB6的AZO靶、Ag靶、NiCr靶和顶层LaB6的AZO膜层；
[0012](6)用纯Ar进行靶表清洁，然后使用Ar =N2为1: 1.6的混合气体溅射制备SiNx膜。
[0013]掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃镀光学参数为:LaB6-AZ0薄膜在550nm处光波的折射率为1.75~2.1，消光系数约为O。
[0014]本发明玻璃基片厚度包括:4、5、6、8、10、12、15、19mm。玻璃颜色包括:超白玻、白
玻、绿玻、灰玻、水晶灰玻、蓝玻、海洋蓝玻、茶色玻璃等。玻璃结构包括:夹层玻璃、彩釉玻璃、钢化玻璃、半钢化玻璃、退火玻璃、防火玻璃、中空玻璃等。
[0015]本发明镀膜玻璃具有以下优点:[0016]1.本镀膜产品可见光透过率较高，透过率相对AZO可提高3~4% ；
[0017]2.该膜层表面更加平整，在Low-E产品中，作为Ag的打底层与Ag的结合力更好；
[0018]3.该材料膜层的辐射率比未掺杂LaB6的AZO辐射率低；
[0019]4.产品性能稳定，适于大规模生产，光学及热学性能稳定。该玻璃具有良好的外观颜色，膜层不易脱落等特点。可夹层或合中空使用。
【专利附图】
【附图说明】
[0020]图1掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃结构示意图
[0021]图2玻面反射光谱
[0022]图3膜面反射光谱
[0023]图4透过光谱
【具体实施方式】
[0024]为了阐明本发明的技术方案及技术目的，下面结合附图及【具体实施方式】对本发明做进一步的介绍。
[0025]实施例1
[0026]一种掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层自内向外依次包括:第一层TiOx、第二层:LaB6-AZ0`、第三层:Ag、第四层:NiCr、第五层:LaB6_AZ0、第/、层:Si3N4，弟二层 Ag 打底层是 LaB6_AZ0。
[0027]第一层TiOx厚度为20nm、第二层LaB6-AZO厚度为24nm、第三层Ag厚度为6nm、第四层NiCr厚度1.9nm、第五层LaB6-AZO厚度18nm、第六层SiNx厚度30nm。
[0028]所述的LaB6-AZO层采用真空磁控溅射法直接溅射掺入LaB6的氧化锌铝靶材，其中LaB6掺入量是5wt%。
[0029]实施例2
[0030]一种掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层自内向外依次包括:第一层TiOx、第二层:LaB6-AZ0、第三层:Ag、第四层:NiCr、第五层:LaB6_AZ0、第/、层:Si3N4，弟二层 Ag 打底层是 LaB6_AZ0。
[0031]第一层TiOx厚度为12nm、第二层LaB6-AZO厚度为30nm、第三层Ag厚度为15nm、第四层NiCr厚度3nm、第五层LaB6-AZO厚度25nm、第六层SiNx厚度20nm。
[0032]所述的LaB6-AZO层采用真空磁控溅射法直接溅射掺入LaB6的氧化锌铝靶材，其中LaB6掺入量是10wt%。
[0033]实施例3
[0034]一种掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层自内向外依次包括:第一层TiOx、第二层:LaB6-AZ0、第三层:Ag、第四层:NiCr、第五层:LaB6_AZ0、第/、层:Si3N4，弟二层 Ag 打底层是 LaB6_AZ0。
[0035]第一层TiOx厚度为25nm、第二层LaB6-AZO厚度为20nm、第三层Ag厚度为10nm、第四层NiCr厚度5nm、第五层LaB6-AZO厚度15nm、第六层SiNx厚度45nm。
[0036]所述的LaB6-AZO层采用真空磁控溅射法直接溅射掺入LaB6的氧化锌铝靶材，其中LaB6掺入量是2.5wt%。[0037]实施例4
[0038]上述镀膜玻璃的制备过程为:
[0039](I)使用丙酮、无水乙醇和去离子水依次超声清洗玻璃基片；
[0040](2)烘干；
[0041](3)放入真空腔室内进行抽真空；
[0042](4)达到真空度后充入1200sccm纯Ar气派射陶瓷氧化钛祀材进行祀表清洁,5min后纯氩溅射进行TiOx薄膜的制备；
[0043](5)达到厚度后关闭该靶，依次纯氩进行靶表清洁和掺杂LaB6的AZO靶、Ag靶、NiCr靶和顶层LaB6的AZO膜层；
[0044](6)用纯Ar进行祀表清洁,然后使用Ar:N2为1:1.6的混合气体派射制备SiNx膜。
[0045]实施例5
[0046]如附图2-4所示:实施例1的镀膜玻璃的光谱图。
[0047]玻面反射Rg:4.54,玻面亮度L*g:61.04,膜面颜色值a*g: 1.83、b*g:_l.86。上述颜色为最优颜色，实际各项可以偏差0.8。
[0048]膜面反射Rf: 6.34，膜面亮度L*f:30.25，膜面颜色值84、b*f:9.58。上述颜色为最优颜色，实际各项可以偏差0.8。
[0049]玻璃透过Τ:77.29,透过亮度L*t:90.45,颜色坐标a*t:_l.7,b*t:_2.04。上述颜色为最优颜色，实际各项可以偏差0.8。
[0050]以上对本发明的实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明。凡在本发明的申请范围内所做的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层自内向外依次包括:第一层:TiOx、第二层:LaB6-AZ0、第三层:Ag、第四层:NiCr、第五层:LaB6-AZ0、第六层=Si3N40
2.根据权利要求1所述一种掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的LaB6-AZO层采用真空磁控溅射法直接溅射掺入LaB6的氧化锌铝靶材，其中LaB6掺入量是2.5 ?10wt%。
3.根据权利要求1所述一种掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的LaB6-AZO层采用真空磁控溅射法直接溅射掺入LaB6的氧化锌铝靶材，其中LaB6掺入量是3?8wt%0
4.根据权利要求1所述一种掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的LaB6-AZO层采用真空磁控溅射法直接溅射掺入LaB6的氧化锌铝靶材，其中LaB6掺入量是4?6wt%。
5.根据权利要求1所述一种掺杂硼化镧AZO低福射镀膜玻璃,其特征在于:第一层TiOx厚度为15?25nm、第二层:LaB6-AZO厚度为20?30nm、第三层:Ag厚度为5?15nm、第四层:NiCr厚度I?5nm、第五层:LaB6_AZ0厚度15?25nm、第六层:SiNx厚度20?45nm。
6.根据权利要求5所述一种掺杂硼化镧AZO低福射镀膜玻璃,其特征在于,第一层TiOx厚度为20nm、第二层=LaB6-AZO厚度为24nm、第三层:Ag厚度为6nm、第四层=NiCr厚度1.9nm、第五层:LaB6_AZ0厚度18nm、第六层:SiNx厚度30nm。
7.根据权利要求6所述一种掺杂硼化镧AZO低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，其中加工方法为: (O使用丙酮、无水乙醇和去离子水依次超声清洗玻璃基片； (2)烘干; (3)放入真空腔室内进行抽真空； (4)达到真空度后充入1200sccm纯Ar气派射陶瓷氧化钛祀材进行祀表清洁,5min后纯氩溅射进行TiOx薄膜的制备； (5)达到厚度后关闭该靶，依次纯氩进行靶表清洁和掺杂LaB6的AZO靶、Ag靶、NiCr靶和顶层LaB6的AZO膜层； (6)用纯Ar进行靶表清洁，然后使用Ar=N2为1: 1.6的混合气体溅射制备SiNx膜。
【文档编号】C03C17/36GK103753896SQ201410009006
【公开日】2014年4月30日 申请日期:2014年1月6日 优先权日:2014年1月6日
【发明者】王勇, 胡冰, 刘双, 王烁 申请人:天津南玻节能玻璃有限公司