一种新型防变形蓝玻璃滤光片的制作方法

本发明属于光学技术领域，具体地说，尤其涉及一种新型防变形蓝玻璃滤光片。

背景技术：

手机摄像头所用的彩色CMOS芯片能对人眼所不能看到的近红外光产生较为敏感的反应，导致DSP无法正确的算出颜色，会产生严重的偏色现象，因此需要IR cut filter来阻绝红外光。IR cut filter主要有反射式和吸收式两种，反射式采用白玻璃表面镀IR膜来拦截红外光，而吸收式所利用的是蓝玻璃材料中有光吸收物质控制入射光波长的特性。反射式IR拦截红外光，容易出现被反射光的二次成像，形成光晕和鬼影现象；相反蓝玻璃对反射式IR存在的色偏以及杂光鬼灯问题改善明显，拍摄的照片色彩更加柔和、自然，因而成为当下市场的主流。

传统蓝玻璃绿光片前表面镀紫外红外截止膜堆UVIR CUT，后表面为宽带增透膜BBAR，UVIR CUT通常需镀到43层左右，而宽带增透膜BBAR只需镀到7层左右，两面膜厚差异可达到5067nm左右。成膜过程中会随着厚度的增加而导致应力的增加，也就是说膜厚的一面会向膜薄的一面弯曲。5067nm的膜差最终会导致基板变形弯曲量可达2.2mm左右，变形的基板在切割工序中会因基板翘曲拱起而导致产品破裂而报废，产品不良率很高，严重增加企业生产成本。

技术实现要素：

本发明提供了一种新型防变形蓝玻璃滤光片，用于解决传统滤光片膜层结构设计的局限性，两面膜差大、基板形变量大、切割易破裂，产品不良率高的问题。

本发明是通过以下技术方案实现的：

一种新型防变形蓝玻璃滤光片，包括蓝玻璃基板，所述蓝玻璃基板的前表面有紫外截止膜堆UVCUT；所述蓝玻璃基板的后表面有红外截止膜堆IRCUT。

优选地，所述紫外截止膜堆UV CUT由中折射率材料薄膜打底，再由高折射率材料薄膜和低折射率材料薄膜交替堆叠而成。

优选地，所述红外截止膜堆IRCUT由中折射率材料薄膜打底，再由高折射率材料薄膜和低折射率材料薄膜交替堆叠而成。

优选地，所述紫外截止膜堆UVCUT的层数为21-29层。

优选地，所述红外截止膜堆IRCUT的层数为25-29层。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

本发明完全摒弃了传统镀膜膜层设计，自主研发全新膜层结构，将基片的一面设计成紫外截止膜堆UVCUT，另外一面则加工成红外截止膜堆IRCUT，双面合成来达到同样的成像效果，膜层光谱曲线与传统工艺生成的曲线一致，且两面膜层厚度相当，有效避免了因应力差而导致的基板形变问题，无产品不良率发生，为企业创造了可观的经济效益；且本发明膜层结构设计简单，镀膜加工工艺难度很低，操作容易，加工速度快，大幅度提高产量，进一步为企业创造了可观经济效益，本发明改变了“蓝玻璃滤光片加工工艺复杂、不良率高”的时代，在滤光片技术领域具有里程碑意义。

附图说明

图1是本发明膜层结构示意图；

图2是本发明与传统蓝玻璃滤光片主要指标对比表；

图3是本发明与传统蓝玻璃滤光片前表面光谱曲线对比表；

图4是本发明与传统蓝玻璃滤光片后表面光谱曲线对比表；

图5是本发明最终曲线对比图。

图中：1.蓝玻璃基板；2.紫外截止膜堆UVCUT；3.红外截止膜堆IRCUT。

具体实施方式

下面结合附图对本发明进一步说明：

一种新型防变形蓝玻璃滤光片，包括蓝玻璃基板1，所述蓝玻璃基板1的前表面有紫外截止膜堆UVCUT2；所述蓝玻璃基板1的后表面有红外截止膜堆IRCUT3。

优选地，所述紫外截止膜堆UVCUT2由中折射率材料薄膜打底，再由高折射率材料薄膜和低折射率材料薄膜交替堆叠而成。

优选地，所述红外截止膜堆IRCUT3由中折射率材料薄膜打底，再由高折射率材料薄膜和低折射率材料薄膜交替堆叠而成。

优选地，所述紫外截止膜堆UVCUT2的层数为21-29层。

优选地，所述红外截止膜堆IRCUT3的层数为25-29层。

本发明包括蓝玻璃基板1，所述蓝玻璃基板1的前表面镀成紫外截止膜堆UVCUT2，所述蓝玻璃基板1的后表面镀成红外截止膜堆IRCUT3。所述紫外截止膜堆UVCUT2由中折射率材料薄膜打底，再由高折射率材料薄膜和低折射率材料薄膜交替堆叠而成，膜层数为21、22、23、24、25、26、27、28或者29层。所述红外截止膜堆IRCUT3由中折射率材料薄膜打底，再由高折射率材料薄膜和低折射率材料薄膜交替堆叠而成，膜层数为25、26、27、28或者29层。

以紫外截止膜堆UV CUT2膜堆层数21、红外截止膜堆IR CUT3层数25为例，本发明的工艺流程主要包括：

a.落片上伞；

b.抽真空镀膜，首先在基板的前表面镀紫外截止膜堆UVCUT2，膜堆层数为21；

c.破真空下伞取片；

d.经超声波清洗、甩干；

e.甩干后由烘干箱进行烘干处理；

f.再次落片上伞，准备镀基板后表面；

g.抽真空镀膜，在基板后表面镀红外截止膜堆IR CUT3,膜堆层数为25层；

h.破真空下伞取片，检查、切割。

由于上述落片上伞、清洗、甩干、烘干、检查、切割等流程为本领域技术人员所熟悉地操作步骤，故不详细赘述。

说明书附图图2为本发明与传统蓝玻璃滤光片主要指标对比表；图3为本发明与传统蓝玻璃滤光片前表面光谱曲线对比图表，其中横向坐标代表波长，纵向坐标T代表透过率；图4为本发明与传统蓝玻璃滤光片后表面光谱曲线对比表，其中横向坐标代表波长，纵向坐标R代表反射率、T代表透过率；图5为最终光谱曲线对比表，其中横向坐标代表波长，纵向坐标T代表透过率。结合图3、图4、图5可以看出，本发明光谱特性与传统光谱特性几乎一致，完全达到蓝玻璃滤光片成像要求。从说明书附图图2可知，传统膜层结构滤光片最终基片形变量可达2.2mm左右，而本发明膜层结构最终基片形变量只有0.2mm左右，相对于传统形变量几乎可以忽略不计。两面膜厚相当，避免了因应力差而导致的基板形变问题，无产品不良率发生，为企业创造了可观的经济效益；且本发明膜层结构设计简单，镀膜加工工艺难度很低，操作容易，加工速度快，大幅度提高产量，进一步为企业创造了可观经济效益，本发明改变了“蓝玻璃滤光片加工工艺复杂、不良率高”的时代，在滤光片技术领域具有里程碑意义。

综上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用来限定本发明实施的范围，凡依本发明权利要求范围所述的形状、构造、特征及精神所为的均等变化与修饰，均应包括于本发明的权利要求范围内。