半导体光电器件衬底减薄方法与流程

文档序号:17700504发布日期:2019-05-17 22:18阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明提供一种衬底减薄方法,包括:将衬底(302)置于摆放平台(303)上的衬底模拟图形(305)中;将固定有单面膜的支撑框架(301)与摆放平台(303)嵌套重合,使得衬底(302)粘贴在单面膜上,其中,单面膜的粘性面与衬底(302)的外延层面接触;将粘贴有衬底(302)的支撑框架(301)固定在切削机床的微孔吸盘上;利用切削机床沿衬底(302)的解理边晶向对衬底进行切削,以减薄衬底(302)。该方法具有操作简单、耗材较少、污染少及处理方便等优点,提高器件产品性能和良率,能够同时对多片衬底进行加工,适用于各种异形衬底,加工效率大幅提升,加工的衬底表面具有最小的表面损伤和理想的表面粗糙度,保证器件的性能和芯片成品率。

技术研发人员:李伟;刘素平;马骁宇
受保护的技术使用者:中国科学院半导体研究所
技术研发日:2019.01.21
技术公布日:2019.05.17
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