光学膜的制造方法

光学膜的制造方法
【专利摘要】本发明的目的在于制造局部膜厚变化了的缺陷少的光学膜。在本发明的光学膜的制造方法中，从挠性支承体的卷绕体(2)将具备制膜面(11)和背面(12)的长条状的支承体(1)退卷，向下游侧连续地运送，将支承体(1)的背面(12)清洗后，在支承体(1)的制膜面(11)上涂布树脂溶液并干燥。在支承体的背面与清洗辊(41)之间供给清洗液，利用清洗辊将清洗液涂布展开在支承体上，由此清洗支承体背面。
【专利说明】光学膜的制造方法

【技术领域】
[0001] 本发明涉及光学膜的制造方法。详细而言，本发明涉及通过溶液制膜法将缺陷少 的高品质的光学膜制膜的方法。

【背景技术】
[0002] 高分子膜具有优异的透光性、柔软性且能轻质薄膜化，作为图像显示装置形成用 的光学膜（例如，相位差板、偏振片、偏振片保护膜等）而广泛使用。
[0003] 作为高分子膜的制造方法之一，有溶液制膜法（溶剂流延法）。在溶液制膜法中， 将在溶剂中使聚合物溶解后的树脂溶液（涂料）涂布在支承体上后，通过加热等将溶剂除 去。通过溶液制膜法制膜的膜的膜厚、光学特性的均匀性优异，因此在光学膜的制膜中广泛 使用溶液制膜法。
[0004] 在溶液制膜中，存在使用包含不镑钢等金属的环形带、传动親等无端支承体的方 法；使用长条的塑料膜等有端支承体的方法。在无端支承体上制膜时，从支承体剥离涂布后 的膜（网）后，进行干燥、拉伸等加工。膜的厚度小时（例如40 ymW下时），存在从支承 体剥离后的膜的自支承性低、操作变困难的倾向。因此，无端支承体不适合膜厚小的膜的制 膜。
[0005] 另一方面，在塑料膜等有端支承体上制膜时，能在使网密合于支承体上的状态下 进行干燥、拉伸等工序。因此，即使是膜厚小而缺乏自支承性的膜，若使用有端支承体，则不 会产生操作性的问题，也能够容易地进行拉伸等后加工（例如，专利文献1和专利文献2)。
[0006] 在使用无端支承体、有端支承体的任一个时，都发现了下述问题：在支承体上附着 的异物等在制膜时混入膜内，成为光学缺陷。为了防止附着于支承体的异物混入，提出了在 溶液制膜前，或在溶液制膜中除去支承体上的异物的方法。作为异物除去方法，已知使用超 声波空气的方法（例如专利文献3)、喷吹清洗气体的方法（例如专利文献4)，水洗支承体 的方法（例如专利文献5)、与粘合親接触的方法（例如专利文献6)等。
[0007] 现有技术文献 [000引专利文献
[0009] 专利文献1 ;日本特开2009-93074号公报
[0010] 专利文献2 ;日本特开2007-331368号公报
[0011] 专利文献3 ;日本特开平10-309553号公报
[0012] 专利文献4 :日本特开2009-066982号公报
[0013] 专利文献5 ;日本特开2007-105662号公报
[0014] 专利文献6 ;日本特开平9-304621号公报


【发明内容】

[001引发明要解决的课题
[0016] 近年来，在显示器不断普及的同时，对光学膜的要求性能也在变高。同时，对显示 器的轻质化、薄型化的要求也变高，逐渐使用膜厚比w往小的光学膜。根据本发明人的研 究，若在树脂膜等的有端支承体上通过溶液制膜法将膜制膜，则有时产生点状的干涉不均 该样的缺陷（W下，有时称为"点状不均"），膜的膜厚越小，则越存在点状不均的发生变显 著的倾向。在发生点状不均的部分的膜的膜厚局部变小，推定其是附着于涂布親的异物带 来的影响。
[0017] 因此，本发明人为了除去附着于涂布親的异物，通过使异物除去用刀片（刮刀）与 涂布親接触来进行親表面的清扫，同时进行利用溶液涂布的制膜，尝试了点状不均的减少。 但是，在清扫親表面的方法中，无法明确地确认点状不均的减少效果。
[0018] 鉴于该样的课题，本发明的目的在于，在向支承体上的利用溶液制膜的光学膜的 制膜中，减少局部膜厚变小的"点状不均"缺陷的发生，得到高品质的光学膜。
[0019] 解决课题的手段
[0020] 鉴于上述而研究，结果发现；在将支承体抽出后直至涂布涂料之间，对支承体的制 膜面和相反侧的面（背面）进行在线清洗，由此点状不均减少。进一步研究的结果是发现， 通过利用清洗液使支承体的背面与親接触同时进行湿式清洗，由此点状不均大幅减少，从 而完成了本发明。
[0021] 本发明涉及光学膜的制造方法。在本发明的光学膜的制造方法中，从挽性支承体 的卷绕体将长条状的支承体退卷，向下游侧连续地运送（抽出工序）。支承体具有作为制膜 面的第一主面和作为制膜面的背面的第二主面。在本发明的制造方法中，将支承体的第二 主面清洗（清洗工序），其后，在支承体的第一主面上涂布树脂溶液并干燥（制膜工序），得 到光学膜。
[0022] 在清洗工序中，在支承体的背面与清洗親之间供给清洗液，利用清洗親将清洗液 涂布展开在支承体上，由此进行清洗。清洗親优选在表面具有凹凸图案，其中，优选使用凹 凸图案的凸部与親的圆周方向非平行地延伸存在的清洗親。认为：像该样，在本发明中，通 过隔着清洗液使清洗親与支承体的背面接触来进行湿式清洗，由此附着于支承体的背面的 异物被除去，点状不均减少。
[0023] 作为在本发明中使用的清洗親的例子，可举出凹版親、线棒親等。另外，作为清洗 液，优选使用沸点比水低的高挥发性液体。
[0024] 发明效果
[00巧]根据本发明的制造方法，能得到膜的膜厚局部变小的"点状不均"缺陷的发生被抑 制的高品质的光学膜。一般而言，在支承体上制膜的膜的厚度越小，则越易发生点状不均， 特别是在膜厚为40 y m W下时存在该影响变严重的倾向。与此相对，根据本发明的制造方 法，即使在支承体上制膜后的膜的干燥后的膜厚为40 y m W下时，也能减少点状不均的发 生。

【专利附图】

【附图说明】
[0026] 图1是表示光学膜制膜装置的一个实施方式的示意图。
[0027] 图2是用于说明凹版親的表面形状的示意俯视图。
[0028] 图3A是用于说明线棒親的表面形状的示意俯视图。
[0029] 图3B是图3A的线棒親的B1-B2线的剖面图。

【具体实施方式】
[0030] 图1是表示本发明的光学膜的制造中使用的制膜装置的一个实施方式的示意图。 在图1所示的制膜装置100中，长条状的支承体的卷绕体2设置于抽出部10。从卷绕体2 退卷的支承体1从抽出部10向制膜装置的下游侧连续地运送，经过导親51、52、53,向设置 于导親53的下游侧的清洗部40运送（抽出工序）。在清洗部40,清洗支承体1的背面（清 洗工序）。将清洗后的支承体1进一步向下游侧运送，经过导親54,向制膜部60运送，进行 制膜（制膜工序）。
[003。[支承体]
[0032] 支承体1只要具有挽性即可，优选使用机械强度、热稳定性、阻水性、各向同性等 优异的支承体。支承体具有第一主面、第二主面，在第一主面上将光学膜制膜。W下，在本 说明书中，将第一主面称为"制膜面"，将作为其相反侧的面的第二主面称为"背面"。
[0033] 作为支承体，使用例如树脂膜、金属铅、纸、布和它们的层叠体等。其中，由于表面 平滑性优异且来自支承体本身的异物的产生少，因此优选使用树脂膜。
[0034] 作为构成支承体膜的树脂材料，可举出聚对苯二甲酸己二醇醋、聚蔡二甲酸己二 醇醋等聚醋类；二己醜纤维素、H己醜纤维素等纤维素系聚合物；聚甲基丙帰酸甲醋等丙 帰酸系聚合物；聚苯己帰、丙帰膳-苯己帰共聚物等苯己帰系聚合物；聚己帰、聚丙帰、己 帰-丙帰共聚物等聚帰姪；聚降冰片帰等环状聚帰姪；尼龙、芳香族聚醜胺等醜胺系聚合 物；聚碳酸醋；氯己帰；醜亚胺系聚合物；讽系聚合物；聚離讽；聚離離丽；聚苯硫離；己帰 醇系聚合物；氯己帰；环氧系聚合物等。其中，优选使用在溶液制膜时不溶于溶剂的树脂材 料。
[00巧]支承体可W为无色透明，也可W为有色或不透明。在支承体上形成膜后，将支承体 与在其上形成的膜的层叠体作为层叠光学膜供于实用时，支承体优选使用透明且光学特性 均匀的支承体。可W对支承体的表面实施易粘接处理、脱模处理、抗静电处理、抗粘连处理 等。另外，出于抗粘连等目的，可W对支承体的宽度方向的端部实施印花加工（knurling,滚 花）等。
[0036] 支承体只要兼具自支承性和挽性，其厚度就没有特别限定。支承体的厚度一般为 20 y m?200 y m左右，优选30 y m?150 y m，更优选35 y m?100 y m。在长条膜该样的在 有端支承体上通过溶液制膜法进行制膜时，由于支承体的长度有限，因此能够连续制膜的 长度有限。一般而言，对于抽出部10、制膜后的卷取部（不图示），设置于架台的卷绕体的 重量、直径的上限已确定。因此，若支承体的厚度小，则可W使连续制膜长度变大，实现生产 率的提高。因此，在不会损害制膜性、操作性的范围内，优选支承体的厚度尽可能小。
[0037] 另一方面，根据本发明人的研究，支承体的厚度小时，能观察到点状不均的发生数 增大的倾向。与此相对，如后面详细叙述的那样，在本发明中，通过在制膜前用规定的方法 清洗支承体的背面，即使支承体的厚度小也可W抑制点状不均的发生。
[003引[清洗部]
[0039] 在支承体1的运送路线中，在抽出部10与制膜部60之间，设置有清洗部40。在清 洗部40,边使支承体1的背面12与清洗親41隔着清洗液接触边进行湿式清洗。在本发明 中推测，将在清洗親与支承体背面之间供给的清洗液利用清洗親在支承体上涂布展开时， 通过在清洗液与支承体的界面赋予剪切力，可w有效地清洗除去附着于支承体的异物等， 可W抑制点状不均。
[0040] 在图1所示的方式中，清洗部40具备W与支承体1的制膜面11接触的方式设置 的支撑親42、和W与支承体1的背面12接触的方式设置的清洗親41。在清洗盘48内胆存 有清洗液47,用刮片44将附着于清洗親41的表面的清洗液的剩余部分刮掉，所述清洗液被 引向支承体1的背面12。
[00川 <清洗親〉
[0042] 作为清洗親41，使用刀親（逗点親）、藤液親（*ス口一)、凹版親、线棒親等在 溶液涂布中使用的各种親。清洗親可W是旋转親，也可W是不旋转親。清洗親为旋转親时， 旋转方向可W为正向旋转、逆向旋转的任一种。
[0043] 从提高支承体的清洗效率的观点考虑，优选在清洗親的表面形成有凹凸。清洗親 表面的凹凸图案优选凸部与親的圆周方向非平行地延伸存在。通过与清洗親41的圆周方 向非平行地延伸存在的凸部与支承体的背面接触，有能够更有效地清洗除去附着于支承体 的异物等、抑制点状不均的倾向。
[0044] 作为具有在与圆周方向非平行的方向延伸存在的凸部的親，可举出例如凹版親、 线棒親、印花親等。由于不使支承体损伤而将清洗液涂布展开于支承体背面，因此作为清洗 親，特别优选使用凹版親和线棒親。
[0045] 图2是显示凹版親的表面的凹凸图案形状的一例的俯视图。在凹版親140的表面 W图案状形成有凹部（凹版沟）141和凸部142。认为；使用凹版親作为清洗親时，在该凹 部胆存的液体与支承体表面接触，并且附着于支承体表面的异物通过与凸部的接触而被刮 掉，由此异物被除去。需要说明的是，在图2中，作为凹版图案形状，图示出四边形（Square 型）的图案形状，但若凸部向倾斜方向延伸存在，则凹版图案的形状没有特别限定，例如可 W是H角形、蜂巢型等多边形状或斜线形状或曲线形状等线状。
[0046] 图3A是表示线棒親240的表面的凹凸图案形状的一例的俯视图，图3B是B1-B2 线的剖面图。线棒親是线等细线242在親主体（圆筒）241的表面W螺旋状卷绕而成的親， 通过细线242,形成在与圆周方向非平行的方向延伸存在的凸部。认为：使用线棒親作为清 洗親时，在邻接的细线242的间隙胆存的液体与支承体表面接触，并且附着于支承体表面 的异物通过与W螺旋状卷绕的细线242的接触而被刮掉，由此异物被除去。需要说明的是， 在图3A和B中，图示出一条的细线242卷绕于圆筒的方式，但线棒也可W由多条细线卷绕 而成。细线242可W没有间隙地卷绕，也能W-定的间隔卷绕。邻接的细线间的间隔优选 与细线的宽度相同程度或其W下。
[0047] 清洗親表面的凸部的高度没有特别限定，但与一般的凹版親、线棒親等的凸部的 高度同样地优选0. lym?10 ym左右的范围。若凸部的高度过小，则有时清洗效果变得不 充分。另一方面，若凸部高度过大，则清洗液的展开厚度变大，因此有时清洗效率降低、或清 洗液的干燥需要长时间，从而使生产效率降低。
[004引〈清洗液〉
[0049] 在清洗工序中，在清洗親41与支承体1的背面12之间供给清洗液。通过清洗親 41与支承体1的背面12接触，在支承体的背面涂布展开清洗液，进行清洗。清洗液为液体， 只要不溶解支承体1就没有特别限定，可W使用水、有机溶剂、水与有机溶剂的混合物等。
[0050] 从有效地进行从抽出部10到制膜部60的运送路线上的在线清洗的观点考虑，优 选使用低沸点且挥发性高的液体作为清洗液。作为高挥发性的液体，可举出甲醇、己醇、异 丙醇等醇类；丙丽、甲己丽等丽类；氯仿、二氯甲焼、二氯己焼等团代焼类；二己離、己丙離、 己基异丙基離等離类等。另外，也可W使用该些有机溶剂的混合物、该些有机溶剂与水的混 合物等。另外，W清洗力的提高等为目的，可W在清洗液中添加表面活性剂、亲水性有机化 合物等。作为亲水性有机化合物，可举出具有轻基、氨基、醜胺基、亚胺基、醜亚胺基、硝基、 氯基、异氯酸醋基、駿基、醋基、離基、撰基、賴酸基、SO基等的有机化合物。
[0051] <清洗方法〉
[0052] 清洗方法只要是将在清洗親41与支承体1的背面12之间供给的清洗液涂布展开 在支承体上的方法就没有特别限定。将清洗液向清洗親与支承体之间供给的方法也没有特 别限定。在图1中，图示出使清洗親41与清洗盘48内的清洗液47直接接触的方式（直接 凹版法），但也可W采用例如：使其他親（胶版親）与清洗盘内的清洗液接触，使附着于胶 版親表面的清洗液向W与胶版親接触的方式配置的清洗親移动的方法（间接凹版（offset gravure))等。除了使清洗液附着于清洗親41的表面的方法W外，也可W在支承体1与清 洗親41接触前，通过；利用缝形模头、喷雾等在支承体1的背面12涂布清洗液的方法、在清 洗盘内使支承体移动的方法、利用喷雾等使清洗液附着于清洗親41表面的方法等而在清 洗親41与支承体1的背面12之间供给清洗液。
[0053] 支承体1边与清洗親41接触，边向下游侧（图1的左侧）运送，因此在清洗親41 与支承体之间供给的清洗液必然在支承体表面涂布展开。清洗親41可W与支承体1的背 面12直接接触，也可W具有间隙。清洗親与支承体的背面的间隙优选例如0. 1 y m?10 y m 左右。间隙过大时，親与支承体隔着清洗液接触时的界面的剪切力变小，存在清洗效率降低 的倾向。清洗親在表面具有凹凸图案时，如前所述，根据親表面的凸部的高度，可W将清洗 親与支承体的间隙调整至所希望的范围。清洗親在表面不具有凹凸图案时，可W根据清洗 親与支承体的相对的位置关系来调整间隙。
[0054] 在图1中，图示出支承体1的背面12与清洗親41在清洗部40接触，制膜面11与 支撑親42接触的方式，但若W支承体1的背面12与清洗親41隔着清洗液接触的方式构成 支承体的运送路线，则不一定需要清洗部40中的支撑親。另外，可W使用在表面具有凹凸 的親等来代替支撑親42,与支承体1的背面12同时对制膜面11进行清洗。
[0055] 在清洗部40将背面12清洗了的支承体1经过导親54向制膜部60运送。需要说 明的是，在将支承体从清洗部40向制膜部60运送时，可W进行附着于支承体表面的清洗液 的干燥。干燥方法没有特别限定，可举出喷吹洁净气体的方法、在加热烘箱内使支承体通过 的方法等。
[0056] [制膜部]
[0057] 在制膜部60中，在支承体1的制膜面11上涂布展开涂料68,依照常法进行制膜。 在图1中，图示出刀親涂布机。在该親涂布机中，边使支承体1的背面12与支撑親62接触， 边使之与液体眶67内的涂料68接触，通过用刀親61进行涂料的移除来调整涂膜的厚度。 [005引制膜部60中的制膜方法不限于刀親涂布，可W使用藤液親涂布、凹版涂布、反转 涂布、喷雾涂布、线棒涂布、气刀涂布、淋涂、模唇涂布、模具涂布等各种方法。
[0059] 涂料68是用于形成光学膜的树脂材料的溶液（树脂溶液），根据需要，可W含有 色素、流平剂、增塑剂、紫外线吸收剂、劣化防止剂等添加剂。作为用于形成光学膜的树脂材 料，优选透明聚合物，例如，作为构成支承体膜的树脂材料优选使用上述物质等。另外，根据 目标光学膜的光学特性等，也可W混合多种树脂材料来使用。涂料的固体成分、粘度等根据 树脂的种类或分子量、光学膜的厚度、制膜方法等适当设定。
[0060] 光学膜的特性多依赖于膜厚。例如，光学补偿膜的延迟值用双折射与厚度之积表 示。另外，偏振板等的吸光度用吸光系数与厚度之积表示。因此，为了使光学膜的特性均匀， 优选制膜时的膜厚均匀。为了使膜厚均匀，如图1所示，优选边用支撑親62将支承体1的 背面12支承边进行制膜。
[0061] 另一方面，若在支撑親62与支承体1的背面12之间存在异物，则通过该挤压而使 支承体1的制膜面11变形为凸状。认为；若在其上涂布涂料，则支承体变形的部分的涂布 厚度局部变小，产生点状不均。与此相对，在本发明中，通过对支承体1的背面12在线清 洗，由此附着异物被除去，因此推定在边用支撑親将支承体支承边进行溶液制膜时，点状不 均的发生也被抑制。
[0062] 根据目标光学膜的特性等例如W干燥后的膜厚为1 y m?200 y m左右的方式设定 制膜厚度。一般而言，光学膜的干燥后的膜厚为40 ymW下时，有点状不均的发生变显著的 倾向。另一方面，在本发明中通过经过上述的清洗工序，即使在光学膜的干燥后的膜厚为 40 y m W下时，也能抑制点状不均的发生。因此，特别是在膜厚小的光学膜的制造中优选使 用本发明的制造方法。本发明的制造方法在光学膜的干燥后的膜厚为40 y m W下时的点状 不均的抑制中特别有效，例如在光学膜的膜厚为30 ym W下时、20 ym W下时、15 ym W下 时、10 ym W下时，也能够抑制点状不均。
[006引[涂布后的工序]
[0064] 将在支承体1的制膜面11上涂布的涂料的涂膜与支承体1 一起向干燥炉20内运 送，除去溶剂，形成膜。可W直接在干燥后的膜与支承体1密合的状态下进行卷取。也可W 在将支承体和膜剥离后，将两者分别卷取。另外，也可W将从支承体剥离后的膜进一步供给 于干燥、拉伸等其他工序。
[0065] 可W将在与支承体密合的状态下卷取的膜与支承体一体地作为光学膜供于实用。 另外，在使膜密合于支承体上的状态下，也可W供于拉伸等其他工序。其后，可W将支承体 与膜一体地作为光学膜使用，也可W从支承体剥离而作为光学膜使用。另外，可W转印于其 他膜基材等后使用，也可W在膜上进一步涂布其他涂布层等。
[0066] 由于像该样得到的本发明的光学膜的点状不均减少，光学缺陷少，因此可W作为 图像显示装置用的光学膜使用。作为图像显示装置用的光学膜，具体而言，可举出相位差板 等光学补偿膜、偏振片、偏振片保护膜等。
[0067] 实施例
[0068] W下举出实施例对本发明更详细地进行说明，但本发明不限于下述的实施例。
[006引[实施例U
[0070] <涂料的制备〉
[00川将2, 2' -双化4-二駿基苯基）六氣丙焼二酢化FDA)与2, 2' -双（H氣甲 基）-4,4' -二氨基联苯（TFMB)的缩聚物脱水而得的聚醜亚胺（重均分子量；120,000)溶 解于甲基异下基丽（MIBK)，制备出固体成分浓度15重量％的聚醜亚胺溶液（涂料）。
[0072] <聚醜亚胺膜的制膜〉
[0073] 作为支承体膜，使用厚度75 y m的双轴拉伸聚对苯二甲酸己二醇醋膜（H菱树脂 公司制，商品名；dia化il T302)。将支承体膜的卷绕体设置于图1中示意性地示出的制膜 装置的抽出部10,将支承体膜抽出，边使其移动边将异丙醇作为清洗液并使凹版親与支承 体膜的背面侧接触，由此进行支承体背面的清洗。在清洗后的基材的制膜面上W干燥后的 膜厚为6ym的方式涂布上述涂料，在15CTC使其干燥。将得到的聚醜亚胺膜与支承体一起 卷取。
[0074] [实施例引
[0075] 在上述实施例1中，除了支承体膜的背面侧，对于制膜面侧，也将异丙醇作为清洗 液边使凹版親接触边进行清洗。目P，在实施例2中，边使凹版親与支承体膜的背面和制膜面 该两面接触边进行清洗。其后，与实施例1同样地进行涂料的涂布和干燥，得到聚醜亚胺 膜。
[0076] [实施例 3、4]
[0077] 使用线棒親来代替凹版親。除此W外，与实施例1、2同样地进行清洗后，进行涂料 的涂布和干燥，得到聚醜亚胺膜。目P，在实施例3中，边使线棒親与支承体膜的背面接触边 进行清洗，在实施例4中边使线棒親与支承体膜的两面接触边进行清洗。
[007引[比较例U
[0079] 对支承体膜的背面、制膜面均不进行清洗，与实施例1同样地进行涂料的涂布和 干燥，得到聚醜亚胺膜。
[0080] [比较例引
[0081] 在上述实施例2中，不进行支承体膜的背面侧的清洗，边使凹版親仅与支承体膜 的制膜面接触边进行清洗。其后，与实施例1同样地进行涂料的涂布和干燥，得到聚醜亚胺 膜。
[008引[比较例引
[0083] 在上述实施例4中，不进行支承体膜的背面侧的清洗，边使线棒親仅与支承体膜 的制膜面接触边进行清洗。其后，与实施例1同样地进行涂料的涂布和干燥，得到聚醜亚胺 膜。
[0084] [比较例句
[0085] 与比较例1同样地，对支承体膜的背面、制膜面皆不进行清洗，与实施例1同样地 进行涂料的涂布和干燥，得到聚醜亚胺膜。在比较例4中，在涂料涂布时，使刮刀与和支承 体的背面接触的支撑親接触，边始终对支撑親进行清扫边进行制膜。
[008引[比较例引
[0087] 将在紧邻制膜装置的制膜部的前面与支承体的背面接触的导親变更为粘合親，进 行利用与粘合親的接触的支承体的背面的清洗。另一方面，在比较例5中，未进行使用清洗 親的清洗。除此W外与实施例1同样地进行涂料的涂布和干燥，得到聚醜亚胺膜。
[008引[比较例6]
[0089] 将在紧邻制膜装置的制膜部的前面与支承体的制膜面接触的导親变更为粘合親， 进行利用与粘合親的接触的支承体的制膜面的清洗。另一方面，在比较例6中，未进行使用 清洗親的清洗。除此W外与实施例1同样地进行涂料的涂布和干燥，得到聚醜亚胺膜。
[0090] [比较例7]
[0091] 将在紧邻制膜装置的制膜部的前面与支承体的背面接触的导親和与制膜面接触 的导親分别变更为粘合親，进行利用与粘合親的接触的支承体的背面和制膜面的清洗。另 一方面，在比较例7中，未进行使用清洗親的清洗。除此W外与实施例1同样地进行涂料的 涂布和干燥，得到聚醜亚胺膜。
[009引[比较例8]
[0093] 与实施例1同样地，将异丙醇作为清洗液，边使凹版親接触边对支承体膜的背面 侧进行清洗。其后，不涂布涂料，先卷取支承体膜（离线清洗）。将卷取后的支承体膜再次 设置于制膜装置，对支承体膜的背面、制膜面皆不进行清洗，进行涂料的涂布和干燥，得到 聚醜亚胺膜。
[0094] [比较例9]
[0095] 在上述比较例8中，使用线棒親来代替凹版親，对支承体膜的背面侧进行离线清 洗后，先卷取支承体膜。将卷取后的支承体膜再次设置于制膜装置，对支承体膜的背面、制 膜面皆不进行清洗，进行涂料的涂布和干燥，得到聚醜亚胺膜。
[0096] [评价]
[0097] 在暗室内，在将由在上述各实施例和比较例中得到的聚醜亚胺形成的光学膜与支 承体膜层叠的状态下，从聚醜亚胺膜侧照射白色光，目视确认由于膜厚变化而在反射光中 产生环状的干涉条纹的地方的有无。数出在Im 2的区域中产生环状的干涉条纹的地方的数 目，将其作为点状不均数。在表1中表示各实施例和比较例中的清洗条件和点状不均数的 一览。
[0098] [表 1]
[0099]

【权利要求】
1. 一种光学膜的制造方法，其具有： 抽出工序，从挠性支承体的卷绕体将具备第一主面和第二主面的长条状的支承体退 卷，并向下游侧连续地运送； 清洗工序，将所述支承体的第二主面清洗；和 制膜工序，在所述支承体的第一主面上涂布树脂溶液并干燥， 在所述清洗工序中，在所述支承体的第二主面与清洗辊之间供给清洗液，利用所述清 洗辊将所述清洗液涂布展开在支承体上，由此进行所述支承体的清洗。
2. 根据权利要求1所述的光学膜的制造方法，其中， 所述清洗辊在表面具有凹凸图案，所述凹凸图案的凸部与辊的圆周方向非平行地延伸 存在。
3. 根据权利要求2所述的光学膜的制造方法，其中， 所述清洗辊为凹版辊或线棒辊。
4. 根据权利要求1?3中任一项所述的光学膜的制造方法，其中， 所述清洗液是沸点比水低的液体。
5. 根据权利要求1?3中任一项所述的光学膜的制造方法，其中， 在所述制膜工序中，以干燥后的膜厚为40 y m以下的方式进行所述树脂溶液的涂布。
【文档编号】G02B5/30GK104422981SQ201410429146
【公开日】2015年3月18日 申请日期:2014年8月27日 优先权日:2013年9月4日
【发明者】铃木畅, 森拓也, 林大辅, 村冈敦史, 村上奈穗 申请人:日东电工株式会社