专利名称：摩擦取向设备的制作方法
技术领域：
摩擦取向设备技术领域[0001]本实用新型涉及液晶显示器面板制造中的摩擦取向技术，尤其涉及一种摩擦取 向设备。
背景技术：
[0002]在液晶面板的制造过程中，摩擦取向工艺是重要的一环，其通过摩擦取向设备 使液晶分子倾向于沿着配向材料的摩擦方向排列。[0003]摩擦取向设备如图1所示，包括第一气缸6、第二气缸7、支架5及摩擦辊轮1。 第一气缸6、第二气缸7分别位于支架5的两端，对支架5起到支撑及升降控制作用。摩 擦辊轮1安装在支架5上。[0004]如图2所示，摩擦辊轮1的表面贴有摩擦布2，用来对配向材料进行摩擦。[0005]摩擦取向时，如图2、图3所示，基板3平放在机台4上面，摩擦辊轮1以一定 的速度旋转，基板3随着机台4从摩擦辊轮1的下方经过。旋转的摩擦辊轮1带动摩擦布 2旋转，使得摩擦布2的表面纤维对摩擦辊轮1下方的基板3表面的配向材料进行摩擦， 直至配向材料具有对液晶的配向作用，即液晶分子会倾向于沿着摩擦方向排列。[0006]现有技术中，现有技术存在的缺陷在于随着高世代液晶面板生产线的发展， 基板面积不断增大，对于摩擦处理的均一性的要求也越来越高，即基板表面上各个点的 摩擦强度要尽量一致，否则就可能出现缺陷。其中，摩擦强度是通过调整摩擦辊轮与机 台之间的间隙来控制的，而现有摩擦取向设备在摩擦取向过程中无法获知摩擦辊轮与机 台之间的间隙变化，摩擦取向设备长时间运行过程中如发生异常不能及时发现，也就无 法对二者之间的间隙进行控制，从而无法满足摩擦处理的均一性要求。实用新型内容[0007]本实用新型提供一种摩擦取向设备，用以克服现有技术中无法满足摩擦处理的 均一性要求的缺陷。[0008]本实用新型提供一种摩擦取向设备，包括第一气缸、第二气缸、支架及安装在 所述支架上的摩擦轮辊，其中，还包括用于检测所述摩擦轮辊与机台之间间隙的变化 量的位移传感器及用于根据所述位移传感器检测到的数据控制所述第一气缸、第二气缸 升降的调节模块，所述位移传感器至少为2个，安装在所述支架的横梁上，所述调节模 块与所述位移传感器及所述第一气缸、第二气缸相连。[0009]如上所述的摩擦取向设备，所述位移传感器可为4个，以更全面的监控摩擦辊 轮与机台之间的间隙。[0010]所述位移传感器可等间距地安装在所述支架的横梁上。[0011]作为对本实用新型的进一步改进，如上所述的摩擦取向设备还可包括对4个所 述位移传感器检测到的数据进行处理并反馈给所述调节模块的处理模块，所述处理模块 与所述位移传感器及所述调节模块连接。[0012]作为本实用新型的进一步改进，所述位移传感器可通过转向装置安装在所述支 架的横梁上，以监控摩擦辊轮旋转时的偏芯量。[0013]所述转向装置可包括[0014]转轴，固定在所述支架的横梁边缘；[0015]活动臂，一端与所述转轴连接，另一端固定有所述位移传感器。所述活动臂可 绕所述转轴转动至所述位移传感器监控摩擦轮辊偏芯量的位置。[0016]如上所述的摩擦取向设备中，所述支架的横梁上还可设置有监控摩擦轮辊偏芯 量的偏芯量监控传感器。[0017]本实用新型提供的摩擦取向设备通过在支架上安装多个位移传感器，即激光测 距装置，能够实时获得摩擦辊轮与机台间的间隙在整个摩擦取向过程中的变化，并通第 一过气缸和第二气缸进行高度调节，保证摩擦辊轮和机台始终保持平行状态，使整个基 板上各点的摩擦强度相同，提高了摩擦处理的均一性，从而改善产品品质。
[0018]图1为现有技术中摩擦取向设备的结构示意图；[0019]图2为图1所示摩擦取向设备摩擦取向的原理图；[0020]图3为图1所示摩擦取向设备的俯视图；[0021]图4为本实用新型实施例提供的一种摩擦取向设备的结构示意图；[0022]图5为图4所示摩擦取向设备的侧视图；[0023]图6为本实用新型实施例提供的另一种摩擦取向设备的结构示意图；[0024]图7为本实用新型实施例提供的又一种摩擦取向设备的结构示意图；[0025]图8为图7所示摩擦取向设备的侧视图。
具体实施方式
[0026]为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用 新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显 然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新 型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实 施例，都属于本实用新型保护的范围。[0027]以图4-图8为例对本实用新型进行说明。[0028]如图4所示，摩擦取向设备包括调节模块(图中未示出)、支架5、摩擦轮辊1、 第一位移传感器8及第二位移传感器9。[0029]摩擦轮辊1的两端分别固定在支架5的两侧，第一位移传感器8、第二位移传感 器9分别安装在支架5的横梁上靠近摩擦辊轮1两端的位置。第一位移传感器8及第二 位移传感器9测量的精度为微米量级。[0030]这样，可利用第一位移传感器8及第二位移传感器9测量的距离来监控摩擦辊轮 1与机台4之间的间隙。[0031]调节模块与第一位移传感器8、第二位移传感器9、第一气缸6及第二气缸7相 连，用于根据第一位移传感器8及第二位移传感器9检测到的数据控制第一气缸6、第二气缸7的升降。调节模块可设置在摩擦取向设备的控制系统中，这样，摩擦取向设备的 控制系统可根据位移传感器检测到的数据，以及根据预先设定的基准值和偏差量，来调 节第一气缸6和第二气缸7的上升和下降，保证摩擦辊轮1与机台4之间间隙的距离恒定。[0032]具体地，首先调整第一位移传感器8及第二位移传感器9，使其测量基准与摩擦 辊轮1的中心轴处于平行位置，由于摩擦辊轮1与支架5固定在于以前，并通过第一气缸 6和第二气缸7同时进行上升和下降动作，因而第一位移传感器8及第二位移传感器9测 量得到的距离变化量就等于摩擦辊轮1与机台4之间间隙的变化量。根据第一位移传感 器8及第二位移传感器9实时测量的距离变化即摩擦辊轮1与机台4间的间隙变化，当距 离变化达到设定的范围时，通过第一气缸6和第二气缸7调整摩擦辊轮1两端的高度，保 证摩擦辊轮1与机台4间的间隙不发生改变，如第一气缸6 —侧的第一位移传感器8测量 的距离变小时，通过第一气缸6抬升摩擦辊轮1，使间隙回到基准值；反之，如距离变大 时，则第一气缸6下降，也使间隙回到基准值。从而使整个摩擦过程中摩擦辊轮1与机 台4间的间隙保持稳定，提高了摩擦处理的均一性。[0033]需要说明的是，如图5所示，由于传第一位移传感器8、第二位移传感器9测量 的机台位置不是摩擦辊轮1接触的位置，因此第一气缸6、第二气缸7对摩擦辊轮1两端 高度的调节与测量数据之间需要一定的延时，延时的时间与第一位移传感器8、第二位移 传感器9的测量点和摩擦辊轮1中心轴间的距离dl，以及与机台4的移动速度ν有关，具 体的延时时间长度为dl/v。[0034]摩擦取向设备中位移传感器的数量不仅限于2个，可包括至少2个位移传感器， 即支架5上可安装至少2个位移传感器。[0035]如图6所示，支架5的横梁上依次等间距安装有第一位移传感器8、第三位移传 感器10、第四位移传感器11及第二位移传感器9。[0036]由于摩擦辊轮1的高度只能通过其两端的第一气缸6、第二气缸7来进行调节， 因此，第一位移传感器8、第三位移传感器10、第四位移传感器11及第二位移传感器9 测量得到的数据，需要经过处理才能反馈给控制系统进行调节，例如，把第一位移传感 器8和第三位移传感器10测得的数据平均后反馈给控制系统，以对第一气缸6进行调 节，把第二位移传感器9和第四位移传感器11测得的数据平均后反馈给控制系统，以对 第二气缸7进行调节。或者把第一位移传感器8、第三位移传感器10、第四位移传感器 11及第二位移传感器9测得的数据进行整体计算后，选择最佳的摩擦辊轮1的高度的调 节方向，即向上调节还是向下调节，然后反馈给控制系统，以对第一气缸6和第二气缸7 进行调节。此时，摩擦取向设备还可包括对第一位移传感器8、第三位移传感器10、第 四位移传感器11及第二位移传感器9检测到的数据进行处理并反馈给调节模块的处理模 块(图中未示出)，处理模块与第一位移传感器8、第三位移传感器10、第四位移传感器 11、第二位移传感器9及调节模块连接，也可设置在摩擦取向设备的控制系统中。[0037]需要说明的是，位移传感器的数量也不限于4个，可根据摩擦辊轮1的不同长度 而定，即根据摩擦辊轮1的长度变化可增加或减少，安装的位移传感器越多，可以更全 面的监控摩擦辊轮1和机台4之间各个位置的间隙。[0038]位移传感器可通过转向装置安装在支架上。如图7所示，在上述实施例的基础上，第一位移传感器8、第三位移传感器10、第四位移传感器11及第二位移传感器9通 过转向装置12安装在支架5的横梁上。这样，除了在摩擦取向过程中监控摩擦辊轮1和 机台4的间隙外，在需要的时候，例如摩擦辊轮1刚安装到支架5上，且进行生产前，可 如图8所示，把第一位移传感器8、第三位移传感器10、第四位移传感器11及第二位移 传感器9转到对准摩擦辊轮1的方向，以监控摩擦辊轮1旋转过程中的偏芯量。[0039]其中，转向装置12包括转轴13及活动臂14。转轴13固定在支架5的横梁边 缘，活动臂14的一端与转轴13连接，另一端固定有第一位移传感器8、第三位移传感器 10、第四位移传感器11及第二位移传感器9。活动臂14绕转轴13转动，能够带动位移 传感器旋转，对准机台，实现对摩擦辊轮1的偏芯量的监控。[0040]需要说明的是也可以通过部分位移传感器对准机台，部分位移传感器通过转向 装置安装在支架上，通过转向装置对准摩擦辊轮监控偏芯量。摩擦取向设备也可设置专 门的偏芯量监控传感器来监控摩擦轮辊偏芯量。偏芯量监控传感器可为移动传感器，直 接固定在支架的横梁上对准摩擦辊轮监控偏芯量，无需转向装置。[0041]上述实施例提供的摩擦取向设备中摩擦辊轮1的表面均贴有摩擦布2，为便于描 述，实施例中的图中未示出。[0042]上述实施例提供的摩擦取向设备通过位移传感器产生了如下有益效果[0043]1.可以实时监控摩擦辊轮1和机台4之间在整个摩擦过程中的平行度即摩擦辊轮 1和机台4之间的间隙，并通过测量数据的反馈调整辊轮两端高度，从而保证摩擦辊轮1 和机台4之间的间隙保证稳定，提高摩擦的均一性，改善产品品质；[0044]2.根据设定的规格，在测量数据发生较大变化时，很可能是设备发生了异常， 以此可以通过监控及时发现，防止产生大量不良品；[0045]3.位移传感器测量的距离实际也是摩擦辊轮和基板之间的距离，因此基板厚度 的变化也处于实时监控之中，更加保证摩擦的均一性，同时也可以省略测量基板厚度的 位移传感器，降低了设备成本；[0046]4.位移传感器不仅可用于监控摩擦辊轮与机台之间的距离，在需要时，可通过 转向装置对准摩擦辊轮中心，用于监控摩擦辊轮旋转时的偏芯量，从而不再需要另外安 装监控摩擦辊轮偏芯量的传感器，进一步降低了设备成本。[0047]最后应说明的是以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限 制；尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当 理解其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特 征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各 实施例技术方案的精神和范围。
权利要求1.一种摩擦取向设备，包括第一气缸、第二气缸、支架及安装在所述支架上的摩擦 轮辊，其特征在于，还包括用于检测所述摩擦轮辊与机台之间间隙的变化量的位移传 感器及用于根据所述位移传感器检测到的数据控制所述第一气缸、第二气缸升降的调节 模块，所述位移传感器至少为2个，安装在所述支架的横梁上，所述调节模块与所述位 移传感器及所述第一气缸、第二气缸相连。
2.根据权利要求1所述的摩擦取向设备，其特征在于，所述位移传感器为4个。
3.根据权利要求2所述的摩擦取向设备，其特征在于，所述位移传感器等间距地安装 在所述支架的横梁上。
4.根据权利要求2所述的摩擦取向设备，其特征在于，还包括对4个所述位移传感器 检测到的数据进行处理并反馈给所述调节模块的处理模块，所述处理模块与所述位移传 感器及所述调节模块连接。
5.根据权利要求1-3任一项所述的摩擦取向设备，其特征在于，所述位移传感器通过 转向装置安装在所述支架的横梁上。
6.根据权利要求5所述的摩擦取向设备，其特征在于，所述转向装置包括转轴，固定在所述支架的横梁边缘；活动臂，一端与所述转轴连接，另一端固定有所述位移传感器。
7.根据权利要求6所述的摩擦取向设备，其特征在于，所述活动臂可绕所述转轴转动 至所述位移传感器监控摩擦轮辊偏芯量的位置。
8.根据权利要求1-3任一项所述的摩擦取向设备，其特征在于，所述支架的横梁上还 设置有监控摩擦轮辊偏芯量的偏芯量监控传感器。
专利摘要本实用新型公开了一种摩擦取向设备，包括第一气缸、第二气缸、支架及安装在所述支架上的摩擦轮辊，其中，还包括用于检测所述摩擦轮辊与机台之间间隙的变化量的位移传感器及用于根据所述位移传感器检测到的数据控制所述第一气缸、第二气缸升降的调节模块，所述位移传感器至少为2个，安装在所述支架的横梁上，所述调节模块与所述位移传感器及所述第一气缸、第二气缸相连。通过多个位移传感器，能够实时获得摩擦辊轮与机台间的间隙在整个摩擦取向过程中的变化，并通第一过气缸和第二气缸进行高度调节，保证摩擦辊轮和机台始终保持平行状态，使整个基板上各点的摩擦强度相同，提高了摩擦处理的均一性，从而改善产品品质。
文档编号G01B21/02GK201804186SQ20102052479
公开日2011年4月20日 申请日期2010年9月9日 优先权日2010年9月9日
发明者钱志刚 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 合肥鑫晟光电科技有限公司