校正值决定方法、曝光装置和图像形成装置的制作方法

专利名称：校正值决定方法、曝光装置和图像形成装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及对基于多个发光元件的出射光的能量进行校正的技术。
背景技术：
从以往就提出借助于利用了多个发光元件的曝光，在感光体鼓等像承 载体的表面(以下称作被曝光面)形成潜影的电子照相方式的图像形成装 置。如果在各发光元件的特性或驱动它的有源元件的特性方面存在偏差
(从设计值的误差或各元件间的不同)，则存在如下问题即被曝光面中 由来自各发光元件的出射光照射的区域(以下，称作"光斑区域")的尺 寸在各发光元件中不同，在图像的灰度方面产生不均匀。为了解决以上的 问题，例如在专利文献l中描述了以沿着主扫描方向或副扫描方向的尺寸
(直径)跨全部光斑区域而均一化的方式对各发光元件的出射光的能量进 行校正的技术。
〔专利文献l)专利第3233834号公报 可是，在各光斑区域中，除了单纯的尺寸(直径)的偏差，还能产生 形状的偏差。例如，有时多个光斑区域分别成为在不同的方向变形的形状。 特别是在来自各发光元件的出射光经由折射率分布型透镜等各种聚光体 到达被曝光面的结构中，由于各发光元件和各聚光体的光轴的位置关系的 不同，各光斑区域的形状偏差明显化。而且，根据如专利文献l那样以光 斑区域为圆形为前提的技术，具有无法对由光斑区域的形状的不同引起的 灰度的不均匀进行抑制的问题。把以上的事情作为背景，本发明把解决对 抑制各光斑区域的形状的偏差的影响这一课题作为一个目的。

发明内容
为了解决以上的课题，本发明的第一方式是一种校正值确定方法，用 于设定校正值，所述校正值用于针对在第一方向上排列而对被曝光面进行
曝光的多个发光元件的每个校正出射光的能量，包括第1过程，其中对 借助于来自所述多个发光元件的出射光而在所述被曝光面上形成的多个光 斑区域中、以相对于所述第1方向而倾斜的方向为长轴的椭圆形的光斑区 域进行指定；第2过程，其中以由所述第l过程所指定的光斑区域中的所 述长轴的方向的尺寸接近于目标值的方式，确定校正值。
根据以上的方法，以光斑区域中沿着相对于第一方向倾斜的长轴的方 向的尺寸接近目标值地决定校正值，因此与以光斑区域的第一方向的尺寸 与目标值一致的方式决定校正值的专利文献l的方法相比较，能有效抑制 各光斑区域的形状的偏差的影响(例如，灰度的不均匀)。另外，"相对 于第一方向倾斜"意味着与第一方向的仰角是90度的整数倍的角度以外的 角度的状态。
在来自各发光元件的出射光通过跨第一方向和相对于该第一方向倾 斜的第二方向而排列的多个聚光体(例如，祈射率分布型透镜或显微镜)， 而到达被曝光面的结构中，有时光斑区域的长轴的方向与第-方向近似或 一致。因此，在第二过程中，也可以按照由第一过程中确定的光斑区域的 第二方向的尺寸于接近目标值地决定校正值。按照以上的方式，根据光斑 区域中聚光体的排列方向的尺寸，决定校正值，所以不需要严密测定各光 斑区域的长轴方向的作业变。
在本发明的适宜的方式的第二过程中，根据形成在被曝光面上的图像 的网屏角的方向和第一过程中确定的光斑区域的长轴的方向的关系，决定 校正值。光斑区域的形状的偏差的影响在应用网屏(screen)(半色调网屏〉 时变得特别显著。例如对于一个光斑区域是以网屏角的方向为长轴的长圆 形，另外的光斑区域是以垂直于网屏角的方向为长轴的长圆形时，各光斑 区域和相邻的光斑区域的重复的程度不同，所以灰度的不均匀容易显著 化。因此，能减少光斑区域的形状的偏差的影响的本发明，在如以上的方 式那样应用网屏时特别适合。
本发明的第二方式是一种校正值决定方法，用于设定校正值，所述校 正值用于针对在第一方向上排列而对被曝光面进行曝光的多个发光元件的 每个校正出射光的能量，包括第1过程，其中根据借助于来自所述多个 发光元件的出射光而在所述被曝光面上形成的多个光斑区域中以相对于所
述第1方向倾斜的第1轴方向(例如图4的P轴)为长轴的长圆形的光斑 区域(例如图4的光斑区域S2)、和以相对于所述第1方向向着与第1轴 方向不同的方向倾斜的第2轴方向(例如图4的Q轴)为长轴的长圆形的 光斑区域(例如图4的光斑区域S4)，指定所述第1轴方向和所述第2轴 方向；第2过程，其中对于多个发光元件的每个，根据该发光元件所形成 的光斑区域中的第1轴方向的尺寸和第2轴方向的尺寸的差值，确定校正 值。在以上的方式中，根据沿着相对于第一方向倾斜的第一轴向和第二轴 向的尺寸，而决定校正值，因此与按照光斑区域的第一方向的尺寸与目标 值一致的方式决定校正值的专利文献l的方法相比，能有效抑制各光斑区 域的形状的偏差的影响(例如，灰度的不均匀)。此外，由于按照第一轴 向的尺寸和第二轴向的尺寸的差分值而决定校正值，所以具有如下优点 即能够在以第一轴向为长轴的光斑区域和以第二轴向为长轴的光斑区域中 把校正值的决定方法共通化。
本发明的其他方式是根据由以上的各方式的校正值决定方法决定的校 正值，驱动发光元件的曝光装置。 一个方式所涉及曝光装置，具有在第一 方向排列并且把被曝光面曝光的多个发光元件、关于各发光元件存储校正 值的存储电路(例如图2或图9的存储电路12)，并根据各发光元件的校
正值对所述各发光元件的出射光的能量进行控制，以如下方式确定存储于 所述存储电路的各校正值即沿着借助于来自所述各发光元件的出射光而 在所述被曝光面上形成的多个光斑区域中以相对于所述第1方向倾斜的方 向为长轴的椭圆形光斑区域的所述长轴的尺寸，接近于目标值。根据以上 的曝光装置，能够基于通过以降低光斑区域的形状的偏差的影响方式决定 的校正值，而实现均一的曝光。
以上的方式的曝光装置在各种电子仪器中利用。例如本发明的一个方 式的图像形成装置具有本发明的一个方式所涉及的曝光装置、具有用基 于曝光装置的曝光形成潜影的被曝光面的像承载体(例如感光体鼓70)、 通过对像承载体的潜影附加显影剂(例如粉末)而形成显像的显影器。根 据本发明的曝光装置，能实现均一的曝光，所以本发明的图像形成装置能 形成良好地抑制了灰度的不均匀的高质量的图像。
并且，本发明的曝光装置的用途并不局限于像承载体的曝光。例如，
在扫描仪等图像读取装置中，能在原稿的照明中利用本发明的曝光装置。 该图像读取装置具有本发明的曝光装置、将从曝光装置出射并由读取对象
(原稿)反射的光变换为电信号的感光装置(例如CCD (Charge Coupled Device)元件等光敏元件)。


图1是表示第1实施方式的图像形成装置的局部的构造的立体图。 图2是表示曝光装置和控制装置的电结构的框图。 图3是表示聚焦性透镜阵列的结构的俯视图。 图4是表示非校正时的光斑区域的形状的示意图。 图5是用于说明的网屏的示意图。
图6是用于说明把P方向作为长轴的光斑区域的校正的示意图。 图7是用于说明把Q方向作为长轴的光斑区域的校正的示意图。 图8是用于说明第2实施方式的光斑区域的校正的示意图。 图9是表示第3实施方式的曝光装置和控制装置的电结构的框图。 图10是表示电子设备的一个方式(图像形成装置)的剖面图。
图中H—曝光装置；IO—控制装置；70—感光体鼓；70A—被曝光 面;12、 16—存储电路；14一控制部；141一脉冲宽度设定部；143—电流 设定部；30—发光装置；E—发光元件；36—驱动电路;U—单位电路;361 一电流生成电路;363—脉冲驱动电路；40—聚焦性透镜阵列；44一折射 率分布型透镜；S—光斑区域；Sa (Sa2、 Sa4) —非校正时的光斑区域； Sb (Sb2， Sb4) —校正后的光斑区域；WP—沿着非校正时的光斑区域的 P方向的尺寸；WQ—沿着非校正时的光斑区域的Q方向的尺寸；W0—目 标值(理想的光斑区域的直径)；L一网屏的网线；9一非校正时的光斑区 域的长轴与X方向所成的角度;9s—网屏角。
具体实施例方式
<A:第1实施方式>
图1是表示本发明第1实施方式所涉及的图像形成装置的局部的构造 的剖面图。如图1所示，图像形成装置，具有把形成静电潜像的被曝光面 (像形成面)70A作为外周面的感光体鼓70;通过将感光体鼓70曝光， 而在被曝光面70a形成静电潜像的曝光装置(行头，4 > 7卜')h; 控制曝光装置H的动作的控制装置10。感光体鼓70由在X方向(主扫描 方向)延伸的旋转轴支撑，在被曝光面70A与曝光装置H相面对的状态 下旋转。因此，被曝光面70A中与曝光装置H相面对的部分相对于曝光 装置H，相对地沿Y方向(副扫描方向)行迸。
如图1所示，曝光装置H，具有发光装置30和聚焦性透镜阵列40、 对两者进行保持的遮光性保持构件50。发光装置30，具有以将X方向 作为长边的姿态进行支撑的光透过性基板32;在基板32中与感光体鼓70 相反一侧的表面在X方向排列的n个(n是自然数)的发光元件E;固定 在基板32上，密封各发光元件E的密封体34;安装在基板32上的驱动 电路36。
图2是表示曝光装置10和控制装置30的功能性结构的框图。发光元 件E是在彼此相面对的阳极和阴极之间夹置有机EL(Electroluminescence) 材料的发光层的有机发光二极管元件。驱动电路36根据控制装置10的控 制输出驱动电流lDR，从而使各发光元件E发光。另外，驱动电路36，能 够以IC芯片的方式安装在基板32上，也可以由与发光元件E —起形成在 基板32的表面上的薄膜晶体管构成。
如图2所示，驱动电路36具有分别与不同的发光元件E对应的n个 单位电路U。各单位电路U是对供给到一个发光元件E的驱动电流Idr迸 行控制的电路，包含电流生成电路361和脉冲驱动电路363。电流生成电 路361生成从控制装置lO指示的.电流值a的驱动电流lDR。脉冲驱动电路 363，在给定期间(例如水平扫描期间〉中与从控制装置IO指示的脉冲宽
度b相当的期间，对发光元件E输出驱动电流lDR，并且在剩余的期间停
止驱动电流Iim的输出。
控制装置10，具有存储电路12和控制部14。存储电路12 (例如， ROM (Read Only Memory)对于n个发光元件E的每个，存储校正值A。 后面就校正值A的意义或设定的方法加以描述。
对控制部14供给图像信号V。图像信号V是指定各发光元件E的灰 度的信号。控制部14包含脉冲宽度设定部141和电流设定部143。脉冲宽
度设定部141对各发光元件E设定与图像信号V对应的脉冲宽度b，并对 各脉冲驱动电路363指示。电流设定部143对各发光元件E设定与存储电 路12中存储的校正值A对应的电流值a，并对各电流生成电路361进行 指示。例如，电流设定部143对给定的初始值乘以校正值A，设定电流值 a。如上所述，借助于基于校正值A而校正的电流值a，设定各发光元件E 的出射光的光度(能量的强度)，并且各发光元件E的发光的时间长度控 制为与图像信号V对应的脉冲宽度b (脉宽调制)。
如图1所示，聚焦性透镜阵列40配置在发光装置30和感光体鼓70 的间隙中。来自各发光元件E的出射光透过基板32后，由聚焦性透镜阵 列40聚光，而到达感光体鼓70的被曝光面70A。在被曝光面70A，成像 为与来自各发光元件E的出射光对应的等倍的正立像。
图3是表示从感光体鼓70观察聚焦性透镜阵列40时的结构的俯视图。 如该图所示，聚焦性透镜阵列40包括彼此隔开间隔而相面对的2牧FRP
(Fiber-Reinforced Plastics)板42;各自的中心轴(纵轴)向着给定的方 向(Z方向)，排列在各FRP板42的间隙中的多个折射率分布型透镜44; 填充在各折射率分布型透镜44的间隙中的遮光性的填充材料46 (例如 硅)。折射率分布型透镜44，是折射率横截面内以如下方式进行分布的圆 柱状的聚光体:即在越从中心轴向周围远离的位置折射率越发降低。作为 聚焦性透镜阵列40，例如适合采用能从日本玻璃板株式会社取得的SLA
(自聚焦性透镜阵列)。另外，"自聚焦/SELFOC"是臼本玻璃板株式会社 的注册商标。
如图3所示，多个折射率分布型透镜44沿着X方向排列为2列且为 锯齿状。如果进一步详细描述，则以各中心轴通过X方向的直线LA1的 方式以间隔d (折射率分布型透镜44的直径)排列的多个折射率分布型透 镜44的集合Gl、和各中心轴以通过与直线LA1平行的直线LA2的方式 以间隔d排列的多个折射率分布型透镜44的集合G2，以如下方式配置: 即在沿着X方向，偏离间隔d的一半(d/2)的位置相互接触地配置。因 此，集合Gl的折射率分布型透镜44和集合G2的折射率分布型透镜44， 沿着相对于X方向的正侧以仰角e ( 6=60° )倾斜的P方向的直线LP (或者相对于X方向的负侧以仰角9倾斜的Q方向的直线LQ)而相邻
接。即多个折射率分布型透镜44跨X方向和P方向(或Q方向)，平面 地排列。
如图3中用黑球所示，多个发光元件E (E1 E15)沿着位于距直线 LA1和直线LA2等距离的X方向的直线LC，排列为直线状。由于各发光 元件E和各折射率分布型透镜44的排列的间隔不同，所以与折射率分布 型透镜44的相对的位置关系对于各发光元件E不同。即例如发光元件El 的沿着X方向的位置，与集合G的一个折射率分布型透镜44的中心轴 相一致，而发光元件E2位于连接集合Gl的折射率分布型透镜44的中心 轴和集合G2的折射率分布型透镜44的中心轴的直线LP上。
图4是表示不按照校正值A对来自各发光元件E的出射光的能量进 行校正时(以下称作"非校正时")，来自发光元件E1 E5的每个的出射 光在被曝光面70A形成的光斑(^水'〃 卜spot)区域S (与发光元件E1 E5相对应的光斑区域S1 S5)的形状的示意图。如图4所示，各发光 元件E形成的光斑区域S的形状，对应于该发光元件E和折射率分布型透 镜44的位置关系，而不同。
例如，发光元件El形成的光斑区域Sl成为大致圆形(或者在Y方 向稍长的椭圆)。发光元件E3的光斑区域S3和发光元件E5的光斑区域 S5也伺样。与此相对，发光元件E2形成的光斑区域S2成为以相对于X 方向以仰角9倾斜的P方向(即集合Gl的折射率分布型邊镜44和集合 G2的折射率分布型透镜44的排列方向)为长轴的长圆形(椭圆形)。同 样，发光元件E4形成的光斑区域S4成为把相对于X方向以仰角0倾斜 的Q方向作为长轴的长圆形。
如上所述，如果各光斑区域S的形状或长轴的方向不同，则存在如下 问题即与各光斑区域S的形状均一化为圆形的情形相比，从图像形成装 置输出的图像中会产生灰度的不均匀。用由多点的网点构成的网屏(半色 调网片)表现模拟的中间色调时，如下所述，灰度的不均匀特别显著。
图5是表示由排列多个网点的网线L (在该图中，带斜线的部分)构 成的网屏在感光体鼓70的被曝光面70A上作为潜像而形成的样子的示意 图。图5的区间U1是照射来自一个发光元件E的出射光的区域，区间U2 是能在一个水平扫描期间内曝光的区域。如图5所示，通过以等间隔配置
相对于X方向，以给定角度(以下称作"网屏角")6s倾斜的多个网线L， 能表现与各网线L的线宽或间隔相对应的模拟的中间色调。
如该图所示的光斑区域Si那样，对于是将与网线L大致平行的方向 为长轴的长圆形的情况，在X方向相邻的各发光元件E的光斑区域S相 互重复。因此，在被曝光面70A中各光斑区域S重复的部分，被付与超过 所需值(由一个光斑区域S付与的本来的能量)的能量。而如图5所示的 光斑区域Sj所示，对于是以与网线L大致垂直的方向为长轴的长圆形的 情况，在X方向相邻的各发光元件E的光斑区域S不重复。因此，产生 如下那样的不均即光斑区域Si的附近的区域与光斑区域Sj的附近的区 域相比，成为比较浓的灰度。但是，根据图像的形成条件，有时光斑区域 Sj附近的区域与光斑区域Si的附近区域相比，变为比较浓的灰度。
经过以下说明的第一过程和第二过程，决定各发光元件E的校正值A， 从而能抑制由光斑区域S的形状的偏差(变形)引起的灰度的不均匀b第 一过程是对以在X方向倾斜的方向(P方向或Q方向)为长轴的长圆形的 光斑区域S进行指定的过程。即非校正时，基于利用CCD (Charge Coupled Device)元件等摄像仪器对由来自各发光元件E的出射光而在被曝光面 70A上形成的光斑区域S进行摄像的结果，而确定长圆形的光斑区域S。 例如，在图4中，确定发光元件E2的光斑区域S2和发光元件E4的光斑 区域S4。
第二过程是如下过程即对校正值A进行确定以使得在第一过程中确 定的光斑区域S中沿着长轴的方向的外形的尺寸接近于目标值。以下，详 细描述第二过程的具体内容。
图6和图7，是表示由来自各发光元件E的出射光而对被曝光面70A 所赋予的能量的强度与形成在该被曝光面70A的光斑区域S的外形之间的 关系的示意图。如图6和图7所示，被曝光面70A中由来自发光元件E 的出射光所赋与的能量的强度超过给定的阈值的区域，被定义为光斑区域 S。在本方式中，假定阈值TH是固定值，但是也可以把光斑区域S内的 能量的峰值与给定系数的相乘值设定为阈值TH。在图6和图7中，同时 记录形状不变形时的光斑区域SO (即理想的光斑区域S)。由于发光元件 E为圆形，所以发光元件E的正立像即光斑区域SO成为直径W0的圆形。
图6的光斑区域Sa2是非校正时发光元件E2形成的光斑区域S (图4 的光斑区域S2)。以沿着光斑区域Sa2的长轴方向(换言之，折射率分布 型透镜44排列的P方向)的尺寸WP接近目标值W0 (即理想的光斑区域 S0的直径)的方式决定由第一过程指定的发光元件E2的校正值A。在本 方式中，为了使沿着P方向的长轴的尺寸WP与目标值WO—致，以如下 方式决定发光元件E2的校正值A:由发光元件E2形成将非校正时的光斑 区域Sa2縮小后的光斑区域Sb2。即发光元件E2的校正值A，成为使提 供给该发光元件E2的驱动电流IDR (即发光元件E2的出射光的强度)减 少的数值。
现在，如果在非校正时，发光元件E2对被曝光面70A供给能量ENa2 而形成光斑区域Sa2，则应该对校正后的光斑区域Sb2的赋与的能量ENb2 由以下的表达式(1)所表达。另外，表达式(1)的变量S1是非校正时 的光斑区域Sa2的长轴的尺寸WP和目标值W0的差值(5 l-WP—W0)。 ENb2=a X {WO/ (W0+ 5 l)) XE匿 ......(1)
表达式(1)中的系数a ，是用于对使校正后的光斑区域Sb2的长轴 尺寸接近于目标值WO的程度进行调整的数值。如参照屈5而说明的那样， 网屏(7夕'J 一^V screen)上出现的灰度的不均匀在光斑区域S的长轴 方向越靠近网线L的方向，变得越显著(即相邻的光斑区域S的重复增加)， 所以按照P方向和网屏的网线L所成的角度(8 — 0 s)越小系数a越发 增加的方式为各发光元件E决定系数ct 。
实际上，表达式(1)的部分"a X {WO/ (W0+ Si)}"的数值作为 校正值A而被存储到存储电路12中。由于通过把校正值A与初始值相乘 而决定电流值a，所以由来自发光元件E2的出射光而对被曝光面70A (即 形成图6的光斑区域Sb2)赋与由表达式(1)表现的能量ENb2。
关于在第一过程中确定的发光元件E4，根据同样的条件，决定校正 值A。即如图7所示，以如下方式对发光元件E4的校正值A进行决定 即由发光元件E4形成光斑区域Sb4，所述光斑区域Sb4是以沿着Q方向 的长轴的尺寸WQ与目标值WO接近或一致的方式縮小光斑区域Sa4后的 光斑区域。例如，如图7所示，如果通过发光元件E4供给能量ENa4而 形成光斑区域Sa4，则对校正后的光斑区域Sb4赋与的能量'ENb4由以下
的表达式(2)表现。另外，表达式(2)的变量S2是非校正时的光斑区 域Sa4的长轴的尺寸WQ和目标值WO的差分值(S 2-WQ—Q0)。此外， 如对发光元件E2进行说明的那样，系数a设定为例如与网屏角9 s对应的 数值。
ENb4=a X {WO/ (W0+5 2)} XENa4 …… (2)
式(2)的部分"a X {WO/ (W0+S2)}"的数值作为发光元件E4 的校正值存储在存储电路12中。
在光斑区域S的长轴方向相对于X方向倾斜时，如图6或图7所示， 非校正时的光斑区域S (Sa2、 Sa4)的沿着X方向的尺寸Wx接近于目标 值WO。因此，如专利文献1所示，即使以X方向的光斑区域S的尺寸 Wx与目标值WO —致的方式校正来自各发光元件E的出射光的能量，依 然无法消除光斑区域S的长轴方向的尺寸和目标值WO的差异，无法充分 抑制图5所示的灰度不均匀。与此相对，在本方式中，变形为以椭圆形的 光斑区域S的长轴方向的尺寸(WP、 WQ)与目标值WO接近或一致的方 式对于各发光元件E的出射光的能量进行校正，所以能充分抑制光斑区域 S的形状的偏差引起的灰度的不均匀。而且在本方式中，将聚焦性透镜阵 列40的各折射率分布型透镜44排列的方向(P方向、Q方向)与光斑区 域S的长轴方向视为相同，而决定校正值A，由此存在没必要严密地测定 光斑区域S的长轴方向的优点。
如参照图5说明的那样，在被曝光面70A上形成网屏时，由光斑区域 S的形状的偏差引起的灰度的不均匀变得特别显著。在本方式中，由于与 由网屏角e s的方向和光斑区域S的长轴的方向(P方向、Q方向)的关 系所决定的系数a相对应地调整校正值A，所以与和网屏角6 s无关地设 定校正值A的结构相比，能有效地抑制网屏的图像上表现的灰度的不均 匀。
<B:第2实施方式〉
下面，说明本发明的第2实施方式。在第1实施方式中，列举根据非 校正时的光斑区域S的长轴的方向的尺寸而决定校正值A的情形。在本方 式中， 一个光斑区域S是以P方向为长轴的长圆形，其他光斑区域S是以 Q方向为长轴的椭圆形时，在第一过程中，确定P方向和Q方向，在第二
过程中，根据光斑区域S的P方向的尺寸和Q方向的尺寸的差值，决定校 正值A。另外，关于本方式中作用或功能与第1实施方式光通的要素，赋 与与以上相同的符号，并适宜省略详细的说明。
图8是表示非校正时的光斑区域Sa和成为目标的光斑区域S0的关系 的示意图。在图8中，假定非校正时的光斑区域Sa是以P方向为长轴的 椭圆形的情况(例如图6的光斑区域Sa2)。图8的尺寸WP是P方向的光 斑区域Sa的尺寸，图8的尺寸WQ是Q方向的光斑区域Sa的尺寸。在 本方式中，在非校正时对光斑区域Sa赋与的能量ENa和对校正后的光斑 区域S赋与的能量Enb，相对于P方向的尺寸WP和Q方向的尺寸WQ 的差值的绝对值S3 (S3叫WP—WQI，以满足以下的表达式(3)的方式 决定校正值A。
ENb=a x {WO/ (W0+6 3)} XENa ...... (3)
实际上，表达式(3)的部分"a X {W0/ (W0+5 3))"作为校正值 A存储在存储电路12中。另外，按照网屏角e s厂为各发光元件E设定系 数a ，这一点与第1实施方式相同。以上，例示了以P方向为长轴方向的 光斑区域Sa，但是也根据由表达式(3)计算的校正值A，对以Q方向为 长轴方向的光斑区域Sa (例如图6的光斑区域Sa4)进行校正。
在第1实施方式中，对于发光元件E2，根据P方向的尺寸WP决定 校正值A，并且关于发光元件E4，根据Q方询的尺寸WQ决定校正值A 的情况中，有必要在各发光元件E中区别P方向和Q方向。与此相对， 在本方式中根据P方向的尺寸WP和Q方的尺寸WQ的差值决定校正值A， 所以具有具有如下优点即P方向和Q方向与光斑区域S的尺寸的大小的 关系的区别变为不必要。
<C:第3实施方式>
下面对本发明第3实施方式进行说明。另外，对于本方式中作用或功 能与第1实施方式共通的要素，附加和以上相同的符号，并适宜省略详细 的说明。
图9是表示控制装置10和发光装置30的功能性结构的框图。如该图 所示，本方式的控制装置10除了图2的要素，还具有存储电路16 (例如 ROM)。存储电路16可以是与存储电路12 —体的电路，也可以是另体的
电路。
在存储电路16中存储变换表。变换表是对于校正值A和各发光元件
E的组，把电流值a关联的表。电流设定部143，从变换表取得电流值a 并输出到驱动电路36，所述电流值a是与针对各发光元件E而存储在存储 电路12中的校正值A和根据图像信号V而对该发光元件E指定的灰度相 对应的电流值a，因此对一个发光元件E供给的驱动电流IDR的电流值a (来自发光元件E的出射光的能量)控制为与该发光元件E的校正值A 和灰度对应的水平。
以如下方式对每个发光元件E决定各发光元件E的校正值A:即关于 该发光元件E，指定给定灰度时形成的校正后的光斑区域S满足第1实施 方式或第2实施方式的条件(例如表达式(1) ~表达式(3))。即，以由 指定被了给定的灰度的发光元件E形成的校正后的光斑区域S的长轴的尺 寸与目标值WO接近或一致的方式决定该发光元件E的校正值A。
有时，稂据对该发光元件E指定的灰度，对向各发光元件E供给的驱 动电流IDR的电流值a的最佳值进行变动。如以上所说明的那样，在本方 式中根据校正值A和灰度的双方设定电流值a，所以一边利用与校正值A 对应的校正抑制灰度的不均匀， 一边适宜地设定变换表的内容，从而能够 按每个发光元件E使躯动电流IDR的电流值a最优化。
<D:变形例> :
对以上的各方式能进行各种变形。如果列举具体的变形方式，就如下 所述。另外，也可以适宜组合以下的各方式。
(1) 变形例1
在以上的各方式中，例示了根据聚焦性透镜阵列40的折射率分布型 透镜44的排列的方向(P方向、Q方向)中的光斑区域S的尺寸(WP、 WQ)决定校正值A的情形，但是并不一定利用折射率分布型透镜44的 方向。也就是说，也可以测定非校正时的光斑区域S的长轴的方向(把光 斑区域S近似为椭圆形时的长轴的方向)，根据这里测定的方询的光斑区 域S的尺寸，决定校正值A。
(2) 变形例2
在以上的各方式中，列举了根据校正值A，控制驱动电流IDR的电流
值a的结构，但是可以适宜变更用于对光斑区域S的形态(尺寸或形状) 进行变更的方法。例如，代替控制电流值a的结构，或者与该结构一起， 采用按照校正值A，控制驱动电流IDR的脉冲宽度b的结构。此外，在利 用通过电压(以下，称作"驱动电压")的施加而发光的电压驱动型的发 光元件的曝光装置中，也可以采用根据校正值A控制驱动电压的电压值和 脉冲宽度的至少一方的结构。
此外，在第3实施方式中，列举了由变换表对校正值A和灰度附加对 应的结构，但是，也可以采用如下结构:即电流设定部143借助于把校正 值A和灰度作为自变量的规定的计算而计算电流值a。如上所述，本发明 的典型的方式，是按照校正值A校正发光元件E的出射光能量的结构即可 以，与校正值A对应的处理的具体内容或基于校正值A的直接的校正对 象是任意的。
(3) 变形例3
能适宜变更发光元件E或折射率分布型透镜44的排列的方式。例如， 也可以采用多个发光元件E排列为多列(例如2列并且交错)的结构、多 个折射率分布型透镜排列为3列以上的结构。
(4) 变形例4
在以上的各方式中，列举了根据光斑区域S的长轴方向的尺寸决定校 正值A的结构，但是也可以通过并用以上例示的方法和其他方法而决定校 正值A。例如，也可以采用以下的步骤第一，以降低由各发光元件E的 特性的误差引起的各光量的不同(光量均一化)的方式，决定校正值A的 初始值；第二，也可以采用如下步骤:即根据利用了校正值A的初始值后 的校正后的光斑区域S的长轴方向的尺寸，调整校正值A (即以满足以上 各方式中表示的条件的方式决定各发光元件E的校正值A)。
(5) 变形例5
有机发光二极管元件不过是发光元件的举例。例如，也可以代替以上 各方式的有机发光二极管元件，而采用无机EL元件或LED(Light Emitting Diode)。
<E:应用例>
下面，说明利用了曝光装置H的电子仪器(图像形成装置)的具体方
式。
图10是表示图像形成装置的结构的剖面图。图像形成装置是串列型 彩色图像形成装置，具有以上的方式所涉及的4个曝光装置H(HK、 HC、 HM、 HY)、与各曝光装置H对应的4个感光体鼓70 (70K、 70C、 70M、 70Y)。如图1所示， 一个曝光装置H，以与该曝光装置H相对应的感光 体鼓70的被曝光面70A (外周面)相面对的方式配置。另外，各符号的 尾标"K"、 "C"、 "M"、 "Y"意味着在黑色(K)、青色(C)、洋红色(M)、 黄色(Y)的各显影的形成中利用。
如图10所示，在驱动辊711和从动辊712上缠绕无端的中间复制带 72。 4个感光体鼓70相互隔开给定的间隔，配置在中间复制带72的周围。 各感光体鼓70与中间复制带72的驱动同步旋转。
在各感光体鼓70的周围，除了曝光装置H，配置电晕带电器731K、 731C、 731M、 731Y和显影器732K、 732C、 732M、 732Y。电晕带电器 731K、 731C、 731M、 731Y使与它对应的感光体鼓70的被曝光面70A — 样地带电。各曝光装置H使带电的被曝光面70A曝光，从而形成静电潜 像。各显影器732K、 732C、 732M、 732Y使显影剂(粉末)附着在静电 潜像上，从而在感光体鼓70上就形成显影(可视像)。
把如上那样形在成感光体鼓70上的各色(黑、青、洋红、黄)的显 影依次转印(一次转印)到中间转印带72的表面，形成彩色的显影。在 中间转印带72的内侧配置4个一次转印电晕管(n口卜口>0 (转印器) 74K、 74C、 74M、 74Y。各一次复制电晕管74K、 74C、 74M、 74Y，通过 从与它对应的感光体鼓70静电地吸引显像，而把显像转印到通过感光体 鼓70和一次转印电晕管74K、 74C、 74M、 74Y的间隙的中间转印带72 上。
通过拾取辊761从供纸盒762—张一张地供给薄板(记录材料)75， 输送到中间转印带72和二次转印辊77之间的夹持点。在中间转印带72 的表面上形成的彩色的显影由二次转印辊77转印(二次转印)到薄板75 的一面，通过定影辊对78，在薄板75上定影。排纸辊对79将经过以上的 步骤而对显像进行了定影后的薄板75排出。
以上列举的图像形成装置把有机发光二极管元件作为光源使用，所以 与利用激光扫描光学系统的结构相比，装置更小型化。另外，在以上列举
的以外的结构的图像形成装置也能应用曝光装置H。也能在旋转显像式的 图像形成装置、或在不使用中间转印带的情况下从感光体鼓70对薄板直 接转印显像型的图像形成装置、或者形成黑白图像的图像形成装置中，利 用曝光装置H。
另外，曝光装置H的用途并不局限于像载持体的曝光。例如，曝光装 置H，也可以作为对原稿等读取对象照射光的照明装置在图像读取装置中 采用。作为这种图像读取装置，有扫描仪、复印机或传真机的读取部分、 条形码阅读器、或者读出QR代码(注册商标)等二维图像代码的二维图 像代码阅读器。
权利要求
1、一种校正值确定方法，用于设定校正值，所述校正值用于针对在第一方向上排列而对被曝光面进行曝光的多个发光元件的每个校正出射光的能量，包括第1过程，其中对借助于来自所述多个发光元件的出射光而在所述被曝光面上形成的多个光斑区域中、以相对于所述第1方向而倾斜的方向为长轴的椭圆形的光斑区域进行指定；第2过程，其中以由所述第1过程所指定的光斑区域中的所述长轴的方向的尺寸接近于目标值的方式，确定校正值。
2、 根据权利要求1所述的校正值确定方法，其特征在于， 来自所述各发光元件的出射光，通过跨度所述第1方向以及相对于该第1方向倾斜的第2方向而排列的多个聚焦体，而到达所述被曝光面，在所述第2过程中，以由所述第1过程所指定的光斑区域中的所述第 2方向的尺寸接近于所述目标值的方式，确定校正值。
3、 根据权利要求1或2所述的校正值确定方法，其特征在于， 在所述第2过程中，根据形成于所述被曝光面上的图像的网屏角的方向与所述第1过程中所指定的光斑区域的长轴方向的关系，确定校正值。
4、 一种校正值确定方法，用于设定校正值，所述校正值用于针对在第一方向上排列而对被曝光 面进行曝光的多个发光元件的每个校正出射光的能量，包括第1过程，其中根据借助于来自所述多个发光元件的出射光而在所述 被曝光面上形成的多个光斑区域中以相对于所述第1方向倾斜的第1轴方 向为长轴的椭圆形的光斑区域、和以相对于所述第1方向向着与所述第1 轴方向不同的方向倾斜的第2轴方向为长轴的椭圆形的光斑区域，指定所 述第l轴方向和所述第2轴方向；第2过程，其中对于所述多个发光元件的每个，根据该发光元件所形 成的光斑区域中的所述第1轴方向的尺寸和所述第2轴方向的尺寸的差值，确定校正值。
5、 一种曝光装置，其特征在于， 备有在第1方向上排列而对被曝光面进行曝光的多个发光元件以及对 于所述各发光元件存储校正值的存储电路，并根据该发光元件的校正值对 所述各发光元件的出射光的能量进行控制，以如下方式确定存储于所述存储电路的各校正值即沿着借助于来自 所述各发光元件的出射光而在所述被曝光面上形成的多个光斑区域中以相 对于所述第1方向倾斜的方向为长轴的椭圆形光斑区域的所述长轴的尺 寸，接近于目标值。
6、 一种图像形成装置，其特征在于，备有权利要求5所记载的曝光装置；像载持体，其具有上述被曝光面，所述被曝光面利用基于所述曝光装 置的曝光而形成潜像；显像器，其通过对所述像持体的潜像附加显像剂，而形成显像。
全文摘要
本发明公开一种校正值确定方法，其中经过第一过程和第二过程，决定用于校正在X方向排列的各发光元件E的出射光的能量的校正值。在第一过程中，从由来自各发光元件E的出射光形成的多个光斑区域S中，确定以相对于X方向倾斜的P方向作为长轴的椭圆形的光斑区域S。在第二过程中，以第一过程中确定的光斑区域S中P方向的尺寸WP接近目标值W0的方式决定校正值A。
文档编号G03G15/01GK101178557SQ200710186028
公开日2008年5月14日 申请日期2007年11月9日 优先权日2006年11月9日
发明者井上望, 新井义雄 申请人:精工爱普生株式会社