用于压印纳米结构的方法和装置与流程

文档序号:12287400阅读:来源:国知局

技术特征:

1.用于将纳米结构(13)从纳米结构压模(5)压印到施加到基体(7)上的、能够硬化的材料(8)的压模面(14)中的方法,具有下列步骤、尤其下列过程:

- 相对于所述压模面(14)对齐所述纳米结构(13),

- 通过如下方式压印所述压模面(14)

A) 通过所述纳米结构压模(5)的变形来预紧所述纳米结构压模(5)和/或通过所述基体(7)的变形来预紧所述基体(7),

B) 所述压模面(14)的部分面(15)与所述纳米结构压模(5)接触,以及

C) 至少部分地、尤其主要地,通过预紧所述纳米结构压模(5)和/或预紧所述基体(7)自动接触所述其余面(16)。

2. 根据权利要求1所述的方法,其中,所述纳米结构压模(5)至少主要由下列的、硬的、尤其UV透明的材料中的至少一个形成:

- 石英和/或

- 二氧化硅和/或

- 聚合物、尤其聚二甲基硅氧烷、聚四氟乙烯、全氟化的聚醚、聚乙烯醇,聚氯乙烯和/或乙烯四氟乙烯。

3.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述纳米结构压模(5)的光学的透明度大于0%、优选地大于20%、更优选地大于50%、最优选地大于80%、所有最优选地大于95%。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述纳米结构压模(5)借助于压模吸纳设备(1)保持、运动和必要时变形。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述基体(7)借助于基体吸纳设备(2)保持、运动和必要时变形。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述压模吸纳设备(1)具有用于使得所述纳米结构压模(5)变形的促动器(3)。

7.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述材料(8)在完全的接触之后、尤其借助于光、优选地穿过所述纳米结构压模(5)来硬化。

8.用于将纳米结构(13)从纳米结构压模(5)压印到施加到基体(7)上的、能够硬化的材料(8)的压模面(14)中的装置,具有:

- 用于相对于所述压模面(14)对齐所述纳米结构(13)的对齐器件,

- 用于通过如下方式压印所述压模面(14)的压印设备(17)

A) 用于通过使得所述纳米结构压模(5)变形来预紧所述纳米结构压模(5)的第一预紧器件(3、4)和/或用于通过使得所述基体(7)变形来预紧所述基体(7)的第二预紧器件,

B) 用于所述压模面(14)的部分面(15)与所述纳米结构压模(5)接触的接触器件,以及

C) 用于至少部分地、尤其主要地、通过预紧所述纳米结构压模(5)和/或预紧所述基体(7)来自动接触所述其余面(16)的器件。

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