一种镭雕装置制造方法
【专利摘要】本实用新型公开一种镭雕装置，其中，包括：一底座；所述底座的上端面具有一镭雕腔室，所述镭雕腔室为中空结构，并且所述镭雕腔室的一端开口，所述开口与所述中空结构相贯通；一位于所述底座上的滑台，所述滑台上安装待镭雕的工件，所述滑台可滑动地通过所述开口置于所述镭雕腔室的中空结构中；所述镭雕腔室的上端面设有一镭雕仪，所述镭雕仪具有一激光装置，所述激光装置贯穿所述镭雕腔室的上端面，并且正对所述滑台；一中央控制器，所述中央控制器与所述镭雕仪电连接。使用本实用新型一种镭雕装置，通过镭雕腔室和排气管的使用，能够有效地避免镭雕过程中产生的废气随意排放至大气中，造成空气污染。
【专利说明】—种镭雕装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种镭雕设备的【技术领域】，尤其涉及一种镭雕装置。
【背景技术】
[0002]镭雕也称激光雕刻，是一种用光学原理进行表面处理的工艺。现有技术中，镭雕过程大多采用人工操作。先由作业人员逐一将产品放到工位上进行镭雕，完成后人工将产品取出，然后再放下一个产品进行镭雕，不断循环，直至将所有产品镭雕完成。但现有的镭雕装置由于没有保护装置，镭雕过程中产生的废气直接向外界排放，造成空气污染。
实用新型内容
[0003]本实用新型的目的在于提供一种镭雕装置，以解决现有镭雕装置由于没有保护装置，镭雕过程中产生的废气直接向外界排放，造成空气污染的问题。
[0004]为了实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为:
[0005]一种镭雕装置，其中，包括:一底座；所述底座的上端面具有一镭雕腔室，所述镭雕腔室为中空结构，并且所述镭雕腔室的一端开口，所述开口与所述中空结构相贯通；一位于所述底座上的滑台，所述滑台上安装待镭雕的工件，所述滑台可滑动地通过所述开口置于所述镭雕腔室的中空结构中；所述镭雕腔室的上端面设有一镭雕仪，所述镭雕仪具有一激光装置，所述激光装置贯穿所述镭雕腔室的上端面，并且正对所述滑台；一中央控制器，所述中央控制器与所述镭雕仪电连接。
[0006]上述的一种镭雕装置，其中，所述镭雕腔室的侧端面还设有一用于排废气的排气管。
[0007]上述的一种镭雕装置，其中，所述排气管内具有用于控制排废气量大小的阀门。
[0008]上述的一种镭雕装置，其中，所述排气管还具有一用于控制阀门开或关的调节器。
[0009]上述的一种镭雕装置，其中，所述镭雕腔室的所述开口的一侧枢设一腔室门，所述腔室门与所述开口匹配。
[0010]上述的一种镭雕装置，其中，所述底座设有滑轨，所述滑轨的一部分延伸至所述镭雕腔室的中空结构内，所述滑台与所述滑轨滑动连接。
[0011]上述的一种镭雕装置，其中，所述滑台设置有用于固定待镭雕工件的定位夹具。
[0012]本实用新型由于采用了上述技术，使之与现有技术相比具有的积极效果是:
[0013]通过镭雕腔室和排气管的使用，能够有效地避免镭雕过程中产生的废气随意排放至大气中，造成空气污染。
【专利附图】
【附图说明】
[0014]图1为本实用新型的一种镭雕装置的示意图。
【具体实施方式】[0015]下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明，但不作为本实用新型的限定。
[0016]图1为本实用新型的一种镭雕装置的示意图，请参见图1所示。本实用新型的一种镭雕装置，包括有一底座1 ;在底座1的上端面具有一镭雕腔室2，镭雕腔室2为一中空结构21，并且镭雕腔室2的一端开口 22，开口 22与中空结构21相互贯通。一滑台3，滑台3位于底座1的上端面，滑台3上安装有待镭雕的工件，并且滑台3可滑动地能够通过镭雕腔室2开口 22滑行至镭雕腔室2的中空结构21中。镭雕腔室2的上端面设有一镭雕仪4，镭雕仪4具有一激光装置41，激光装置41贯穿镭雕腔室2的上端面，当滑台3滑行至镭雕腔室2的中空结构21时，激光装置4能够正对滑台3。一种镭雕装置还包括有一中央控制器(图中未示出)，中央控制器与镭雕仪4电连接，以此通过中央控制器来传输信号至镭雕仪4。
[0017]本实用新型在上述基础上还具有如下实施方式:
[0018]本实用新型的进一步实施例中，请继续参见图1所示。镭雕腔室2的侧端面还设置有一排气管5。镭雕仪4激光装置41对滑台3上的工件进行镭雕时会产生大量废气，通过排气管5能够将废气排放至特定区域，防止影响外界空气。
[0019]本实用新型的进一步实施例中，排气管5内安装有一阀门(图中未示出)，通过阀门来控制排气管5中废气排量大小。
[0020]本实用新型的进一步实施例中，排气管5还具有一调节器51，调节器51与阀门连接，以此通过调节器51调节阀门的开或关。
[0021]本实用新型的进一步实施例中，镭雕腔室2的开口 22的一侧枢设一腔室门23，腔室门23与开口 22匹配。当镭雕仪4激光装置41对滑台3上的工件进行镭雕时，关闭腔室门23。
[0022]本实用新型的进一步实施例中，底座1的上端面设有滑轨11，并且滑轨11的一部分延伸至镭雕腔室2的中空结构21内，滑台3与滑轨11滑动连接。
[0023]本实用新型的进一步实施例中，滑台3还设置定位夹具31，通过定位夹具31能够有效地用于固定待镭雕工件。
[0024]综上所述，使用本实用新型一种镭雕装置，通过镭雕腔室和排气管的使用，能够有效地避免镭雕过程中产生的废气随意排放至大气中，造成空气污染。
[0025]以上所述仅为本实用新型较佳的实施例，并非因此限制本实用新型的实施方式及保护范围，对于本领域技术人员而言，应当能够意识到凡运用本实用新型说明书及图示内容所作出的等同替换和显而易见的变化所得到的方案，均应当包含在本实用新型的保护范围内。
【权利要求】
1.一种镭雕装置，其特征在于，包括:一底座；所述底座的上端面具有一镭雕腔室，所述镭雕腔室为中空结构，并且所述镭雕腔室的一端开口，所述开口与所述中空结构相贯通；一位于所述底座上的滑台，所述滑台上安装待镭雕的工件，所述滑台可滑动地通过所述开口置于所述镭雕腔室的中空结构中；所述镭雕腔室的上端面设有一镭雕仪，所述镭雕仪具有一激光装置，所述激光装置贯穿所述镭雕腔室的上端面，并且正对所述滑台；一中央控制器，所述中央控制器与所述镭雕仪电连接。
2.根据权利要求1所述镭雕装置，其特征在于，所述镭雕腔室的侧端面还设有一用于排废气的排气管。
3.根据权利要求2所述镭雕装置，其特征在于，所述排气管内具有用于控制排废气量大小的阀门。
4.根据权利要求3所述镭雕装置，其特征在于，所述排气管还具有一用于控制阀门开或关的调节器。
5.根据权利要求1所述镭雕装置，其特征在于，所述镭雕腔室的所述开口的一侧枢设一腔室门，所述腔室门与所述开口匹配。
6.根据权利要求1所述镭雕装置，其特征在于，所述底座设有滑轨，所述滑轨的一部分延伸至所述镭雕腔室的中空结构内，所述滑台与所述滑轨滑动连接。
7.根据权利要求1所述镭雕装置，其特征在于，所述滑台设置有用于固定待镭雕工件的定位夹具。
【文档编号】B44B1/06GK203511110SQ201320577688
【公开日】2014年4月2日 申请日期:2013年9月17日 优先权日:2013年9月17日
【发明者】胡光辉 申请人:和宏华进纳米科技（上海）有限公司