专利名称：用于制造光学薄膜的组合物及光学薄膜的制作方法
技术领域：
本发明涉及组合物及光学薄膜。
背景技术：
平板显示装置(FPD)中使用着含有偏光板及相位差薄膜等光学薄膜的构件。作为光学薄膜，已知通过将含有聚合性液晶化合物、光致聚合引发剂及溶剂的组合物涂布在基材上制造而成的光学薄膜。例如，专利文献I中，记载着在实施了取向处理的基材上涂布组合物得到涂布膜，使涂布膜中包含的聚合性液晶化合物取向之后，通过使聚合性液晶化合物聚合而形成的光学薄膜。[现有技术文献][专利文献][专利文献I]日本专利特开2007-148098号公报
发明内容
解决问题的手段本发明包括以下的发明。 [I] 一种含有以下的(A)、(B)及(C)的组合物。(A)聚合性液晶化合物(B)分子内具有碳-碳不饱和键和活性氢反应性基团的化合物(C)光致聚合引发剂[2]根据[I]记载的组合物，(B)是具有作为活性氢反应性基团的异氰酸基的化合物。[3]根据[I]记载的组合物，(B)是下述式(X)所表示的化合物，
权利要求
1.一种含有以下的(A)、(B)及(C)的组合物， (A)聚合性液晶化合物 (B)分子内具有碳-碳不饱和键和活性氢反应性基团的化合物 (C)光致聚合引发剂。
2.根据权利要求1记载的组合物，其中，(B)是具有异氰酸基作为活性氢反应性基团的化合物。
3.根据权利要求1记载的组合物，其中，(B)是下述式(X)所表示的化合物，
4.根据权利要求1 3的任意一项记载的组合物，其中，(A)是式(A)所表示的化合物，
5.根据权利要求4记载的组合物，其中，(A)是式(A)的L1为式(Al)所表示的基团且L2为式(A2)所表示的基团时的化合物， P1-F1- (B1-A1)k-E1-(Al) P2-F2- (B2-A2)1-E2-(A2) 式(Al)及式(A2)中，B1 >B2>E1 及 E2 分别独立地表不-CR4R5->-CHg-CH2->_0_>_S_>-CO-O->-O-CO-O->-CS-O->_0_CS_0_> -CO-NR1 -O-CH2-> -S-CH2-或单键， A1及A2分别独立地表示碳原子数5 8的2价脂环式烃基或碳原子数6 18的2价芳烃基，构成所述脂环式烃基的亚甲基被氧原子、硫原子或-NH-取代或不被取代，构成所述脂环式烃基的次甲基被叔氮原子取代或不被取代， k及I分别独立地表示O 3的整数，k是2以上的整数时，多个B1互相相同或不同，多个A1互相相同或不同，I是2以上的整数时，多个B2互相相同或不同，多个A2互相相同或不同， F1及F2表示碳原子数I 12的2价脂肪族烃基， P1表示聚合性基团， P2表示氢原子或聚合性基团， R1、R4及R5表示与上述相同的意思。
6.一种光学薄膜， 其由权利要求1 5的任意一项记载的组合物中包含的聚合性液晶化合物聚合形成。
7.一种光学薄膜的制造方法，包括以下的(I)及(2)， (1)将权利要求1 5的任意一项记载的组合物涂布在基材上的工序； (2)通过使由(I)得到的涂布在基材上的涂布膜中包含的聚合性液晶化合物聚合而形成光学薄膜的工序。
8.根据权利要求7记载的光学薄膜的制造方法，其中，基材由具有羟基的材料构成。
9.根据权利要求8记载的光学薄膜的制造方法，其中，具有羟基的材料是将三乙酰纤维素皂化得到的材料。
10.根据权利要求7 9的任意一项记载的光学薄膜的制造方法,其中,基材的表面上设置有由光取向性聚合物形成的取向膜。
11.根据权利要求10记载的光学薄膜的制造方法，其中，取向膜是通过光取向性聚合物经光照射形成了交联结构而设置的。
12.一种光学薄膜，其通过权利要求7 11的任意一项记载的制造方法制得。
13.根据权利要求6或12记载的光学薄膜,其具有相位差性。
14.一种偏光板,其含有权利要求6、12或13记载的光学薄膜。
15.一种平板显示装置，其具备权利要求6、12或13记载的光学薄膜。
16.一种组合物，其含有以下的(D)及(B)， (D)光取向性聚合物 (B)分子内具有碳-碳不饱和键和活性氢反应性基团的化合物。
17.根据权利要求16记载的组合物，其中，(D)是通过光照射能够形成交联结构的光取向性聚合物。
18.根据权利要求16或17记载的组合物，其中，(B)是具有异氰酸基作为活性氢反应性基团的化合物。
19.根据权利要求16或17记载的组合物，其中，(B)是下述式(X)所表示的化合物，
20.一种光学薄膜，其由权利要求16 19的任意一项记载的组合物中包含的光取向性聚合物交联形成。
21.一种光学薄膜的制造方法，包括以下(I)及(2)， (I)将权利要求16 19的任意一项记载的组合物涂布在基材上的工序； (2 )通过使由(I)得到的涂布在基材上的涂布膜中包含的光取向性聚合物交联而形成光学薄膜的工序。
22.根据权利要求21记载的光学薄膜的制造方法，其中，基材由具有羟基的材料构成。
23.根据权利要求22记载的光学薄膜的制造方法，其中，具有羟基的材料是三乙酰纤维素皂化得到的材料。
24.一种光学薄膜，其由权利要求21 23的任意一项记载的制造方法制得。
25.—种相位差板,其是在权利要求20或24记载的光学薄膜上进一步形成光学各向异性层而成。
26.—种偏光板,其含有权利要求20或24记载的光学薄膜。
27.一种平板显示装置，其具备权利要求20或24记载的光学薄膜。
28.一种光学薄膜，其按照基材、由组合物(A)形成的A层及由组合物(B)形成的B层的顺序积层而成，其中， 组合物(A)含有以下的(D)及(B-1)，组合物(B)含有以下的(A)、(B-2)及(C)， (D)光取向性聚合物 (B-1)具有碳-碳不饱和键和活性氢反应性基团的化合物 (A)聚合性液晶化合物 (B-2)具有碳-碳不饱和键和活性氢反应性基团的化合物 (C)光致聚合引发剂。
29.根据权利要求28记载的光学薄膜，其中，(D)是通过光照射能够形成交联结构的光取向性聚合物。
30.根据权利要求28或29记载的光学薄膜，其中，(B-1)及(B-2)皆是具有作为活性氢反应性基团的异氰酸基的化合物。
31.根据权利要求28或29记载的光学薄膜，其中，(B-1)及(B-2)分别独立地为下述式(X)所表示的化合物，
32.根据权利要求28 31的任意一项记载的光学薄膜，其中，A层是由组合物(A)中含有的(D)交联形成的层。
33.根据权利要求28 32的任意一项记载的光学薄膜，其中，基材由具有羟基的材料构成。
34.根据权利要求33记载的光学薄膜，其中，具有羟基的材料是由三乙酰纤维素皂化得到的材料。
35.根据权利要求28 34的任意一项记载的光学薄膜，其具有相位差性。
36.一种光学薄膜的制造方法，其包括以下〈1> 〈4>的工序， 〈1>通过在基材上涂布含有以下的(D)及(B-1)的组合物(A)，在基材上形成第I涂布膜的工序； (D)光取向性聚合物 (B-1)具有碳-碳不饱和键和活性氢反应性基团的化合物 <2>通过使由〈1>得到的涂布在基材上的第I涂布膜中包含的(D)交联，将第I涂布膜转变为A层的工序； <3>通过在由〈2>形成的A层上涂布含有以下的(A)、(B-2)及(C)的组合物(B)，在A层上形成第2涂布膜的工序； (A)聚合性液晶化合物 (B-2)具有碳-碳不饱和键和活性氢反应性基团的化合物 (C)光致聚合引发剂 <4>使由〈3>形成的第2涂布膜中包含的聚合性液晶化合物聚合的工序。
37.一种光学薄膜，其由权利要求36记载的制造方法制得。
38.一种偏光板,其含有权利要求28 35的任意一项或权利要求37记载的光学薄膜。
39.一种平板显示装置，其具备权利要求28 35的任意一项或权利要求37记载的光学薄膜。
全文摘要
本发明的课题是提供在基材或偏光膜与光学薄膜之间显示优异的紧贴性的光学薄膜制造用组合物、以及由该组合物制造的光学薄膜。解決手段是提供含有以下的(A)、(B)及(C)的组合物以及由该组合物形成的光学薄膜。(A)聚合性液晶化合物(B)分子内具有碳-碳不饱和键和活性氢反应性基团的化合物(C)光致聚合引发剂优选所述(B)为具有异氰酸基作为活性氢反应性基团的化合物。
文档编号C08F267/06GK103214620SQ20131002209
公开日2013年7月24日 申请日期2013年1月21日 优先权日2012年1月23日
发明者小林忠弘 申请人:住友化学株式会社