利用真空的蒙片支撑装置和曝光系统及其使用方法

文档序号:2786613阅读:274来源:国知局
专利名称:利用真空的蒙片支撑装置和曝光系统及其使用方法
技术领域
本发明涉及蒙片支撑装置、曝光系统及其使用方法。更具体地,涉及一种利用真空牢固地支撑蒙片的蒙片支撑装置,以改进统一平面度,从而提高形成式样的准确度,还涉及一种利用这样的蒙片固定装置的曝光系统和方法。
背景技术
近年来,在个人电脑、电视等各种应用中已经广泛地采用了液晶显示器(LCD)等平板显示器。众所周知,LCD包括薄膜晶体管(TFT)衬底、滤色镜衬底和位于薄膜晶体管衬底与滤色镜衬底之间的液晶层。在这里,利用公知的影印石版处理过程来形成TFT、象素电极和滤色镜等元件。
当LCD的尺寸增大时,通常趋势下,用于在衬底上形成各元件式样的蒙片的尺寸和衬底的尺寸都将增大。
当蒙片的尺寸变大时,将会发生弯曲现象,这将导致在曝光过程中很难在衬底上准确地形成式样。
因此,为了解决这个问题,已经开发出具有特别固定单元的曝光器械,该特别固定单元用于固定大尺寸的蒙片。
图1所示为传统的曝光系统。
如该图所示,传统的曝光系统包括光源1、部署在光源1的下面并且具有预定式样3的蒙片5、多个用于支撑蒙片5的栓4和用于安放显示衬底的安装基座,通过穿过蒙片5的光在显示衬底上形成预定的式样。
光源1发出的光透射过透光玻璃2和蒙片5的式样3,并到达显示衬底8。然后,通过蚀刻过程形成该预定的式样。
然而,利用栓来支撑大尺寸蒙片的方法在支撑蒙片的效率上仍然具有局限性。
而且,由于从光源发出的光可能会被栓折射,形成式样的精确度也可能会降低。

发明内容
本发明致力于解决现有技术的上述问题。
相应地,本发明的一个目的是提出一种使用真空而不使用栓的蒙片支撑装置,它可高效率地支撑大尺寸的蒙片,而且还提供一种曝光系统和使用这种蒙片支撑装置的方法。
本发明的另一目的是不使用支撑元件来支撑蒙片,以防止光折射,从而提高形成式样的精确度。
为实现上述目的,本发明提供一种蒙片支撑装置,它包括具有至少一个真空孔的吸收玻璃;具有预定式样的蒙片,该蒙片连接在吸收玻璃的底面上;在吸收玻璃和蒙片之间的吸收垫,用于在吸收玻璃和蒙片之间界定出空间,其中通过真空孔排出该空间中的空气,以牢固地将蒙片固定在吸收玻璃上。
在本发明的另一方面,提供一种曝光系统,它包括显示板安装基座;具有真空孔的吸收玻璃,该吸收玻璃可分离地安装在该基座上部并通过真空孔与真空管道连结;用于支撑吸收玻璃的固定夹具;和位于吸收玻璃上面的光源,其中当放置蒙片在吸收玻璃的下面时,通过真空管道形成的真空将蒙片牢固地固定在吸收玻璃上。
在本发明的再一方面,提供一种使用包括吸收玻璃的曝光装置的曝光方法,该吸收玻璃具有真空孔并被支撑在固定夹具上,该方法包括这些步骤将在进入位置具有预定式样的蒙片与吸收玻璃的底面对准;通过真空孔吸引吸收玻璃上的蒙片;以及经过该蒙片向衬底发射光。


附图用于提供对本发明的进一步理解,附图之间互相结合并且构成本申请的一部分,而且附图对本发明的各个实施方式进行图示,并且和说明书一起用于对本发明的原则进行说明。在附图中图1为传统蒙片支撑装置的截面图;图2为应用了本发明一实施例的蒙片支撑装置的曝光系统的截面图;图3为在图2所示的蒙片支撑装置的吸收玻璃上形成的槽的仰视图;图4为对图3进行改进的例子的仰视图;图5为对图3的另一个进行改进的例子的仰视图;图6为与图2所示的蒙片支撑装置的吸收玻璃连接的垫的仰视图;图7为对图6进行改进的例子的仰视图;图8为使用根据本发明一实施例的蒙片支撑装置的流程图,该流程示出曝光过程;图9为使用根据本发明另一实施例的蒙片支撑装置的流程图,该流程示出曝光过程。
具体实施例方式
下面将详细阐述本发明的优选实施方式,在附图中图示了这些优选实施方式的示例。只要可能,各个附图中都使用相同的参考标号来表示相同或相似的部件。
参照图2和图3,本发明的曝光系统包括光源10;用于支撑蒙片18的蒙片支撑单元12,该蒙片支撑单元在光源10的下面并且具有预定的式样;用于安放显示衬底的显示衬底安装基座25,穿过蒙片18的光在显示衬底上形成预定的式样。
蒙片支撑单元12包括具有至少一个真空孔28的吸收玻璃14;具有预定式样的蒙片18,该蒙片连接在吸收玻璃14的底面上;吸收玻璃14和蒙片之间18的吸收垫16,用于在吸收玻璃14和蒙片18之间界定出空间。
吸收玻璃14由诸如石英、玻璃,以及碱石灰氧化钙和钠或者氢氧化钾的混合物(Soda lime)等透光物质形成,以允许光源10发出的光高效地穿过吸收玻璃。
真空孔28在吸收玻璃14的边缘上。各个真空孔28通过槽15而互相连接,所以空气可以在其中流动。真空汞(没有示出)与真空孔28连接,以执行产生真空的操作。
蒙片18由紫外线可以穿过的衬底形成,在蒙片18上形成用于屏蔽发射到蒙片18的光的光屏蔽式样。
因此,衬底20暴露在穿过该具有光屏蔽式样的蒙片18的光下。
为了感光耐蚀过程而执行曝光过程,感光耐蚀过程用于形成光敏层式样。另外,执行曝光过程,以使得用于连接TFT衬底22和滤色镜衬底21的密封物质变硬。
可以沿着吸收玻璃的边缘连接吸收垫16,也就是,吸收垫16的上表面与吸收玻璃14的底面连接,蒙片18与吸收垫16的下表面连接。
因此,通过吸收垫16,在吸收玻璃14和蒙片18之间界定出了空间30。
在上述情形中,通过真空孔28连接真空泵,因此可通过真空孔28排出在空间30中的空气,从而在空间30中形成真空。
结果,真空产生的吸收力把蒙片18吸引到吸收玻璃14,因此牢固地支撑住蒙片18。
在产生真空的操作中,由于空间30的中心部分的空气移动到真空孔28,并且紧接着被排出到外部,气流时间可能会延长。为了缩短气流时间,如图4所示,可在横向和纵向方向上形成槽37。也就是,在吸收玻璃34底面的横向和纵向方向上形成槽37,槽37连接真空孔38。
因此,当通过将真空泵与真空孔38连接而执行产生真空的操作时,可以经过横向槽和纵向槽,并通过真空孔38快速地排出在吸收玻璃34和蒙片18之间的空间30中的空气。
可选地,可以如图5所示对角线地形成槽37。也就是,在吸收玻璃44底面的对角线方向上形成槽47,以连接真空孔48。
因此,当将真空泵与真空孔48连接以执行产生真空的操作时,经过对角槽37,可以通过真空孔48快速地排出在吸收玻璃34和蒙片18之间的空间30中的空气。
此时,虽然可以如图3所示沿着吸收玻璃14的边缘形成吸收垫16,吸收垫也可以执行和槽(37,47)一样的功能。
也就是,如图6所示,吸收垫57可在吸收玻璃54的底面的横向和纵向方向上,也可以在吸收玻璃54的边缘上。在此处,吸收垫57由允许光穿过的透光物质形成。通过上述方式部署吸收垫可以快速地实现产生真空的操作。
可选地,如图7所示,吸收垫67可在吸收玻璃64底面的对角线上,也可以在吸收玻璃64的边缘上。
下面描述利用了上述本发明的蒙片支撑单元12的曝光过程。
如图8和图9所示,首先设置蒙片支撑单元12(S100)。也就是,将具有真空孔28的吸收玻璃14放置在固定夹具11上。在这里,仅仅通过将吸收玻璃14放置在固定夹具11上,夹具11便可以精确地定位,这样可以完成对蒙片支撑单元12的设置。吸收垫16连接到吸收玻璃14上。
因此,通过下面的过程,蒙片18可以通过吸收垫16连接到吸收玻璃14上。
然后,蒙片18与曝光位置对准(S110)。也就是,利用传统的自动机械70将蒙片18移到固定夹具的下部,蒙片18还贴合在吸收垫16上。在这里,通过吸收垫16在吸收玻璃14和蒙片18之间界定了空间30。
接着,执行蒙片吸收过程(S120)。也就是,真空泵与真空孔28连接,并且接着执行产生真空的操作。
当通过真空孔28排出空间30中的空气时,蒙片18被吸引到吸收玻璃14。在这里,由于吸收垫与吸收玻璃14连接,蒙片18牢固地与吸收玻璃14连接。
接着,衬底20移动到发光位置(S130)。也就是,通过传送组件(没有示出)传送衬底20到设备25,设备25将衬底升起放置在曝光位置。
当衬底20处在曝光位置时,光源10发出光。光穿过具有预定式样的蒙片18,并且到达衬底20,以使得如密封物质变硬。
如上所述,可以不使用别的支撑元件,而使用真空牢固地支撑蒙片。
由于没有用到支撑元件,可以避免由支撑元件造成的光折射。
本领域的技术人员显然可以意识到可以对本发明进行各种变化和修正,因此,本发明包括在权利要求范围内的各种变化和修改。
权利要求
1.一种蒙片支撑装置,包括具有至少一个真空孔的吸收玻璃;具有预定式样的蒙片,该蒙片连接在吸收玻璃的底面上;和在吸收玻璃和蒙片之间的吸收垫,用于在吸收玻璃和蒙片之间界定出空间,其中,通过真空孔排出该空间中的空气,以牢固地将蒙片固定在吸收玻璃上。
2.根据权利要求1所述的蒙片支撑装置,其中该吸收玻璃由从包括石英、玻璃以及碱石灰氧化钙和钠或者氢氧化钾的混合物(Soda lime)的组中所选择的物质形成。
3.根据权利要求1所述的蒙片支撑装置,其中该吸收玻璃的底面具有横向槽和纵向槽。
4.根据权利要求1所述的蒙片支撑装置,其中该吸收玻璃的底面具有对角线槽。
5.根据权利要求1所述的蒙片支撑装置,其中吸收玻璃和吸收垫由可穿过紫外线的透光物质形成。
6.根据权利要求1所述的蒙片支撑装置,其中吸收垫在横向和纵向方向上与吸收玻璃的底面连接。
7.根据权利要求1所述的蒙片支撑装置,其中吸收垫在对角线方向与吸收玻璃的底面连接。
8.一种曝光系统,包括显示板安装基座;具有真空孔的吸收玻璃,该吸收玻璃可分离地安装在该基座上部并通过真空孔与真空管道连接;用于支撑吸收玻璃的固定夹具;和位于吸收玻璃上面的光源,其中,当蒙片在吸收玻璃的下面时,通过真空管道形成的真空将蒙片牢固地固定在吸收玻璃上。
9.根据权利要求8所述的曝光系统,其中该吸收玻璃具有与真空管道连接的槽。
10.根据权利要求8所述的曝光系统,进一步包括与吸收玻璃连接的吸收垫,以在吸收玻璃和蒙片之间界定出空间。
11.一种使用具有吸收玻璃的曝光装置的曝光方法,该吸收玻璃具有真空孔并被支撑在固定夹具上,该方法包括以下步骤将在进入位置具有预定式样的蒙片与吸收玻璃的底面对准;通过真空孔吸引该吸收玻璃上的蒙片;和经过该蒙片向衬底发射光。
12 根据权利要求11所述的曝光方法,其中通过自动机械将蒙片与发光位置对准。
13.根据权利要求11所述的曝光方法,其中该吸收玻璃具有与真空孔连接的槽。
14.根据权利要求11所述的曝光方法,其中吸收垫与吸收玻璃的底面连接,以在吸收玻璃和蒙片之间界定出空间。
全文摘要
一种蒙片支撑装置,包括具有至少一个真空孔的吸收玻璃;具有预定式样的蒙片,该蒙片连接在吸收玻璃的底面上;在吸收玻璃和蒙片之间的吸收垫,用于在吸收玻璃和蒙片之间界定出空间。通过真空孔排出该空间中的空气,以将蒙片牢固地固定在吸收玻璃上。
文档编号G02F1/1343GK1617019SQ20041008844
公开日2005年5月18日 申请日期2004年10月29日 优先权日2003年11月13日
发明者李昌原, 裴龙熙 申请人:显示器生产服务株式会社
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