一种摩擦设备的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开一种摩擦设备，所述摩擦设备包括基台、清洁装置、摩擦辊和驱动件，所述基台用于承载至少一个被摩擦件；所述清洁装置与所述基台相对设置，用于清洁所述被摩擦件；所述摩擦辊位于所述基台和所述清洁装置之间，用于摩擦所述被摩擦件；所述驱动件用于驱动所述摩擦辊相对于所述基台转动，以摩擦所述被摩擦件。
【专利说明】一种摩擦设备
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及电子工艺【技术领域】，尤其涉及一种摩擦设备。
【背景技术】
[0002]当前，随着信息化建设在蓬勃发展，作为信息发布的终端显示设备，已经广泛应用于工作和生活的各个方面。在液晶显示设备的生产工艺中，需要液晶面板的液晶分子进行取向。
[0003]现有的摩擦取向方式具体为:首先将所述液晶面板放置在清洁区域进行区域，然后传送到摩擦装置进行摩擦，待摩擦完成后，再传送到清洁区域进行清洁。
[0004]但是上述现有技术存在如下技术问题:
[0005]由于在摩擦的过程中，极易产生绒毛、尘埃，且在高强度摩擦下还会产生有机物碎屑，部分尘埃或碎屑等会附着在摩擦布的表面，从而导致所述线状显示不良，同时还会缩短摩擦布的使用寿命。
实用新型内容
[0006]本申请提供一种摩擦设备，解决了现有技术中在摩擦的过程中产生的绒毛、尘、有机物碎屑附着在摩擦布的表面，导致线状显示不良，缩短摩擦布的使用寿命的技术问题。
[0007]本申请提供一种摩擦设备，所述摩擦设备包括基台、清洁装置、摩擦辊和驱动件，所述基台用于承载至少一个被摩擦件；所述清洁装置与所述基台相对设置，用于清洁所述被摩擦件；所述摩擦辊位于所述基台和所述清洁装置之间，用于摩擦所述被摩擦件；所述驱动件用于驱动所述摩擦辊相对于所述基台转动，以摩擦所述被摩擦件。
[0008]优选地，所述清洁装置包括腔体、高压气体入口和真空吸附口，所述高压气体入口和所述真空吸附口均与所述腔体连通。
[0009]优选地，所述高压气体入口的数目至少为两个，分别开设于所述清洁装置的相对两侧面上，所述真空吸附口开设于所述清洁装置上与所述被摩擦件相背的表面的中部。
[0010]优选地，所述至少两个高压气体入口开设于所述清洁装置上与所述摩擦辊的轴向两端相对应的两个侧面上。
[0011]优选地，所述清洁装置在所述摩擦辊上平行于所述基台的径向方向上两侧边缘的厚度大于中间部分的厚度。
[0012]优选地，所述清洁装置包括第一清洁部、第二清洁部和连接所述第一清洁部和所述第二清洁部的连接部，所述第一清洁部上开设有第一腔体和至少一与所述第一腔体连通的第一高压气体入口，所述第二清洁部上开设有第二腔体和至少一与所述第二腔体连通的第二高压气体入口，所述连接部上开设有第三腔体和至少一与所述第三腔体连通的真空吸附口，所述第一腔体和第二腔体与所述第三腔体连通。
[0013]优选地，所述第一清洁部和所述第二清洁部在所述基台上的投影位于所述摩擦辊在所述基台上的投影的相对两侧。[0014]优选地，所述第一清洁部和所述第二清洁部中每个清洁部在所述摩擦辊上平行于所述基台的径向方向上两侧边缘的厚度大于中间部分的厚度。
[0015]优选地，所述摩擦设备还包括对位汽缸，所述对位汽缸用于调整所述摩擦辊的位置。
[0016]优选地，所述摩擦设备还包括检测装置和控制器，所述检测装置用于检测所述摩擦辊的位置信息，并将所述位置信息发送给所述控制器，所述控制器根据所述位置信息控制所述对位汽缸调整所述摩擦辊的位置。
[0017]本申请有益效果如下:
[0018]在需要对所述被摩擦件进行摩擦时，将所述被摩擦件放置于所述基台上并位于所述被摩擦位置时，启动所述驱动件，以驱动所述摩擦辊转动，从而摩擦所述被摩擦件，同时，在启动所述驱动件时，启动所述清洁装置，使得所述清洁装置对所述被摩擦件和所述摩擦辊进行清洁，从而在所述摩擦辊摩擦所述被摩擦件的过程中，所述清洁装置能够对摩擦过程中产生的绒毛、尘、有机物碎屑等进行清洁，以减少附着在所述摩擦辊表面的绒毛、尘、有机物碎屑，降低产品的不良率，解决了现有技术中在摩擦的过程中产生的绒毛、尘、有机物碎屑附着在摩擦布的表面，导致线状显示不良，缩短摩擦布的使用寿命的技术问题。
[0019]在需要对所述被摩擦件清洁时，从所述高压气体入口向所述腔体内通入高压气体，并在所述真空吸附口进行真空吸附，通过所述高压气体入口处和所述真空吸附口处的气压差，使得所述清洁装置产生震动，从而使得所述被摩擦件和所述摩擦辊周围的空气产生震动，从而对所述被摩擦件的表面进行气流冲击，从而避免摩擦过程中产生的绒毛、尘、有机物碎屑等停留在被摩擦件的表面，或者摩擦辊的表面。
[0020]通过将所述高压气体入口设置在所述清洁装置的相对两侧面上，和将所述真空吸附口开设于所述清洁装置上与所述被摩擦件相背的表面的中部，从而减小所述高压气体入口和所述真空吸附口之间的距离，从而增大所述被摩擦件和所述摩擦辊周围的空气产生震动量，增大对所述被摩擦件的表面进行气流冲击力。
[0021]通过将所述清洁装置在所述基台上的投影在垂直于所述摩擦辊的轴向方向上的尺寸大于所述摩擦辊的径向尺寸，从而增大所述清洁装置与所述被摩擦件之间的相对面积，增大所述被摩擦件和所述摩擦辊周围的空气振动范围，增大在所述摩擦件上的气流冲击表面。
[0022]通过设置用于检测所述摩擦辊的位置信息的检测装置，和用于接收所述检测装置发送的所述位置信息，并根据所述位置信息控制所述对位汽缸调整所述摩擦辊的位置的控制装置，从而实现自动调整所述摩擦辊的位置，避免因所述摩擦辊的位置发生偏移而造成被摩擦件摩擦不良。
[0023]通过从所述第一高压气体入口向所述第一腔体内通入高压气体，从所述第二高压气体入口向所述第二腔体内通入高压气体，并在所述真空吸附口进行真空吸附，使得所述第一清洁部和所述第二清洁部发生振动，从而使得所述被摩擦件周围的空气产生震动，从而对所述被摩擦件的表面进行气流冲击，从而避免摩擦过程中产生的绒毛、尘、有机物碎屑等停留在被摩擦件的表面，或者摩擦辊的表面。
[0024]通过将所述第一清洁部和所述第二清洁部设置在所述基台上的投影位于所述摩擦辊在所述基台上的投影的相对两侧，从而减小因所述第一清洁部和所述第二清洁部振动而使空气振动对所述摩擦辊所产生的影响。
【专利附图】
【附图说明】
[0025]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例。
[0026]图1为本申请第一较佳实施方式摩擦设备的主视图；
[0027]图2为图1中摩擦设备的侧视图；
[0028]图3为图1中摩擦设备的俯视图；
[0029]图4为本申请另一较佳实施方式摩擦设备的主视图；
[0030]图5为图4中摩擦设备的侧视图；
[0031]图6为图4中摩擦设备的俯视图。
【具体实施方式】
[0032]本申请实施例通过提供一种摩擦设备，解决了现有技术中在摩擦的过程中产生的绒毛、尘、有机物碎屑附着在摩擦布的表面，导致线状显示不良，缩短摩擦布的使用寿命的技术问题。
[0033]本申请实施例中的技术方案为解决上述技术问题，总体思路如下:
[0034]一种摩擦设备，所述摩擦设备包括基台、清洁装置、摩擦辊和驱动件，所述基台用于承载至少一个被摩擦件；所述清洁装置与所述基台相对设置，用于清洁所述被摩擦件；所述摩擦辊位于所述基台和所述清洁装置之间，用于摩擦所述被摩擦件；所述驱动件用于驱动所述摩擦辊相对于所述基台转动，以摩擦所述被摩擦件。
[0035]为了更好的理解上述技术方案，下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案进行详细的说明。
[0036]如图1所示，为本申请第一较佳实施方式摩擦设备100的主视图。所述摩擦设备100应用于摩擦工艺中，如用于对被摩擦件160进行摩擦，所述被摩擦件160可以为需要被摩擦的任何元件，如液晶面板等。在所述被摩擦件160为液晶面板时，所述摩擦设备对所述液晶面板进行摩擦，以为液晶面板的液晶分子进行摩擦取向。
[0037]同时参阅图2和图3，所述摩擦设备100包括基台120、清洁装置130、摩擦辊140和驱动件150。
[0038]所述基台120用于承载至少一个被摩擦件160。所述基台120可以固定设置，也可以可移动地设置于一支架上。在所述基台固定时，所述被摩擦件160可以通过其他辅助设备如机械手等放置于所述基台120上，或者从所述基台120上移开。在所述基台可以移动地设置于所述支架上时，所述被摩擦件160可以通过所述基台120的移动而带动所述被摩擦件160位于被摩擦位置或者离开所述被摩擦位置。
[0039]所述清洁装置130与所述基台120相对设置，用于清洁承载于所述基台120上的所述被摩擦件160。
[0040]所述摩擦辊140位于所述基台120和所述清洁装置130之间，用于摩擦所述被摩擦件160。[0041]所述驱动件150用于驱动所述摩擦辊140相对于所述基台120转动，以摩擦所述被摩擦件160。所述驱动件150可以为驱动马达，通过减速机构连接所述摩擦辊140，或者直接连接所述摩擦辊140，以驱动所述摩擦辊140相对于所述基台120转动。所述驱动件150还可以为AC发动机，所述AC发动机可以通过皮带与所述摩擦辊140连接，以驱动所述摩擦辊140相对于所述基台120转动。
[0042]在需要对所述被摩擦件160进行摩擦时，将所述被摩擦件160放置于所述基台120上并位于所述被摩擦位置时，启动所述驱动件150,以驱动所述摩擦棍140转动,从而摩擦所述被摩擦件160，同时，在启动所述驱动件150时，启动所述清洁装置130，使得所述清洁装置130对所述被摩擦件160和所述摩擦辊140进行清洁，从而在所述摩擦辊140摩擦所述被摩擦件160的过程中，所述清洁装置130能够对摩擦过程中产生的绒毛、尘、有机物碎屑等进行清洁，以减少附着在所述摩擦辊140表面的绒毛、尘、有机物碎屑，降低产品的不良率，解决了现有技术中在摩擦的过程中产生的绒毛、尘、有机物碎屑附着在摩擦布的表面，导致线状显示不良，缩短摩擦布的使用寿命的技术问题。
[0043]具体地，所述清洁装置130包括腔体131、高压气体入口 132和真空吸附口 133，所述高压气体入口 132和所述真空吸附口 133均与所述腔体131连通。在需要对所述被摩擦件160清洁时，从所述高压气体入口 132向所述腔体131内通入高压气体，并在所述真空吸附口 133进行真空吸附，通过所述高压气体入口 132处和所述真空吸附口 133处的气压差，使得所述清洁装置130产生震动，从而使得所述被摩擦件160和所述摩擦辊140周围的空气产生震动，从而对所述被摩擦件160的表面进行气流冲击，从而避免摩擦过程中产生的绒毛、尘、有机物碎屑等停留在被摩擦件160的表面，或者摩擦辊140的表面。
[0044]具体地，所述高压气体入口 132的数目至少为两个，分别开设于所述清洁装置130的相对两侧面上，所述真空吸附口 133开设于所述清洁装置130上与所述被摩擦件160相背的表面的中部。通过将所述高压气体入口 132设置在所述清洁装置130的相对两侧面上，和将所述真空吸附口 133开设于所述清洁装置130上与所述被摩擦件160相背的表面的中部，从而减小所述高压气体入口 132和所述真空吸附口 133之间的距离，从而增大所述被摩擦件160和所述摩擦辊140周围的空气产生震动量，增大对所述被摩擦件160的表面进行气流冲击力。
[0045]在本实施方式中，所述至少两个高压气体入口 132开设于所述清洁装置130上与所述摩擦辊140的轴向两端相对应的两个侧面上，在其它实施方式中，所述至少两个高压气体入口 132也可以开设于所述清洁装置130上与所述摩擦辊140的轴向方向垂直的两个侧面上。另外，所述清洁装置130在所述基台120上的投影在垂直于所述摩擦辊140的轴向方向上的尺寸大于所述摩擦辊140的径向尺寸，所述摩擦辊140设置于所述清洁装置130的中部。通过将所述清洁装置130在所述基台120上的投影在垂直于所述摩擦辊140的轴向方向上的尺寸大于所述摩擦辊140的径向尺寸，从而增大所述清洁装置130与所述被摩擦件160之间的相对面积，增大所述被摩擦件160和所述摩擦辊140周围的空气振动范围，增大在所述摩擦件160上的气流冲击表面。
[0046]在【具体实施方式】中，所述清洁装置130在所述摩擦辊140上平行于所述基台120的径向方向上两侧边缘的厚度大于中间部分的厚度。
[0047]另外，所述摩擦设备100还包括对位汽缸170，所述对位汽缸170用于调整所述摩擦辊140的位置。在需要更换摩擦辊140时，所述对位汽缸170用于把所述摩擦辊140推向另一个汽缸。
[0048]具体地，所述摩擦设备100还包括检测装置180和控制器190，所述检测装置180用于检测所述摩擦辊140的位置信息，并将所述位置信息发送给所述控制器190，所述控制器190根据所述位置信息控制所述对位汽缸170调整所述摩擦辊140的位置。具体地，所述检测装置180可以为分别设置于所述摩擦辊140相对两侧的两个传感器。通过设置用于检测所述摩擦辊140的位置信息的检测装置180，和用于接收所述检测装置发送的所述位置信息，并根据所述位置信息控制所述对位汽缸170调整所述摩擦辊140的位置的控制装置，从而实现自动调整所述摩擦辊140的位置，避免因所述摩擦辊140的位置发生偏移而造成被摩擦件160摩擦不良。
[0049]在需要对所述被摩擦件160进行摩擦时，将所述被摩擦件160放置于所述基台120上并位于所述被摩擦位置时，启动所述驱动件150,以驱动所述摩擦棍140转动,从而摩擦所述被摩擦件160，同时，在启动所述驱动件150时，启动所述清洁装置130，使得所述清洁装置130对所述被摩擦件160和所述摩擦辊140进行清洁，从而在所述摩擦辊140摩擦所述被摩擦件160的过程中，所述清洁装置130能够对摩擦过程中产生的绒毛、尘、有机物碎屑等进行清洁，以减少附着在所述摩擦辊140表面的绒毛、尘、有机物碎屑，降低产品的不良率，解决了现有技术中在摩擦的过程中产生的绒毛、尘、有机物碎屑附着在摩擦布的表面，导致线状显示不良，缩短摩擦布的使用寿命的技术问题。
[0050]在需要对所述被摩擦件160清洁时，从所述高压气体入口 132向所述腔体131内通入高压气体，并在所述真空吸附口 133进行真空吸附，通过所述高压气体入口 132处和所述真空吸附口 133处的气压差，使得所述清洁装置130产生震动，从而使得所述被摩擦件160和所述摩擦辊140周围的空气产生震动，从而对所述被摩擦件160的表面进行气流冲击，从而避免摩擦过程中产生的绒毛、尘、有机物碎屑等停留在被摩擦件160的表面，或者摩擦辊140的表面。
[0051]通过将所述高压气体入口 132设置在所述清洁装置130的相对两侧面上，和将所述真空吸附口 133开设于所述清洁装置130上与所述被摩擦件160相背的表面的中部，从而减小所述高压气体入口 132和所述真空吸附口 133之间的距离，从而增大所述被摩擦件160和所述摩擦辊140周围的空气产生震动量，增大对所述被摩擦件160的表面进行气流冲击力。
[0052]通过将所述清洁装置130在所述基台120上的投影在垂直于所述摩擦辊140的轴向方向上的尺寸大于所述摩擦辊140的径向尺寸，从而增大所述清洁装置130与所述被摩擦件160之间的相对面积，增大所述被摩擦件160和所述摩擦辊140周围的空气振动范围，增大在所述摩擦件160上的气流冲击表面。
[0053]通过设置用于检测所述摩擦辊140的位置信息的检测装置180，和用于接收所述检测装置发送的所述位置信息，并根据所述位置信息控制所述对位汽缸170调整所述摩擦辊140的位置的控制装置，从而实现自动调整所述摩擦辊140的位置，避免因所述摩擦辊140的位置发生偏移而造成被摩擦件160摩擦不良。
[0054]实施例二
[0055]基于同样的发明构思，本申请还提供另一种摩擦设备，如图4所示，为本申请另一较佳实施方式摩擦设备200的主视图。所述摩擦设备200的结构中，除所述清洁装置230的结构与实施例一中摩擦设备200的结构不同外，其他结构均与所述摩擦设备100相同，因此，对于相同部分，在此不再赘述。
[0056]如图5和图6所示，具体地，所述清洁装置230包括第一清洁部231、第二清洁部232和连接所述第一清洁部231和所述第二清洁部232的连接部233.所述第一清洁部231上开设有第一腔体2311和至少一与所述第一腔体2311连通的第一高压气体入口 2312。所述第二清洁部232上开设有第二腔体2321和至少一与所述第二腔体2321连通的第二高压气体入口 2322。所述连接部233上开设有第三腔体2331和至少一与所述第三腔体2331连通的真空吸附口 2332，所述第一腔体2311和第二腔体2321与所述第三腔体2331连通。
[0057]在需要对所述被摩擦件160进行清洁时，从所述第一高压气体入口 2312向所述第一腔体2311内通入高压气体，从所述第二高压气体入口 2322向所述第二腔体2321内通入高压气体，并在所述真空吸附口 2332进行真空吸附，使得所述第一清洁部231和所述第二清洁部232发生振动，从而使得所述被摩擦件160周围的空气产生震动，从而对所述被摩擦件160的表面进行气流冲击，从而避免摩擦过程中产生的绒毛、尘、有机物碎屑等停留在被摩擦件160的表面，或者摩擦辊140的表面。
[0058]进一步地，所述第一清洁部231和所述第二清洁部232在所述基台120上的投影位于所述摩擦辊140在所述基台120上的投影的相对两侧。通过将所述所述第一清洁部231和所述第二清洁部232在所述基台120上的投影位于所述摩擦辊140在所述基台120上的投影的相对两侧，从而减小因所述第一清洁部231和所述第二清洁部232振动而使空气振动对所述摩擦辊140所产生的影响。
[0059]在【具体实施方式】中，所述第一清洁部231和所述第二清洁部232中每个清洁部在所述摩擦辊140上平行于所述基台120的径向方向上两侧边缘的厚度大于中间部分的厚度。另外，所述真空吸附口 2332开设于所述连接部233上位于在所述摩擦辊140上平行于所述基台120的径向方向上的一侧面上。
[0060]在需要对所述被摩擦件160进行清洁时，从所述第一高压气体入口 2312向所述第一腔体2311内通入高压气体，从所述第二高压气体入口 2322向所述第二腔体2321内通入高压气体，并在所述真空吸附口 2332进行真空吸附，使得所述第一清洁部231和所述第二清洁部232发生振动，从而使得所述被摩擦件160周围的空气产生震动，从而对所述被摩擦件160的表面进行气流冲击，从而避免摩擦过程中产生的绒毛、尘、有机物碎屑等停留在被摩擦件160的表面，或者摩擦辊140的表面。
[0061]通过将所述所述第一清洁部231和所述第二清洁部232在所述基台120上的投影位于所述摩擦辊140在所述基台120上的投影的相对两侧，从而减小因所述第一清洁部231和所述第二清洁部232振动而使空气振动对所述摩擦辊140所产生的影响。
[0062]尽管已描述了本实用新型的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本实用新型范围的所有变更和修改。
[0063]显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
【权利要求】
1.一种摩擦设备，其特征在于，所述摩擦设备包括: 基台，用于承载至少一个被摩擦件； 清洁装置，与所述基台相对设置，用于清洁所述被摩擦件； 摩擦辊，位于所述基台和所述清洁装置之间，用于摩擦所述被摩擦件； 驱动件，用于驱动所述摩擦辊相对于所述基台转动，以摩擦所述被摩擦件。
2.如权利要求1所述的摩擦设备，其特征在于，所述清洁装置包括腔体、高压气体入口和真空吸附口，所述高压气体入口和所述真空吸附口均与所述腔体连通。
3.如权利要求2所述的摩擦设备，其特征在于，所述高压气体入口的数目至少为两个，分别开设于所述清洁装置的相对两侧面上，所述真空吸附口开设于所述清洁装置上与所述被摩擦件相背的表面的中部。
4.如权利要求3所述的摩擦设备，其特征在于，所述至少两个高压气体入口开设于所述清洁装置上与所述摩擦辊的轴向两端相对应的两个侧面上。
5.如权利要求1-4中任一权要求所述的摩擦设备，其特征在于，所述清洁装置在所述摩擦辊上平行于所述基台的径向方向上两侧边缘的厚度大于中间部分的厚度。
6.如权利要求1所述的摩擦设备，其特征在于，所述清洁装置包括第一清洁部、第二清洁部和连接所述第一清洁部和所述第二清洁部的连接部，所述第一清洁部上开设有第一腔体和至少一与所述第一腔体连通的第一高压气体入口，所述第二清洁部上开设有第二腔体和至少一与所述第二腔体连通的第二高压气体入口，所述连接部上开设有第三腔体和至少一与所述第三腔体连通的真空吸附口，所述第一腔体和第二腔体与所述第三腔体连通。
7.如权利要求6所述的摩擦设备，其特征在于，所述第一清洁部和所述第二清洁部在所述基台上的投影位于所述摩擦辊在所述基台上的投影的相对两侧。
8.如权利要求6或7所述的摩擦设备，其特征在于，所述第一清洁部和所述第二清洁部中每个清洁部在所述摩擦辊上平行于所述基台的径向方向上两侧边缘的厚度大于中间部分的厚度。
9.如权利要求1所述的摩擦设备，其特征在于，所述摩擦设备还包括对位汽缸，所述对位汽缸用于调整所述摩擦辊的位置。
10.如权利要求9所述的摩擦设备，其特征在于，所述摩擦设备还包括检测装置和控制器，所述检测装置用于检测所述摩擦辊的位置信息，并将所述位置信息发送给所述控制器，所述控制器根据所述位置信息控制所述对位汽缸调整所述摩擦辊的位置。
【文档编号】G02F1/1337GK203799157SQ201420204354
【公开日】2014年8月27日 申请日期:2014年4月24日 优先权日:2014年4月24日
【发明者】刘晓那, 宋勇志 申请人:北京京东方显示技术有限公司, 京东方科技集团股份有限公司