在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置，包括根据液晶防伪元件的类型设置的发光单元、镜头与传感器单元、信号处理单元、置于发光单元与液晶防伪元件之间的第一偏振滤镜以及置于镜头与传感器单元和液晶防伪元件之间的第二偏振滤镜，其中，发光单元，用于发射平行光；镜头与传感器单元，用于通过第二偏振滤镜获取隐藏在液晶防伪元件中的图像的光信号，并将光信号转换为电信号；信号处理单元，用于根据电信号计算出所隐藏的图像的对比度，将计算出的对比度与参考对比度进行比较，并根据比较结果动态调整制造液晶防伪元件的工艺参数。本发明可以对各类液晶防伪元件中的隐藏图像实现在线检测。
【专利说明】在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及光学防伪【技术领域】，特别地，涉及一种在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置。
【背景技术】
[0002]液晶光学防伪技术在防伪领域具有广阔的应用前景，通过液晶多畴定向技术可以制作出具有隐藏正负片图像二线防伪特征的液晶防伪元件。一般的液晶防伪元件是在基材上先涂布取向层，对取向层的不同区域进行不同方向的曝光，然后再在其上涂布向列相液晶层，靠取向层来使液晶分子进行不同方向的排列。
[0003]由于液晶层无色透明，通过肉眼无法观察到图像，而在通过偏振片观察时，液晶防伪元件呈现明暗不同的区域，黑暗区域和明亮区域分别组成图像和背景，将偏振片改变一定的角度或者改变圆偏振片的旋向，明暗区域相互转换，即图像区和背景区反色，从而形成正负片转换的效果。
[0004]在液晶防伪元件的连续化生产过程中，液晶层的取向质量与固化程度不仅直接影响到液晶防伪元件中隐藏图像的清晰程度和质量，而且也会对后续涂层的分子定向产生影响，因此，在生产过程中对隐藏图像的质量进行控制就显得尤为重要。
[0005]但是，目前尚无有关液晶防伪元件隐藏图像质量在线检测的记载，若要检测防伪元件中隐藏图像的质量，需要对产品进行取样，这种检测方式只有在停机状态下才能进行，为了保证生产的连续性，在整卷元件的生产过程中间无法取样，因此很难保证大生产中产品质量的稳定性。
【发明内容】
[0006]本发明要解决的一个技术问题是提供一种在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置，能够有效保证液晶防伪元件中隐藏图像的质量。
[0007]根据本发明的一方面，提出了一种在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置，包括根据液晶防伪元件的类型设置的发光单元、镜头与传感器单元、信号处理单元、置于发光单元与液晶防伪元件之间的第一偏振滤镜以及置于镜头与传感器单元和液晶防伪元件之间的第二偏振滤镜，其中，发光单元，用于发射平行光；镜头与传感器单元，用于通过第二偏振滤镜获取隐藏在液晶防伪元件中的图像的光信号，并将光信号转换为电信号；信号处理单元，用于根据电信号计算出所隐藏的图像的对比度，将计算出的对比度与参考对比度进行比较，并根据比较结果动态调整制造液晶防伪元件的工艺参数。
[0008]本发明提供的在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置，可以在连续化生产过程中对液晶防伪元件中的隐藏图像进行实时检测与分析，以动态调整制造液晶防伪元件的工艺参数，进而保证该元件的质量。
【专利附图】
【附图说明】[0009]此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本申请的一部分。在附图中:
[0010]图1a是本发明在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置的一个实施例的结构示意图。
[0011]图1b是本发明在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置的另一实施例的结构示意图。
[0012]图2是本发明利用偏振滤镜观测透射型液晶防伪元件的示意图。
[0013]图3是本发明利用偏振滤镜观测反射型液晶防伪元件的示意图。
[0014]图4a是本发明在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置的又一实施例的结构示意图。
[0015]图4b是本发明在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置的再一实施例的结构示意图。
【具体实施方式】
[0016]下面参照附图对本发明进行更全面的描述，其中说明本发明的示例性实施例。本发明的示例性实施例及其说明用于解释本发明，但并不构成对本发明的不当限定。
[0017]以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。
[0018]在液晶防伪元件的加工过程中，通过对光敏取向层的不同区域进行不同方向的曝光，使其上的液晶层在不同区域产生不同的分子取向，结合对液晶层厚度的精确控制，可以使偏振光通过液晶层的不同区域后发生不同的偏转变换，即具有不同的偏振状态。在使用具有适当滤偏方向的偏振滤镜观察液晶防伪元件时，只有某些偏振状态的光线可以透过偏振滤镜，从而使液晶防伪元件呈现明暗不同的区域，进而观测到隐藏图像。
[0019]图1a是本发明在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置的一个实施例的结构示意图。
[0020]图1b是本发明在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置的另一实施例的结构示意图。
[0021]如图1a和Ib所示，实施例中的装置10包括根据液晶防伪元件的类型设置的发光单元102、镜头与传感器单元104、信号处理单元106、置于发光单元102与液晶防伪元件之间的第一偏振滤镜108以及置于镜头与传感器单元104和液晶防伪元件之间的第二偏振滤镜110，其中，
[0022]发光单元102，用于发射平行光，该单元可以发出不同波段的光线，由于液晶层对偏振光的作用与液晶层的厚度和偏振光的波长有关，因此可以根据液晶防伪元件中液晶层的厚度选择合适的波段，以保证在液晶层涂布厚度的允许误差范围内镜头能够捕捉到清晰的隐藏图像，获得最大对比度；
[0023]镜头与传感器单元104，用于通过第二偏振滤镜110获取隐藏在液晶防伪元件中的图像的光信号，并将光信号转换为电信号；
[0024]信号处理单元106，用于根据电信号计算出所隐藏的图像的对比度，将计算出的对比度与参考对比度进行比较，并根据比较结果动态调整制造液晶防伪元件的工艺参数，其中，工艺参数可以包括对取向层的曝光强度以及对取向层的涂布速度。具体地，可以利用现有技术计算图像的对比度，如果计算出的对比度小于参考对比度，则适当增大第一次曝光强度(对某个区域的曝光)和/或降低对取向层的涂布速度，和/或降低第二次曝光强度(对另一区域的曝光)，如果计算出的对比度大于或等于参考对比度，则说明隐藏图像质量合格，不做调整。
[0025]其中，液晶防伪元件的类型可以包括但不限于透射型液晶防伪元件、反射型液晶防伪元件、以及隐藏图像+光变型液晶防伪元件。根据具体液晶防伪元件的结构特点对偏振滤镜的类型和发光单元所发射的平行光的波长进行调整即可对任何类型的液晶防伪元件中的隐藏图像实现在线检测。
[0026]发光单元102和镜头与传感器单元104的位置关系取决于液晶防伪元件的类型。
[0027]如图1a所示，在液晶防伪元件为透射型液晶防伪元件或隐藏图像+光变型液晶防伪元件时，发光单元102和镜头与传感器单元104沿着透射光路设置在液晶防伪元件的两侧。即，发光单元102和镜头与传感器单元104分别置于液晶防伪元件的两侧，夹着液晶防伪元件的传送路径相对配置，发光单元102所发出光线在液晶防伪元件表面的入射角(即，入射光线与液晶防伪元件垂直面的夹角)不超过10°，镜头与传感器单元104置于透射光线的光路上。
[0028]如图1b所示,在液晶防伪元件为反射型液晶防伪元件时,发光单元102和镜头与传感器单元104沿着反射光路设置在液晶防伪元件的同侧，发光单元102所发出的光线在液晶防伪元件表面的入射角不超过10°，镜头与传感器单元104置于反射光线的光路上。
[0029]该实施例中的发光单元所发出的光线经过偏振滤镜后，以一定的偏振态射向液晶防伪元件表面。由于液晶层的不同区域对偏振光的偏转作用不同，液晶防伪元件不同区域的透射或者反射光线就具有了不同的偏振态，再通过镜头与传感器单元前的偏振滤镜后滤掉某些区域透过的偏振光，即可通过明暗对比捕捉到液晶防伪元件上的隐藏图像，传感器将所获取的隐藏图像信号输送至信号处理单元储存，并通过计算机图像处理系统对图像质量进行分析和反馈，从而可以在保证生产连续性的前提下对液晶防伪元件中隐藏图像的质量进行有效的监控。
[0030]接下来，简单介绍一下各种液晶防伪元件的层结构和观测原理。
[0031]图2是本发明利用偏振滤镜观测透射型液晶防伪元件的示意图。
[0032]如图2所示，该透射型液晶防伪元件包括透明基材204、光敏取向层206和向列相液晶层208。向列相液晶层208的厚度满足λ /2波片，其不同区域的液晶分子取向夹角为45度。检测的时候入射光源和镜头分别位于液晶防伪元件的两侧。在观测隐藏图像时，入射平行光通过第一偏振滤镜202后转变为线性偏振光，其线偏振方向与元件一个区域的液晶分子取向方向平行，入射到透明基材内，该偏振光依次透射过光敏取向层206和向列相液晶层208，再通过第二偏振滤镜210就可以观测到由光敏取向层206和向列相液晶层208共同作用产生的隐藏图像。
[0033]在图2中，置于液晶防伪元件两侧、用于观测隐藏图像的第一偏振滤镜和第二偏振滤镜均为线性偏振滤镜。在第一偏振滤镜和第二偏振滤镜为线性偏振滤镜的情况下，第一偏振滤镜和第二偏振滤镜处于可转动状态，以调节第一偏振滤镜与第二偏振滤镜之间的夹角，例如，可以使第一偏振滤镜透偏方向与其中一个区域的液晶分子取向方向平行(偏振光透过该区域后偏振方向不发生变化)，而与另一个区域的液晶分子取向方向呈45度夹角(偏振光透过该区域后偏振方向偏转90度)，第二偏振滤镜与第一偏振滤镜平行或垂直设置，则只有从元件一个区域中透过的光线可以透过第二偏振滤镜，另一个区域中透过的光线不能通过，从而使得监控人员在生产过程中实时解到对液晶防伪元件中隐藏图像的涂布状况。
[0034]图3是本发明利用偏振滤镜观测反射型液晶防伪元件的示意图。
[0035]如图3所示,该反射型液晶防伪元件包括反射基材302、光敏取向层304和向列相液晶层306。向列相液晶层306的厚度满足λ /4波片，其不同区域的液晶分子取向夹角为45度。由于基材为不透明的镜面反射材料，检测的时候入射光源和镜头位于液晶防伪元件的同一侧。在观测隐藏图像时，入射平行光通过偏振滤镜308后变为线偏振光，旋转偏振滤镜308使得入射光的的线偏振方向与元件一个区域(区域一)的液晶分子平行，则入射光与另一个区域(区域二)内液晶分子取向方向呈45度夹角，入射光经过向列相液晶层306，透过区域一的光线其偏振状态不变，该偏振光穿透光敏取向层304达到反射基材302，经基材302反射后再次依次穿过光敏取向层304和向列相液晶层306,其偏振状态一直未发生改变，可以再次通过偏振滤镜308 ;而经过区域二的入射光其偏振状态改变，由线性偏振态转变为左旋偏振态或右旋偏振态，该偏振光穿透光敏取向层304达到反射基材302，基材302反射偏振光后，又将左旋偏振光转变为右旋偏振光，将右旋偏振光转变为左旋偏振光，使其依次穿过光敏取向层304和向列相液晶层306后，又由左/右旋偏振态转变为线性偏振态，此偏振光的线偏振方向与最初入射时的偏振方向相比偏转了 90度，不能再次通过偏振滤镜308。这样就可以观测到由光敏取向层304和向列相液晶层306共同作用产生的隐藏图像。在图3中，用于观测透射型液晶防伪元件中隐藏图像的偏振滤镜为线性偏振滤镜。
[0036]关于隐藏图像+光变型液晶防伪元件，其在向列相液晶层之上还涂布了一层胆甾液晶层，复合了随角变色和隐藏正负片特征的元件，其结构与反射型液晶防伪元件类似，所不同的是反射型元件的反射层是普通的金属镜面镀层，而这里使用胆留液晶层作为反射层，且隐藏图像+光变型液晶防伪元件中向列相液晶层不同区域的液晶分子取向夹角为90度。胆留液晶是一种具有特殊性质的手性向列相液晶，液晶相中的手性物质使液晶层产生螺旋结构，能够选择性地反射特定波长(λ )的手性圆偏振光，g卩，胆留液晶层仅反射某一特定波长特定旋向的圆偏振光，该波长另一旋向的光线和其它波长的光线经胆留液晶层透射过去，并被其他物质所吸收。经胆留液晶层反射的圆偏振光，光的偏振状态不变，即，左旋偏振光经反射后仍为左旋偏振光，右旋偏振光仍为右旋偏振光。
[0037]隐藏图像+光变型液晶防伪元件中的向列相液晶层的厚度满足λ/4波片，其不同区域的液晶分子取向夹角为90度。由于胆甾液晶层只作为反射层提供随角变色的效果，不参与隐藏图像的实现，所以本发明在涂布胆留液晶层之前进行隐藏图像的检测，检测的时候入射光源和镜头分别位于液晶防伪元件的两侧。入射光线通过线性偏振滤镜变成单方向的线性偏振光，其偏振方向与两个区域的液晶分子取向均为45度夹角。光线通过向列相液晶层(这里是单次通过，不再像反射型液晶防伪元件那样是往返通过)，通过其中一个区域的偏振光由线性偏振状态转变为左旋圆偏振状态，通过另一区域的则变为右旋圆偏振状态，这时在镜头前加装一个左旋或右旋圆偏振滤镜即可滤掉其中一个区域的光，实现明暗对比的效果。[0038]在上述实施例中，如果向列相液晶层作为四分之一波片使用，则检测隐藏图像的偏振光的波长λ与液晶层厚度的关系为λ =4 Δ nd/(2m+l),当入射线偏振光的偏振方向与液晶分子取向呈45度夹角时，经λ /4波片的向列相液晶层后，线性偏振态的光将转变为左旋圆偏振态或右旋圆偏振态的光，如果向列相液晶层作为二分之一波片使用，则检测隐藏图像的偏振光的波长λ与液晶层厚度的关系为λ =2 And/(2m+l)，当入射线偏振光的偏振方向与液晶分子取向呈45度夹角时，经λ /2波片的向列相液晶层后，线性偏振态的光保持线性不变，但旋转90度，其中△ η为液晶层的双折射率，d为向列相液晶层的厚度，m为任意非负整数。
[0039]图4a是本发明在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置的又一实施例的结构示意图。
[0040]图4b是本发明在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置的再一实施例的结构示意图。
[0041]如图4a和4b所示，与图1中的两个实施例相比，这两个实施例中的装置40还可以包括反馈控制单元402，与信号处理单元106相耦合，用于根据工艺参数控制对液晶防伪元件中取向层的曝光强度以及对取向层的涂布速度，直至符合参考对比度的要求，以确保隐藏图像的质量。
[0042]可选地，该装置还可以包括图像显示单元404，用于根据电信号呈现所隐藏的图像。该图像显示单元可以是任何具有显示屏的设备，通过该显示窗口，监控人员可以第一时间了解液晶防伪元件的质量。
[0043]接下来，以上述三种液晶防伪元件为例详细说明如何实现对隐藏图像的在线检测。
[0044]( I)在线检测透射型液晶防伪元件中隐藏图像的装置
[0045]再参见图4a，发光单元102和镜头与传感器104分别位于液晶防伪元件的两侧，夹着液晶防伪元件的输送路径相对地配置，镜头与传感器单元104置于透射光线的光路上。发光单元102所发出光线在液晶防伪元件表面的入射角不超过10°，发光单元102的发光面与液晶防伪元件平行，发出波长λ在2And/(2m+l)±5纳米范围内的平行光，其中，Λη为向列相液晶层的双折射率，d为向列相液晶层的厚度，m为任意非负整数。发光单元102朝向液晶防伪元件的一面加装线性偏振滤镜108，通过转动线性偏振滤镜108改变线性偏振滤镜108的透偏方向，以使其透偏方向与液晶防伪元件两次曝光中任一次的分子取向方向平行。镜头与传感器单元104用于获取隐藏图像的光信号，并将所获取的光信号转换为电信号传输至图像显示器404和信号处理单元106。镜头与传感器单元104前加装线性偏振滤镜110，转动线性偏振滤镜110使其透偏方向与线性偏振滤镜108的透偏方向互相垂直。
[0046]再参见图2，透射型液晶元件的隐藏图像液晶层可以分为两类区域，区域一内的液晶分子取向与线性偏振滤镜108的透偏方向平行，而区域二内的液晶分子取向与线性偏振滤镜108的透偏方向呈45°夹角。。
[0047]图4a中的发光单元102所发出的光线经过偏振滤镜108后，透过液晶防伪元件，透过区域一的光线偏振方向不变，仍与线性偏振滤镜108的透偏方向平行，即与线性偏振滤镜Iio的透偏方向垂直，无法透过线性偏振滤镜110，而透过区域二的光线偏振方向偏转90°，变得与线性偏振滤镜110的透偏方向平行，因而能够透过线性偏振滤镜110，从而使元件呈现明暗不同的区域。在分别为两个区域进行曝光时，两个区域的夹角可能不完全等于45度，例如，为42度，此时可以在小范围内动态调整线性偏振滤镜110的透偏方向，使所获取的隐藏图像具有最高对比度，同理也可以适用于下述对反射型和隐藏图像+光变型液晶防伪元件的检测。图像传感器104可以获取到隐藏图像的光信号，并将该光信号转换为电信号传递至信号处理单元106进行分析、反馈，并在图像显示器404上显示所获取的隐藏图像。
[0048](2)在线检测反射型液晶防伪元件中隐藏图像的装置
[0049]再参见图4b，发光单元102和镜头与传感器单元104置于液晶防伪元件的同一侧，镜头与传感器单元2置于反射光线的光路上。发光单元102所发出光线在液晶防伪元件表面的入射角不超过10°，发光单元102发出波长λ在4And/(2m+l)±5纳米范围内的平行光，其中，Λη为向列相液晶层的双折射率，d为向列相液晶层的厚度，m为任意非负整数。发光单元102朝向液晶防伪元件的一面加装线性偏振滤镜108，转动线性偏振滤镜108使其透偏方向与液晶防伪元件两次曝光中任一次的分子取向方向平行。镜头与传感器单元104用于获取隐藏图像的光信号，并将所获取的光信号转换为电信号传输至图像显示器404和信号处理单元106。镜头与传感器单元104前加装线性偏振滤镜110，转动线性偏振滤镜110使其透偏方向与线性偏振滤镜108的透偏方向互相垂直。
[0050]再参见图3,反射型液晶防伪元件包含一层不透光的反射基材302,反射基材302之上的隐藏图像液晶层可以分为两类区域，区域一内的液晶分子取向与线性偏振滤镜108的透偏方向平行，而区域二内的液晶分子取向与线性偏振滤镜108的透偏方向呈45°夹角。
[0051]再参见图4b，发光单元102所发出的光线经过线性偏振滤镜108后，穿过液晶层到达反射层，经反射层反射后再次穿过液晶层，在区域一内，光线两次穿过液晶层后其偏振方向不变，仍与线性偏振滤镜108的透偏方向平行，即与线性偏振滤镜110的透偏方向垂直，无法透过线性偏振滤镜110，而透过区域二的光线偏振方向偏转90°，变得与线性偏振滤镜110的透偏方向平行，能够透过线性偏振滤镜110，从而使元件呈现明暗不同的区域。图像传感器104可以获取到隐藏图像的光信号，并将该光信号转换为电信号传递至信号处理单元106进行分析、反馈，并在图像显示器404上显示所获取的隐藏图像。
[0052](3)在线检测隐藏图像+光变型液晶防伪元件中隐藏图像的装置
[0053]在防伪特征方面，隐藏图像+光变型液晶防伪元件比透射型液晶防伪元件多了随角变色的光变特征。在结构特征方面，隐藏图像+光变型液晶防伪元件比透射型液晶防伪元件多了一层用于产生光变特征的胆留液晶层，且用于产生隐藏图像的向列相液晶层的厚度也不同。在制作工艺方面，两种元件中向列相液晶层的分子取向也不同。
[0054]虽然隐藏图像+光变型液晶防伪元件比透射型液晶防伪元件多了一层用于产生光变特征的胆留液晶层，但本发明在涂布胆留液晶层之前进行隐藏图像的检测，因此，仍可以参见图4a。如图4a所示，发光单元102和镜头与传感器单元104分别位于液晶防伪元件的两侧，夹着液晶防伪元件的输送路径相对配置，镜头与传感器单元104置于透射光线的光路上。发光单元102所发出光线在液晶防伪元件表面的入射角不超过10°，发光单元102发出波长λ在4And/(2m+l) ±5纳米范围的平行光，其中，An为向列相液晶层的双折射率，d为向列相液晶层的厚度，m为任意非负整数。发光单元102朝向液晶防伪元件的一面加装线性偏振滤镜108，转动线性偏振滤镜108使其透偏方向与液晶防伪元件两次曝光的分子取向分别呈+45°和-45°角。镜头与传感器单元104用于获取隐藏图像的光信号，并将所获取的光信号转换为电信号传输至图像显示器404和信号处理单元106。入射光线经过向列相液晶层后，经液晶防伪元件不同区域的光分别转换为左旋圆偏振光和右旋圆偏振光，为观察到隐藏图像，需要在镜头与传感器单元104前加装圆偏振滤镜110。圆偏振滤镜110可以是左旋圆偏振滤镜或右旋圆偏振滤镜。
[0055]隐藏图像+光变型液晶防伪元件的隐藏图像液晶层可分为两类区域，区域一内的液晶分子取向与线性偏振滤镜108的透偏方向呈+ 45°夹角，而区域二内的液晶分子取向与线性偏振滤镜108的透偏方向呈一 45°夹角。
[0056]发光单元102所发出的光线经过线性偏振滤镜108后，透射过液晶防伪元件，透过液晶防伪元件不同区域的光，分别转换为左旋圆偏振光和右旋圆偏振光，只有其中一个旋向的光可以透过镜头与传感器单元104前的圆偏振滤镜110，从而使元件呈现明暗不同的区域。镜头与传感器单元104可以获取到隐藏图像的光信号，并将该光信号转换为电信号传递至信号处理单元106进行分析、反馈，并在图像显示器404上显示所获取的隐藏图像。
[0057]本发明上述实施例中的在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置可以对生产过程中液晶防伪元件中隐藏图像的质量进行连续地在线检测，无需停机取样，不仅保证了生产的连续性和液晶防伪元件的完整性，而且还可以通过计算机图像处理系统对图像质量进行分析，实时对生产工艺参数进行调整，保证连续化生产元件的质量。
[0058]本说明书中各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同和相似的部分可以相互参见。
[0059]虽然已经通过示例对本发明的一些特定实施例进行了详细说明，但是本领域的技术人员应该理解，以上示例仅是为了进行说明，而不是为了限制本发明的范围。本领域的技术人员应该理解，可在不脱离本发明的范围和精神的情况下，对以上实施例进行修改。本发明的范围由所附权利要求来限定。
【权利要求】
1.一种在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置，其特征在于，包括根据所述液晶防伪元件的类型设置的发光单元、镜头与传感器单元、信号处理单元、置于所述发光单元与所述液晶防伪元件之间的第一偏振滤镜以及置于所述镜头与传感器单元和所述液晶防伪元件之间的第二偏振滤镜，其中， 所述发光单元，用于发射平行光； 所述镜头与传感器单元，用于通过所述第二偏振滤镜获取隐藏在所述液晶防伪元件中的图像的光信号，并将所述光信号转换为电信号； 信号处理单元，用于根据所述电信号计算出所隐藏的图像的对比度，将计算出的对比度与参考对比度进行比较，并根据比较结果动态调整制造所述液晶防伪元件的工艺参数。
2.根据权利要求1所述的在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置，其特征在于，所述装置还包括: 图像显示单元，用于根据所述电信号呈现所隐藏的图像。
3.根据权利要求1所述的在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置，其特征在于，所述液晶防伪元件的类型包括透射型液晶防伪元件、反射型液晶防伪元件、以及隐藏图像+光变型液晶防伪元件。
4.根据权利要求3所述的在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置，其特征在于，在所述液晶防伪元件为透射型液晶防伪元件或反射型液晶防伪元件的情况下，所述第一偏振滤镜和所述第二偏振滤镜均为线性偏振滤镜。
5.根据权利要求3所述的在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置，其特征在于，在所述液晶防伪元件为隐藏图像+光变型液晶防伪元件的情况下，所述第一偏振滤镜为线性偏振滤镜，所述第二偏振滤镜为圆偏振滤镜。
6.根据权利要求3所述的在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置，其特征在于，对于所述透射型液晶防伪元件和所述隐藏图像+光变型液晶防伪元件，所述发光单元和所述镜头与传感器单元沿着透射光路设置在所述液晶防伪元件的两侧。
7.根据权利要求3所述的在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置，其特征在于，对于所述反射型液晶防伪元件，所述发光单元和所述镜头与传感器单元沿着反射光路设置在所述液晶防伪元件的同侧。
8.根据权利要求4所述的在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置，其特征在于，在所述第一偏振滤镜和所述第二偏振滤镜为线性偏振滤镜的情况下，所述第一偏振滤镜和所述第二偏振滤镜处于可转动状态，以调节所述第一偏振滤镜与所述第二偏振滤镜之间的夹角。
9.根据权利要求1所述的在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置，其特征在于，还包括: 反馈控制单元，与所述信号处理单元相耦合，用于根据所述工艺参数控制对所述液晶防伪元件中取向层的曝光强度以及对所述取向层的涂布速度。
10.根据权利要求1所述的在线检测液晶防伪元件中隐藏图像的装置，其特征在于，所述发光单元发射的平行光的波长与所述液晶层的涂布厚度相关。
【文档编号】G02F1/1337GK103528795SQ201210229092
【公开日】2014年1月22日 申请日期:2012年7月3日 优先权日:2012年7月3日
【发明者】陈庚, 周基炜, 王斌, 柯光明, 纪小妹, 胡自力 申请人:中国人民银行印制科学技术研究所, 中国印钞造币总公司