1.一种防溢结构，其特征在于，包括：
第一电极(10)和第二电极(20)，所述第一电极(10)和所述第二电极(20)间隔设置；
绝缘安装座(30)，所述绝缘安装座(30)的外表面上设置有凹槽(31)，所述第一电极(10)设置在所述绝缘安装座(30)内，并且所述第一电极(10)的部分从所述凹槽(31)的槽底伸出，所述凹槽(31)的槽壁与所述第一电极(10)伸出部分的外表面之间的距离沿所述槽底至所述凹槽(31)的开口的方向逐渐增大。
2.根据权利要求1所述的防溢结构，其特征在于，所述凹槽(31)的槽底的外边缘与所述第一电极(10)伸出部分的外表面之间的距离为D1，所述凹槽(31)的槽壁的母线与所述第一电极(10)的中心线形成的夹角为A1，其中，0.1mm≤D1≤10mm，3°≤A1≤80°。
3.根据权利要求2所述的防溢结构，其特征在于，0.7mm≤D1≤5mm，10°≤A1≤60°。
4.根据权利要求2所述的防溢结构，其特征在于，所述凹槽(31)的开口的径向尺寸为D2，其中，2mm≤D2≤25mm。
5.根据权利要求4所述的防溢结构，其特征在于，4mm≤D2≤10mm。
6.根据权利要求1所述的防溢结构，其特征在于，所述第一电极(10)伸出所述凹槽(31)的槽底的部分凸出于所述凹槽(31)的开口。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的防溢结构，其特征在于，所述第二电极(20)设置在所述绝缘安装座(30)上，所述第二电极(20)的至少部分裸露在所述绝缘安装座(30)的外部。
8.根据权利要求7所述的防溢结构，其特征在于，所述凹槽(31)位于所述绝缘安装座(30)的端壁上，所述第二电极(20)设置在所述绝缘安装座(30)的周向侧壁上。
9.根据权利要求8所述的防溢结构，其特征在于，所述绝缘安装座(30)的端部具有扩口结构(32)，所述第二电极(20)位于所述扩口结构(32)的上方，所述凹槽(31)形成在所述扩口结构(32)内，所述扩口结构(32)的外侧壁与所述第一电极(10)的外表面之间的距离沿所述凹槽(31)的槽底至所述凹槽(31)的开口的方向逐渐增大。
10.根据权利要求9所述的防溢结构，其特征在于，所述扩口结构(32)的外侧壁的母线与所述第一电极(10)的中心线形成的夹角为A2，其中，3°≤A2≤80°。
11.根据权利要求10所述的防溢结构，其特征在于，10°≤A2≤60°。
12.根据权利要求8所述的防溢结构，其特征在于，所述第二电极(20)为导电片，所述第一电极(10)伸出所述凹槽(31)的槽底的部分形成第一有效防溢部，所述第二电极(20)裸露在所述绝缘安装座(30)的外部的部分形成第二有效防溢部，在所述第一电极(10)的长度方向上，所述第二有效防溢部靠近所述凹槽(31)的边沿与所述第一有效防溢部的端面之间的距离为D3，其中，0.5mm≤D3≤60mm。
13.根据权利要求12所述的防溢结构，其特征在于，2mm≤D3≤30mm。
14.根据权利要求12所述的防溢结构，其特征在于，在所述第一电极(10)的长度方向上，所述第二有效防溢部远离所述凹槽(31)的边沿与所述第一有效防溢部的端面之间的距离为D4，其中，1.5mm≤D4≤60mm。
15.根据权利要求14所述的防溢结构，其特征在于，3mm≤D4≤30mm。
16.根据权利要求8所述的防溢结构，其特征在于，所述防溢结构还包括用于感知温度的第三电极(40)，所述第三电极(40)设置在所述绝缘安装座(30)的周向侧壁上，并位于所述第二电极(20)的上方。
17.根据权利要求16所述的防溢结构，其特征在于，所述第三电极(40)裸露在所述绝缘安装座(30)的外部的部分的最低点与所述第二电极(20)裸露在所述绝缘安装座(30)的外部的部分的最低点之间的距离为D5，其中，1mm≤D5≤40mm。
18.根据权利要求17所述的防溢结构，其特征在于，3mm≤D5≤15mm。
19.根据权利要求17所述的防溢结构，其特征在于，所述第三电极(40)为多个，多个所述第三电极(40)沿所述绝缘安装座(30)轴向方向间隔设置，每相邻的两个所述第三电极(40)之间的距离为D6，其中，1mm≤D6≤40mm。
20.根据权利要求19所述的防溢结构，其特征在于，3mm≤D6≤25mm。
21.根据权利要求1至6中任一项所述的防溢结构，其特征在于，所述第二电极(20)与所述绝缘安装座(30)间隔设置，所述第一电极(10)与所述第二电极(20)之间的距离为D7，其中，2mm≤D7≤150mm。
22.根据权利要求21所述的防溢结构，其特征在于，5mm≤D7≤100mm。
23.一种烹饪器具，包括主体(50)、盖设在所述主体(50)上的盖体(60)以及设置在所述盖体(60)的内侧的防溢结构，其特征在于，所述防溢结构为权利要求1至22中任一项所述的防溢结构。