技术特征：
技术总结
提供了一种用于胶版印刷的铅版的制造方法，以及一种使用该方法制造的用于胶版印刷的铅版。所述用于胶版印刷的铅版的制造方法包括以下步骤：在基板上形成遮光掩模图案；在上面形成有遮光掩模图案的基板上形成负性光致抗蚀剂层；通过向基板施加光来使负性光致抗蚀剂层曝光；以及通过使曝光后的负性光致抗蚀剂层经受显影来形成具有突出凸雕部分和显影凹槽图案的负性光致抗蚀剂图案层，其中负性光致抗蚀剂层的平均厚度为3μm以上，负性光致抗蚀剂图案层具有线宽不同的至少两种凹槽图案，并且所述至少两种凹槽图案之间的线宽差为10μm以上且所述至少两种凹槽图案彼此连接。
技术研发人员：孙镛久;李承宪
受保护的技术使用者：株式会社LG化学
技术研发日：2016.08.26
技术公布日：2017.08.29