色光阻材料依次进行曝光、显影以及固化处理，从而形成非黑色光阻层。
[0088]其中，曝光时可以采用第一掩膜板，第一掩膜板可采用现有的形成黑矩阵层时所用的掩膜板。
[0089]步骤403:在非黑色光阻层上形成漫反射结构。
[0090]该漫反射结构可以采用纳米压印法或者激光干涉光刻法形成。
[0091]其中，采用纳米压印法形成漫反射结构的过程可以如图8a_8d所示，其具体包括以下步骤:
[0092]在非黑色光阻层2上涂覆一层光刻胶8，如图8a所示；
[0093]采用压印模具9在光刻胶8上压印图形，如图8b所示；
[0094]对光刻胶8进行固化处理，如图8c所示；
[0095]移除压印模具9，得到漫反射结构5，如图8d所示。
[0096]可见，采用纳米压印法得到的漫反射结构的图案由压印模具9决定，与压印模具上的图案相匹配。在本实施例中，采用的压印模具的图案为阵列图案。
[0097]可以理解地，采用纳米压印法形成的漫反射结构由光刻胶构成，与非黑色光阻层为不同的材料构成(即为两层独立的结构)。而采用激光干涉光刻法形成的漫反射结构是直接形成在非黑色光阻层的表面的图案，也就是说，采用激光干涉光刻法形成的漫反射结构与非黑色光阻层为一体结构。
[0098]步骤404:在非黑色光阻层上形成黑色光阻层。
[0099]具体地，可以采用光刻掩膜工艺形成非黑色光阻层。
[0100]进一步地，该步骤404可以包括:
[0101]在漫反射结构形成之后，在该漫反射结构上涂覆一层黑色光阻材料，该非黑色光阻材料可以为光刻胶，例如负性光刻胶；
[0102]对黑色光阻材料依次进行曝光、显影以及固化处理，从而形成黑色光阻层。
[0103]其中，曝光时可以采用步骤402时采用的第一掩膜板。
[0104]本发明实施例在黑色光阻层和非黑色光阻层的交接面设置漫反射结构，外界光线从透明基板入射，经过非黑色光阻层，到达该漫反射结构，该漫反射结构可以降低黑色光阻层的反射率，而黑色光阻层的反射率降低时，人眼可以看到的黑色光阻层的颜色变浅，只需要较薄的非黑色光阻层即可遮住黑色光阻层的颜色，从而可以降低非黑色光阻层的厚度，进而降低非黑色边框的整个遮蔽层的厚度。此外，本发明实施例可以全程采用光刻掩膜工艺实现，不需要引入新的制作工艺，实现简单。
[0105]当该显示面板为OGS面板时，该制造方法还可以包括:
[0106]步骤405:在透明基板形成电极层，该电极层形成于透明基板的显示区并从显示区延伸到黑色光阻层上。
[0107]具体地，该步骤405可以包括:
[0108]利用真空磁控溅射的方法制作一层导电薄膜，然后通过涂胶、曝光、显影、蚀刻和去膜工艺对导电薄膜进行图形化，得到第一方向电极和第二方向电极中的多个间隔设置的导电块；
[0109]涂敷一层介质层，并在介质层中形成多个对应导电块的过孔；
[0110]在介质层上形成多个导电桥，导电桥通过介质层中的过孔将相邻的导电块连接。
[0111]其中，导电薄膜可以为ITO薄膜，导电桥可以为金属桥或ITO桥。
[0112]进一步地，该制造方法还可以包括:
[0113]在电极层上形成保护层。
[0114]该保护层可以为亚克力树脂层、氮化硅层、氧化硅层或氮氧化硅层。
[0115]本发明实施例在黑色光阻层和非黑色光阻层的交接面设置漫反射结构，外界光线从透明基板入射，经过非黑色光阻层，到达该漫反射结构，该漫反射结构可以降低黑色光阻层的反射率，而黑色光阻层的反射率降低时，人眼可以看到的黑色光阻层的颜色变浅，只需要较薄的非黑色光阻层即可遮住黑色光阻层的颜色，从而可以降低非黑色光阻层的厚度，进而降低非黑色边框的遮蔽层的厚度。此外，本发明实施例可以全程采用光刻掩膜工艺实现，不需要引入新的制作工艺，实现简单。
[0116]实施例五
[0117]本发明实施例提供了一种显示装置，该显示装置包括本发明实施例一至三提供的任意一种显不面板。
[0118]上述本发明实施例序号仅仅为了描述，不代表实施例的优劣。
[0119]以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种显示面板，其特征在于，包括透明基板、非黑色光阻层和黑色光阻层，所述透明基板划分为边框区和显示区，所述边框区围绕所述显示区设置，所述非黑色光阻层和黑色光阻层依次设于所述透明基板的所述边框区上所述黑色光阻层和非黑色光阻层的交接面设有漫反射结构。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述漫反射结构为形成于所述非黑色光阻层的与所述黑色光阻层相对的表面的多个凸起结构。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述漫反射结构与所述非黑色光阻层为一体结构，或者，所述漫反射结构与所述非黑色光阻层为两层独立的结构。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述多个凸起结构构成规则的图案或不规则的图案。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述规则的图案或不规则的图案为纳米级图案。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述漫反射结构为设置于所述非黑色光阻层的与所述黑色光阻层相对的表面上的反光颗粒。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板为一体化触控面板，所述一体化触控面板还包括电极层，所述电极层形成于所述透明基板的显示区并从所述显示区延伸至所述黑色光阻层上。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述漫反射结构的厚度为0.3 μ m-0.7 μ mD
9.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述非黑色光阻层的厚度为10 μ m-13 μ m。
10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述非黑色光阻层的厚度为10 μ m-12 μ m。
11.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括形成在所述电极层上的保护层。
12.—种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-11任一项所述的显示面板。
13.—种显示面板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括: 提供透明基板； 在所述透明基板上形成非黑色光阻层； 在所述非黑色光阻层上形成漫反射结构； 在所述非黑色光阻层上形成黑色光阻层。
14.根据权利要求13所述的制造方法，其特征在于，所述漫反射结构采用纳米压印法或者激光干涉光刻法形成。
15.根据权利要求13或14所述的制造方法，其特征在于，所述制造方法还包括: 在所述透明基板上形成电极层，所述电极层形成于所述透明基板的显示区并从所述显示区延伸至所述黑色光阻层上。
16.根据权利要求15所述的制造方法，其特征在于，所述方法还包括: 在所述电极层上形成保护层。
【专利摘要】本发明实施例公开了一种显示面板及其制造方法、显示装置，属于半导体技术领域。所述显示面板包括透明基板、非黑色光阻层、和黑色光阻层，所述透明基板划分为边框区和显示区，所述边框区围绕所述显示区设置，所述非黑色光阻层和黑色光阻层依次设于所述透明基板的所述边框区上，所述黑色光阻层和非黑色光阻层的交接面设有漫反射结构。本发明实施例在黑色光阻层和非黑色光阻层的交接面设置漫反射结构，可以降低黑色光阻层的反射率，使得人眼看到的黑色光阻层的颜色变浅，从而可以降低非黑色光阻层的厚度。
【IPC分类】G06F3-041, G09F9-30
【公开号】CN104700721
【申请号】CN201510075788
【发明人】黎午升, 金起满
【申请人】京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2015年6月10日
【申请日】2015年2月12日