一种彩色滤光片及其制造方法、一种显示面板与流程

本发明涉及液晶显示器技术领域，特别涉及一种彩色滤光片及其制造方法，还涉及包含该彩色滤光片的显示面板。

背景技术：

目前，薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)由彩色滤光片和阵列基板对盒而成，彩色滤光片主要用于为TFT-LCD提供色彩。随着液晶显示技术的不断发展，TFT-LCD每英寸所拥有的像素数目(Pixels Per Inch，PPI)越来越多，像素的尺寸也越来越小。为了使TFT-LCD在受到垂直的压力时，达到均匀的面压，需要保证每个子像素均对应一个隔垫物(Photo Spacer，PS)。

请参考图1，图1为现有技术中彩色滤光片100的结构示意图。彩色滤光片100，包括：玻璃基板1、形成于玻璃基板1上的黑矩阵2、像素树脂层3，形成于黑矩阵2和像素树脂层3上的保护层4，以及柱状隔垫物51。其中，像素树脂层3包括红色像素树脂层31、绿色像素树脂层32和蓝色像素树脂层33。隔垫物51由整层的PS材料刻蚀而成；刻蚀液在刻蚀PS材料的时候首先是由上至下，然后往两边刻蚀。而高PPI的TFT-LCD子像素尺寸很小，导致隔垫物51之间的间距很小，所以刻蚀液无法与两个相邻隔垫物51连接区的PS材料充分接触，导致连接区的PS材料刻蚀速率相比其他区域较慢，出现隔垫物51下底粘结的现象。在后续的TFT-LCD成盒过程中，容易导致液晶的扩散性变差；而且在摩擦配向工艺中易出现漏光。

技术实现要素：

本发明提供一种彩色滤光片、显示面板及彩色滤光片的制造方法，用以解决现有技术中隔垫物下底粘结的现象；从而解决液晶的扩散性变差；以及在摩擦配向工艺中易出现漏光的问题。

本发明实施例采用以下技术方案：

第一方面，本技术方案提供一种彩色滤光片，包括：

基板；

形成于所述所述基板上的黑矩阵；

形成于所述黑矩阵上的像素树脂层；

形成于所述黑矩阵和所述像素树脂层上的保护层；

形成于所述保护层上的若干个隔垫物；

所述保护层具有至少一个开槽，所述开槽设置于任意两个相邻的隔垫物之间。

第二方面，本技术方案还提供了一种显示面板，包括：相对设置的阵列基板和上述实施例所述的彩色滤光片。

第三方面，本技术方案还提供了一种彩色滤光片的制造方法，包括：

提供一基板；

于所述基板上形成黑矩阵层，并图形化得到黑矩阵；

于所述黑矩阵上形成像素树脂层，并图形化；

于所述黑矩阵和所述像素树脂层上形成保护层，在所述保护层上形成若干个开槽；

于所述保护层上制备若干个隔垫物；

所述开槽设置于任意两个相邻的隔垫物之间。

本发明的有益效果如下：

通过在保护层上设置开槽，开槽设置于任意两个相邻的隔垫物之间。在形成有开槽的保护层上涂覆一层PS材料，由于PS材料具有流动性，PS材料会在开槽处形成下陷的凹槽。当对PS材料进行刻蚀时，凹槽处与刻蚀液的接触面积相比其他区域更大，加大了凹槽处PS材料的刻蚀速率；并且，由于凹槽处所需要刻蚀的PS材料相比其他区域较少，所以在相同的时间内，较易将两个隔垫物刻蚀开，避免隔垫物下底粘结的现象。

附图说明

图1为现有技术中彩色滤光片的结构示意图。

图2为本发明实施例提供的一种彩色滤光片的俯视图。

图3为图2中沿A-A`线的截面图。

图4为彩色滤光片的制作过程示意图。

图5为本发明提供的一种显示面板的结构示意图。

图6为本发明第一实施例的彩色滤光片的制造方法的流程图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部内容，且均采用非常简化的形式及非精准的比率，仅用以方便、清晰地辅助说明本发明实施例的目的。为叙述方便，下文中所称的“左”“右”“上”“下”与附图本身的左、右、上、下方向一致，但并不对本发明的结构起限定作用。

实施例一

请参考图2和图3，图2为本发明实施例提供的一种彩色滤光片101的俯视图，图3为图2中沿A-A`线的截面图。彩色滤光片101包括，基板1；形成于基板1上的黑矩阵2；形成于黑矩阵2上的像素树脂层3；形成于黑矩阵2和像素树脂层3上的保护层4；以及形成于保护层4上的隔垫物51。保护层4具有开槽B，开槽B设置于任意两个相邻的隔垫物51之间。

其中，基板1主要采用玻璃，但也可以是可弯曲的透明塑料，例如：聚酰亚胺。如果采用可弯曲的透明塑料用作所述基板1的材料，考虑到在所述基板1上执行高温沉积的工序，则可以使用具有优秀耐热性的聚酰亚胺(聚酰亚胺可以耐高温)。

在基板1上形成黑矩阵层，再采用曝光、显影形成黑矩阵2。

在黑矩阵2上形成像素树脂层3。在本实施例中，像素树脂层3包括：红色树脂层31、绿色树脂层32和蓝色树脂层33；在其他实施例中还可以包括白色树脂层或者其他颜色的树脂层，本发明对此不做限制。

在黑矩阵2和像素树脂层3上形成保护层4，保护层4上设置有开槽B，在本实施例中，保护层4为正性光阻剂制成，但不以此为限。为了使成盒后的TFT-LCD在受到垂直的压力时，达到均匀的面压，可选的，每个子像素均对应一个隔垫物51，隔垫物51在垂直于彩色滤光片101方向上的投影落于黑矩阵2中。

需要说明的是，开槽B的深度h小于等于保护层4的厚度，在本实施例中，开槽B的深度h与保护层4的厚度相同。在其他实施例中，可以根据实际情况，通过调整曝光时间或者曝光量来改变开槽B的深度h。

可选的，开槽B的形状是矩形或者圆形，可以根据实际情况调整掩模板的图形以制造不同形状的开槽B，在本实施例中，开槽B的形状为圆形。需要说明的是，开槽B的宽度w小于等于任意两个相邻的隔垫物之间的距离。因为，当开槽B的宽度w大于两个相邻的隔垫物之间的距离时，不利于隔垫物51的形成；且隔垫物51与保护层4的接触面积较小，使得附着力减小，当TFT-LCD受到水平压力时，易导致隔垫物51偏离原位，从而造成漏光，影响显示品质。开槽B的宽度w范围为：大于等于3微米且小于等于6微米。具体地，开槽B的宽度w可以为3微米、4微米、5微米、6微米。

最后，在保护层4上形成隔垫物51。请参考图4，图4为彩色滤光片101的制作过程示意图。具体结构与图2至图3中所述相同，在此不再赘述。

具体地，首先，在基板上形成黑矩阵2和像素树脂层3；其次，在黑矩阵2和像素树脂层3上形成保护层4；其次，保护层4上设置有开槽B；再次，在形成有开槽B的保护层4涂覆一层PS材料5。由于PS材料5具有流动性，当PS材料5涂覆在保护层4上时，开槽B中也填充有PS材料5，且PS材料5会在开槽B处形成下陷的凹槽。当使用刻蚀液对PS材料5进行刻蚀时，凹槽处与刻蚀液的接触面积相比其他区域更大，加大了凹槽处PS材料5的刻蚀速率；并且由于凹槽处所需要刻蚀的PS材料5相比其他区域较少，所以在相同的时间内，较易将相邻的两个隔垫物51刻蚀开，避免了隔垫物51下底粘结的现象。从而解决液晶的扩散性变差；以及在摩擦配向工艺中易出现漏光的问题。

实施例二

请参考图5，图5为本发明提供的一种显示面板200的结构示意图。显示面板200包括阵列基板201和与阵列基板201相对设置的彩色滤光片202，以及位于阵列基板201和彩色滤光片202间的液晶层203。其中，彩色滤光片202为上述实施例所述的彩色滤光片。

本实施例提供的显示面板，由于采用了上述各实施例的彩色滤光片，因此显示面板同样具有上述有益效果。

实施例三

请参考图6，图6为本发明第一实施例的彩色滤光片101的制造方法的流程图。本发明第一实施例的彩色滤光片的制造方法，包括以下步骤：

首先，提供一基板10；

其次，于基板10上形成黑矩阵层，并图形化得到黑矩阵2；

其次，于黑矩阵2上形成像素树脂层3，并图形化；

再次，于黑矩阵2和像素树脂层3上形成保护层4，在保护层4上形成若干个开槽B；

最后，于保护层4上制备若干个隔垫物51。

需要说明的是，开槽B设置于任意两个相邻的隔垫物之间。

需要说明的是，开槽B的深度小于等于所述保护层4的厚度，在本实施例中，开槽B的深度h与保护层4的厚度相同。在其他实施例中，可以根据实际情况，通过调整曝光时间或者曝光量来改变开槽B的深度h。

可选的，开槽B的形状是矩形或者圆形，可以根据实际情况调整掩模板的图形以制造不同形状的开槽B，在本实施例中，开槽B的形状为圆形。需要说明的是，开槽B的宽度w小于等于任意两个相邻的隔垫物之间的距离。因为，当开槽B的宽度w大于两个相邻的隔垫物之间的距离时，不利于隔垫物51的形成；且隔垫物51与保护层4的接触面积较小，附着力小，当TFT-LCD受到水平压力时，易导致隔垫物51偏离原位，从而造成漏光，影响显示品质。开槽B的宽度w范围为：大于等于3微米且小于等于6微米。具体地，开槽B的宽度w可以为3微米、4微米、5微米、6微米。

显然，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。