一种显示面板及其制造方法、显示装置的制造方法

文档序号:8381898阅读:267来源:国知局
一种显示面板及其制造方法、显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及半导体技术领域,特别涉及一种显示面板及其制造方法、显示装置。
【背景技术】
[0002]平板显示屏在人们的生活中随处可见,其中的一个重要组成部分就是显示面板。现有的显示面板通常包括透明基板和遮蔽层,透明基板上划分有显示区和边框区,边框区围绕显示区设置,遮蔽层设于透明基板的边框区,该遮蔽层主要用于遮蔽信号线并起到装饰作用。
[0003]为了得到不同的产品外观,边框区需要呈现黑色或非黑色。如果遮蔽层是采用黑色光阻在透明基板上形成,那么边框就为黑色。而如果遮蔽层设置为包括黑色光阻层和非黑色光阻层,且非黑色光阻层设置在黑色光阻层与透明基板之间,则非黑色光阻层可以阻挡黑色光阻层的颜色透出来,从而使得边框区呈现非黑色。
[0004]在实现本发明的过程中,发明人发现现有技术至少存在以下问题:
[0005]若非黑色光阻层不能达到一定的厚度,则边框区呈现的颜色将偏暗,尤其是白色边框将会发青,影响美观。而若非黑色光阻层的厚度足以阻挡黑色光阻层的颜色透过,则会使得遮蔽层厚度过大。

【发明内容】

[0006]为了解决现有技术的问题,本发明实施例提供了一种显示面板及其制造方法、显示装置,其可以在保证边框显示非黑色的同时,降低非黑色边框的遮蔽层的厚度。所述技术方案如下:
[0007]第一方面,本发明实施例提供了一种显示面板,所述显示面板包括透明基板、非黑色光阻层、和黑色光阻层,所述透明基板划分为边框区和显示区,所述边框区围绕所述显示区设置,所述非黑色光阻层和黑色光阻层依次设于所述透明基板的所述边框区上,所述黑色光阻层和非黑色光阻层的交接面设有漫反射结构。
[0008]其中,所述漫反射结构为形成于所述非黑色光阻层的与所述黑色光阻层相对的表面的多个凸起结构。
[0009]可选地,所述漫反射结构与所述非黑色光阻层为一体结构,或者,所述漫反射结构与所述非黑色光阻层为两层独立的结构。
[0010]可选地,所述多个凸起结构构成规则的图案或不规则的图案。
[0011 ] 优选地,所述规则的图案或不规则的图案为纳米级图案。
[0012]可选地,所述漫反射结构为设置于所述非黑色光阻层的与所述黑色光阻层相对的表面上的反光颗粒。
[0013]可选地,所述显示面板为一体化触控面板,所述一体化触控面板还包括电极层,所述电极层形成于所述透明基板的显示区并从所述显示区延伸至所述黑色光阻层上。
[0014]优选地,所述漫反射结构的厚度为0.3 μm-0.7 μm。
[0015]优选地,所述非黑色光阻层的厚度为10μπι-13μπι。
[0016]更优选地,所述非黑色光阻层的厚度为10μπι-12μπι。
[0017]优选地,所述显示面板还包括形成在所述电极层上的保护层。
[0018]第二方面,本发明实施例还提供了一种显示装置,该显示装置包括前述第一方面提供的显示面板。
[0019]第三方面,本发明实施例提供了一种显示面板的制造方法,所述制造方法包括:
[0020]提供透明基板;
[0021]在所述透明基板上形成非黑色光阻层;
[0022]在所述非黑色光阻层上形成漫反射结构;
[0023]在所述非黑色光阻层上形成黑色光阻层。
[0024]优选地,所述漫反射结构采用纳米压印法或者激光干涉光刻法形成。
[0025]可选地,所述制造方法还包括:
[0026]在所述透明基板上形成电极层,所述电极层形成于所述透明基板的显示区并从所述显示区延伸至所述黑色光阻层上。
[0027]优选地,所述制造方法还包括:
[0028]在所述电极层上形成保护层。
[0029]本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是:
[0030]本发明实施例在黑色光阻层和非黑色光阻层的交接面设置漫反射结构,外界光线从透明基板入射,经过非黑色光阻层,到达该漫反射结构,该漫反射结构可以降低黑色光阻层的反射率,而黑色光阻层的反射率降低时,人眼可以看到的黑色光阻层的颜色变浅,只需要较薄的非黑色光阻层即可遮住黑色光阻层的颜色,从而可以降低非黑色光阻层的厚度,进而降低非黑色边框的遮蔽层的厚度。
【附图说明】
[0031]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0032]图1是本发明实施例一提供的一种显示面板的俯视结构示意图;
[0033]图2是本发明实施例一提供的显示面板的截面示意图;
[0034]图3a显示了现有的显示面板在设定的入射条件下的反射效果;
[0035]图3b显示了本发明实施例的显示面板在与图3a相同的入射条件下的反射效果;
[0036]图3c显示了现有的显示面板在图3a采用的入射条件下人眼看到的颜色效果;
[0037]图3d显示了本发明实施例的显示面板在与图3a相同的入射条件下人眼看到的颜色效果;
[0038]图4是本发明实施例二提供的一种显示面板的俯视结构示意图;
[0039]图5是本发明实施例二提供的显示面板的结构示意图;
[0040]图6为本发明实施例二提供的显不面板的截面不意图;
[0041]图7是本发明实施例四提供的显示面板的制造方法的流程图;和
[0042]图8a_8d是本发明实施例四提供的采用纳米压印法制造漫反射结构的制造过程图。
【具体实施方式】
[0043]为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
[0044]实施例一
[0045]本发明实施例提供了一种显示面板,参见图1,该显示面板包括透明基板1,该透明基板I划分为边框区Ia和显示区lb,边框区Ia围绕所述显示区Ib设置。
[0046]结合图2,图2为图1所示显示面板的截面示意图,如图2所示,该显示面板还包括非黑色光阻层2、和黑色光阻层3,非黑色光阻层2和黑色光阻层3依次设于透明基板I的边框区Ia上,黑色光阻层2和非黑色光阻层3的交接面设有漫反射结构5。
[0047]图3a和图3b分别显示了本发明实施例中的显示面板的遮蔽层和现有的显示面板的遮蔽层对从透明基板侧入射的光线的反射情况,光线入射条件(包括入射角度和光线强度等)相同。其中,现有的显示面板与本实施例的显示面板的结构基本相同,差别仅在于现有的显示面板的非黑色光阻层2和黑色光阻层3之间没有设置漫反射结构。从图3a中可以看出,在现有的显示面板中,从透明基板I入射的光线Al到达非黑色光阻层2和黑色光阻层3的交接面40时发生了反射,反射光BI的出射方向相同,从而人眼看到的黑色光阻层的颜色较深,如图3c所示;而从3b可以看出,在本发明实施例中,从透明基板I入射的光线A2到达非黑色光阻层2和黑色光阻层3之间的漫反射结构5时,形成了漫反射,即反射光B2的方向不同,从而人眼看到的黑色光阻层的颜色明显变浅,如图3d所示。
[0048]如前所述,本发明实施例在黑色光阻层和非黑色光阻层的交接面设置漫反射结构,外界光线从透明基板入射,经过非黑色光阻层,到达该漫反射结构,该漫反射结构可以降低黑色光阻层的反射率,而黑色光阻层的反射率降低时,人眼可以看到的黑色光阻层的颜色变浅,只需要较薄的非黑色光阻层即可遮住黑色光阻层的颜色,从而可以降低非黑色光阻层的厚度,进而降低非黑色边框的遮蔽层的厚度。
[0049]需要说明的是,本实施例的显示面板还可以包括显示面板的其他通用结构,例如,像素电极、阵列基板等,本发明对此并不做限制,其具体结合方式均可以采用现有方式,故在此省略详细描述。
[0050]在本实施例中,漫反射结
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