一种摩擦设备的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种摩擦设备，包括容纳空间，设置在所述容纳空间内的摩擦单元和用于将第一摩擦辊替换为第二摩擦辊的换辊单元，所述容纳空间内还设有一隔离结构，所述隔离结构将所述容纳空间划分为第一部分和第二部分，所述换辊单元位于所述第一部分，所述摩擦单元位于所述第二部分；所述隔离结构上设有一门，其中所述门位于打开状态时，所述第一摩擦辊或第二摩擦辊可进出所述摩擦单元；所述门位于关闭状态时，所述隔离结构将所述换辊单元和所述摩擦单元隔离为相互独立的空间。本发明的有益效果是：换辊单元与摩擦单元分离，换辊时不会影响摩擦单元的环境。
【专利说明】一种摩擦设备
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示制作【技术领域】，尤其涉及一种摩擦设备。
【背景技术】
[0002]近年TFT-LCD行业蓬勃发展，产品技术越来越先进，我们对产品生产过程中品质管控提出了更高的要求。摩擦工艺是玻璃基板滴入液晶之前用摩擦辊在玻璃基板上摩擦，以使液晶分子能够有序的排列，是成盒工程的重要一环，而粉尘对于摩擦工艺的影响巨大。因此，玻璃基板在进入摩擦机之前都要经过USC清洗，也有先进的产线配备摩擦辊清洗装置。但由于目前的换辊单元都与摩擦机设计在一个封闭空间内，换辊时不可避免会有产线的粉尘进入摩擦机本体内部，造成摩擦环境的污染；并且摩擦辊也会粘附有产线的粉尘，而这些粉尘都会降低产品的品质。另外，使用当前换辊单位进行换辊操作时，必须等到摩擦机停止工作，解锁换辊入口门后，方可将新辊推入进行换辊。这种换辊方式造成了摩擦机闲置至少5分钟，降低了整个产线的生产效率。同时，打开换辊入口门后，操作人员将直接面对摩擦机内部，有被其内部安装的软X射线照射的危险，存在一定的安全隐患。
【发明内容】
[0003]为了解决上述技术问题，本发明提供一种摩擦设备，换辊不会影响摩擦设备内的摩擦单元的环境，节省换辊时间。
[0004]为了达到上述目的，本发明采用的技术方案是:一种摩擦设备，包括容纳空间，设置在所述容纳空间内的摩擦单元和用于将第一摩擦辊替换为第二摩擦辊的换辊单元，
[0005]所述容纳空间内还设有一隔离结构，所述隔离结构将所述容纳空间划分为第一部分和第二部分，所述换辊单元位于所述第一部分，所述摩擦单元位于所述第二部分；所述隔离结构上设有一门，其中
[0006]所述门位于打开状态时，所述第一摩擦辊或第二摩擦辊可进出所述摩擦单元；
[0007]所述门位于关闭状态时，所述隔离结构将所述换辊单元和所述摩擦单元隔离为相互独立的空间。
[0008]进一步的，所述换辊单元包括用于对所述第二摩擦辊进行清洁的风淋装置。
[0009]进一步的，所述换辊单元包括用于对所述第二摩擦辊进行清洁的吸尘装置。
[0010]进一步的，还包括设于所述容纳空间上用于控制所述隔离结构上的门开闭的驱动
目.ο
[0011]进一步的，所述隔离结构包括一隔离板，所述隔离板的相对的两侧设有导轨，所述门在所述驱动装置的作用下可沿着所述导轨移动以呈打开或关闭状态。
[0012]进一步的，还包括设于所述容纳空间上用于所述第一摩擦辊或第二摩擦辊进出所述换辊单元的门，所述换辊单元的门呈打开状态时，所述隔离结构上的门呈关闭状态。
[0013]进一步的，还包括用于运输第一摩擦辊和第二摩擦辊的运输装置。
[0014]本发明的有益效果是:换辊单元与摩擦单元分离，换辊时不会影响摩擦单元的环境。
【专利附图】
【附图说明】
[0015]图1表不本发明实施例第一部分结构不意图；
[0016]图2表示图1的侧视图；
[0017]图3表示本发明实施例隔离结构上的门关闭状态示意图；
[0018]图4表示本发明实施例隔离结构上的门打开状态示意图。
【具体实施方式】
[0019]以下结合附图对本发明的结构和原理进行详细说明，所举实施例仅用于解释本发明，并非以此限定本发明的保护范围。
[0020]本实施例提供一种摩擦设备，包括容纳空间，设置在所述容纳空间内的摩擦单元和用于将第一摩擦辊替换为第二摩擦辊的换辊单元，
[0021]所述容纳空间内还设有一隔离结构，所述隔离结构将所述容纳空间划分为第一部分和第二部分，所述换辊单元位于所述第一部分，所述摩擦单元位于所述第二部分；所述隔离结构上设有一门，其中
[0022]所述门位于打开状态时，所述第一摩擦辊或第二摩擦辊可进出所述摩擦单元；
[0023]所述门位于关闭状态时，所述隔离结构将所述换辊单元和所述摩擦单元隔离为相互独立的空间。
[0024]图1所示的是摩擦设备中第一部分结构示意图，即换辊单元结构示意图，隔离结构的设置将换辊单元和摩擦单元分离开来，且仅在第一摩擦辊或第二摩擦辊进出所述摩擦单元时，所述隔离结构的门呈打开状态，如图3所示，其余情况下，隔离结构上的门呈关闭状态，如图4所示，此时，所述第一部分和所述第二部分被所述隔离结构隔离为相互独立的空间，即所述换辊单元和所述摩擦单元被隔离为相互独立的封闭空间，则在换辊单元进行换辊时，外部环境不会对摩擦单元的环境造成任何影响，且摩擦单元仍可正常工作，节省了时间，提高工作效率。
[0025]可选的，所述换辊单元包括用于对所述第二摩擦辊I进行清洁的风淋装置2。
[0026]可选的，所述换辊单元包括用于对所述第二摩擦辊I进行清洁的吸尘装置3。
[0027]由图1所示，所述风淋装置2设于换辊单元的顶部，即位于所述第二摩擦辊I的上方，所述吸尘装置3位于换辊单元的底部，即位于所述第二摩擦辊I的下方，风淋装置2和吸尘装置3的设置便于所述第二摩擦辊I的清洁，所述第二摩擦辊I在进入所述摩擦单元之前被清洁，有效的避免了摩擦单元的环境污染。
[0028]可选的，所述隔离结构包括一端固定于所述容纳空间的顶部，另一端为自由端的隔离板，所述门即所述隔离板，在所述第一摩擦辊或第二摩擦辊进出所述摩擦单元时，所述第一摩擦辊或所述第二摩擦辊的移动使得所述隔离板沿着所述第一摩擦辊或第二摩擦辊的移动方向摇摆、以打开所述门，其余情况下，所述隔离板在重力作用下将所述换辊单元和所述摩擦单元隔离为相互独立的空间。
[0029]所述隔离结构的结构形式可以有多种，并不限于上述描述，在另一实施例中，所述摩擦设备还包括设于所述容纳空间上用于控制所述隔离结构上的门开闭的驱动装置。
[0030]如图3和图4所示，所述隔离结构包括一隔离板5，所述隔离板5的相对的两侧设有导轨4，所述门6在所述驱动装置的作用下可沿着所述导轨4移动以呈打开或关闭状态。
[0031]图3所示的是隔离板上的门呈关闭状态的状态示意图，图4所示的是隔离板的门呈打开状态的状态示意图。
[0032]所述门的开关可以是自动的，也可以是手动的，所述门的开关是手动控制时，所述驱动装置可以是设置在所述容纳空间上的可控制所述门6移动的把手，所述门的开关是自动控制时，所述驱动装置为一与所述门6连接的电机。
[0033]所述摩擦设备还包括设于所述容纳空间上用于所述第一摩擦辊或第二摩擦辊进出所述换辊单元的门(图中未示出)，所述换辊单元的门呈打开状态时，所述隔离结构上的门呈关闭状态。
[0034]所述隔离结构的设置，使得所述摩擦单元在工作状态下，所述容纳空间上的门仍然可以打开，即将第二摩擦辊运送至换辊单元准备替换所述第二摩擦辊这一过程中，摩擦单元仍可正常工作，提高工作效率。
[0035]可选的，还包括用于运输第一摩擦辊和第二摩擦辊的运输装置。
[0036]以下具体介绍本实施例中换辊流程:
[0037]将所述容纳空间的门打开，通过第一子运输装置10(如图1所示，所述第一子运输装置为一运输车)将第二摩擦辊I送入换辊单元，通过风淋装置2和吸尘装置3对所述第二摩擦辊I进行清洁(以上工作流程中，所述隔离结构上的门6呈关闭状态，所述换辊单元和所述摩擦单元被隔离结构隔离为相互独立的空间)，摩擦单元工作结束后，所述隔离结构上的门6打开，第二子运输装置20将第一摩擦辊运送至换辊单元，且将清洁后的第二摩擦辊I运送至摩擦单元，所述隔离结构的门6关闭。
[0038]以上所述为本发明较佳实施例，需要指出的是，对于本领域普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明保护范围。
【权利要求】
1.一种摩擦设备，包括容纳空间，设置在所述容纳空间内的摩擦单元和用于将第一摩擦辊替换为第二摩擦辊的换辊单元，其特征在于， 所述容纳空间内还设有一隔离结构，所述隔离结构将所述容纳空间划分为第一部分和第二部分，所述换辊单元位于所述第一部分，所述摩擦单元位于所述第二部分；所述隔离结构上设有一门，其中 所述门位于打开状态时，所述第一摩擦辊或第二摩擦辊可进出所述摩擦单元； 所述门位于关闭状态时，所述隔离结构将所述换辊单元和所述摩擦单元隔离为相互独立的空间。
2.根据权利要求1所述的摩擦设备，其特征在于，所述换辊单元包括用于对所述第二摩擦辊进行清洁的风淋装置。
3.根据权利要求1所述的摩擦设备，其特征在于，所述换辊单元包括用于对所述第二摩擦辊进行清洁的吸尘装置。
4.根据权利要求1所述的摩擦设备，其特征在于，还包括设于所述容纳空间上用于控制所述隔离结构上的门开闭的驱动装置。
5.根据权利要求4所述的摩擦设备，其特征在于，所述隔离结构包括一隔离板，所述隔离板的相对的两侧设有导轨，所述门在所述驱动装置的作用下可沿着所述导轨移动以呈打开或关闭状态。
6.根据权利要求1所述的摩擦设备，其特征在于，还包括设于所述容纳空间上用于所述第一摩擦辊或第二摩擦辊进出所述换辊单元的门，所述换辊单元的门呈打开状态时，所述隔离结构上的门呈关闭状态。
7.根据权利要求1所述的摩擦设备，其特征在于，还包括用于运输第一摩擦辊和第二摩擦辊的运输装置。
【文档编号】G02F1/1337GK104503146SQ201410830080
【公开日】2015年4月8日 申请日期:2014年12月25日 优先权日:2014年12月25日
【发明者】董家勇, 刘来峰, 武大伟, 王文浩, 李涛 申请人:合肥鑫晟光电科技有限公司, 京东方科技集团股份有限公司