显示装置及其滤光片的制作方法

文档序号:11862358阅读:344来源:国知局
显示装置及其滤光片的制作方法

本发明涉及触摸屏制造技术领域,尤其涉及一种显示装置及其滤光片。



背景技术:

RGBW显示技术通过在传统RGB色阻排列的基础上增加白色W子像素,相对于RGB色阻低于1/3的透过率,W子像素材料的透过率接近1,因而相对于RGB画素排列具有高亮度、低功耗的优势。传统RGBW液晶显示装置显示白色画面时,背光经过下偏光片、玻璃层、液晶层后,进入CF层之前,白光具有相同的能量光谱分布,而经过RGB子像素后合成的白光是由透过不同着色剂色阻的混光效果。由于RGBW显示器采用了与RGB显示器相同或者相似的R/G/B色阻,其静态R/G/B色坐标与色域可以调整至与传统RGB显示器一致。但是,W子像素仅有一种材料,通常出于工艺兼容的角度采用传统的OC材料,难以实现白光色坐标的精确调节,因而导致RGB子像素合成的白光与W白光会存在能量光谱分布及白点坐标不同的问题,因而有必要采用适当手段使得RGB子像素合成的白光色坐标与W白光色坐标相匹配。



技术实现要素:

为了解决现有技术的不足,本发明提出了一种显示装置及其滤光片,能够使得R子像素、G子像素和B子像素合成的白光色坐标与W子像素的白光色坐标相匹配。

本发明提出的具体技术方案为:提供一种滤光片,其包括介质层以及设置于所述介质层上的线栅结构阵列,所述线栅结构阵列包括多个线栅结构,每个所述线栅结构包括第一线栅单元、第二线栅单元、第三线栅单元以及第四线栅单元,所述第一线栅单元、第二线栅单元、第三线栅单元以及第四线栅单元分别包括多个间隔设置的线栅,所述第一线栅单元、第二线栅单元、第三线栅单元以及第四线栅单元的栅距均不相等,所述第一线栅单元、第二线栅单元、第三线栅单元以及第四线栅单元分别用于对入射光进行滤光而得到四种不同的颜色的光。

进一步地,所述第一线栅单元、第二线栅单元、第三线栅单元单元的栅距依次减小。

进一步地,所述线栅沿与所述介质层及所述线栅垂直的方向上的截面的形状为方形、梯形或三角形。

进一步地,所述线栅的材质为铝、银或金。

本发明还提供了一种显示装置,包括背光模组以及依次设置于所述背光模组上的下基板、液晶层以及上基板,所述上基板包括基底以及位于所述基底上的上偏光片,所述下基板包括下偏光片、位于所述下偏光片上的TFT阵列,所述下基板还包括如上所述的滤光片,所述滤光片设置于所述TFT阵列上,所述线栅结构阵列位于所述介质层与所述液晶层之间,所述第一线栅单元、第二线栅单元、第三线栅单元以及第四线栅单元分别用于对入射光进行滤光而得到颜色为红色的R子像素、颜色为绿色的G子像素、颜色为蓝色的B子像素以及颜色为白色的W子像素。

进一步地,所述第一线栅单元、第二线栅单元、第三线栅单元的栅距依次减小。

进一步地,所述第一线栅单元用于对入射光进行滤光后得到R子像素,所述第二线栅单元用于对入射光进行滤光后得到G子像素,所述第三线栅单元用于对入射光进行滤光后得到B子像素,所述第四线栅单元用于对入射光进行滤光后得到W子像素。

进一步地,每个线栅单元中的线栅长度相等。

进一步地,任意两个相邻的所述第一线栅单元、第二线栅单元、第三线栅单元以及第四线栅单元之间的间距相等。

进一步地,所述显示装置还包括OC平坦化层,所述OC平坦化层位于所述基底与所述液晶层之间。

本发明提供的显示装置及其滤光片,所述滤光片包括第一线栅单元、第二线栅单元、第三线栅单元以及第四线栅单元,通过调节第一线栅单元、第二线栅单元、第三线栅单元以及第四线栅单元中的两个相邻的线栅的栅距以及线栅的宽度,从而使得R子像素、G子像素和B子像素合成的白光色坐标与W子像素的白光色坐标相匹配。

附图说明

下面结合附图,通过对本发明的具体实施方式详细描述,将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为实施例1的显示装置的偏光片的结构示意图;

图2为图1中偏光片的线栅层的结构示意图;

图3为实施例1的显示装置的结构示意图;

图4为实施例1中的R子像素、G子像素、B子像素及W子像素对应的不同波长的透过率;

图5为R子像素、G子像素和B子像素合成的白光色坐标与W子像素的白光色坐标的匹配方法的流程图;

图6为实施例2的显示装置的结构示意图。

具体实施方式

以下,将参照附图来详细描述本发明的实施例。然而,可以以许多不同的形式来实施本发明,并且本发明不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反,提供这些实施例是为了解释本发明的原理及其实际应用,从而使本领域的其他技术人员能够理解本发明的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。在附图中,相同的标号将始终被用于表示相同的元件。

实施例1

参照图1、图2,本实施例提供了一种滤光片1,其包括介质层11以及设置于介质层11上的线栅层12,线栅层12上设置有线栅结构阵列,线栅结构阵列包括多个线栅结构12a,图2示出了线栅层12包括一个线栅结构12a的情况,每个线栅结构12a包括第一线栅单元120、第二线栅单元121、第三线栅单元122以及第四线栅单元123,第一线栅单元120、第二线栅单元121、第三线栅单元122以及第四线栅单元123分别包括多个间隔设置的线栅100,其中,第一线栅单元120、第二线栅单元121、第三线栅单元122以及第四线栅单元123的栅距均不相等,由于第一线栅单元120、第二线栅单元121、第三线栅单元122以及第四线栅单元123的栅距不相等,入射光经过第一线栅单元120、第二线栅单元121、第三线栅单元122以及第四线栅单元123滤光后得到四种不同的颜色的光。

介质层11为折射率调制的多层介质结构,优选的,介质层11包括第一折射率调制层110、设置于第一折射率调制层110上的第二折射率调制层111以及设置于第二折射率调制层111与线栅层12之间的第三折射率调制层112。其中,第一折射率调制层110与第三折射率调制层112的折射率低于第二折射率调制层111,第一折射率调制层110与第三折射率调制层112的材质可以为SiO2、SiO、MgO等,第二折射率调制层111的材质可以为Si3N4、TiO2、Ta2O5等。

具体的,第一线栅单元120、第二线栅单元121、第三线栅单元122以及第四线栅单元123的栅距依次减小。线栅层12包括线栅结构阵列及黑矩阵单元12b,黑矩阵单元12b位于第一线栅单元120、第二线栅单元121、第三线栅单元122以及第四线栅单元123之间,黑矩阵单元12b不透光,其用于防止第一线栅单元120、第二线栅单元121、第三线栅单元122以及第四线栅单元123的侧面漏光。每个线栅单元中的线栅100的宽度以及栅距相等,不同线栅单元的栅距不相等。线栅层12的材质为具有较大折射率虚部的材料,例如为铝、银或金等,优选的,线栅层12的材质为铝。

其中,第一线栅单元120、第二线栅单元121、第三线栅单元122以及第四线栅单元123中的线栅周期为200nm~500nm,这里线栅周期指的是两个相邻的线栅100的几何中心之间的距离,线栅100的宽度为线栅周期的0.4~0.9倍,线栅100的高度为20nm~200nm。线栅100为条状,其沿与与介质层11及线栅100垂直的方向上的截面的形状为方形、梯形或三角形,不同的线栅单元中的线栅100的长度相等。

通过改变每个线栅单元的栅距、线栅100的宽度、线栅100的高度以及线栅100的材质可以获得不同颜色的光的同时提升每个线栅单元的透光率。

参照图3,本实施例还提供了一种显示装置,其包括背光模组2以及依次设置于背光模组2上的下基板、液晶层3以及上基板,上基板包括基底4以及位于基底4上的上偏光片5,下基板包括下偏光片6、上述的滤光片1以及TFT阵列7,TFT阵列7位于下偏光片6上,滤光片1位于TFT阵列7与液晶层3之间,线栅层12位于介质层11与液晶层3之间。其中,上偏光片5的偏振方向与下偏光片6的偏振方向垂直,背光模组2为侧入式背光模组结构或者直下式背光模组结构。当背光模组2发出的光入射到线栅层12上时,入射到黑矩阵单元12b和线栅100上的光被吸收,其余入射光从每个线栅单元中两个相邻的线栅100之间穿过并通过第一线栅单元120、第二线栅单元121、第三线栅单元122以及第四线栅单元123分别对其进行滤光后得到颜色为红色的R子像素、颜色为绿色的G子像素、颜色为蓝色的B子像素以及颜色为白色的W子像素,例如,第一线栅单元120对入射光进行滤光后得到R子像素,第二线栅单元121对入射光进行滤光后得到G子像素,第三线栅单元122对入射光进行滤光后得到B子像素,第四线栅单元123对入射光进行滤光后得到W子像素,这样入射光通过每个线栅结构12a便可以得到R、G、B以及W这四个子像素,这四个子像素形成显示装置的一个像素。

参照图4,优选的,本实施例显示装置中的线栅层12的材质为铝,第一线栅单元120中的线栅周期为400nm~500nm,第二线栅单元121中的线栅周期为300nm~450nm,第三线栅单元122中的线栅周期为200nm~350nm,第四线栅单元123中的线栅周期为200nm~500nm。通过这样的设置可以使得第一线栅单元120在红光波段对应的中心峰值处的透过率、第二线栅单元121在绿光波段对应的中心峰值处的透过率以及第三线栅单元122在蓝光波段对应的中心峰值处的透过率分别大于70%,而在波段外的最低透过率低于10%;第四线栅单元123在全波段的透过率大于70%。其中,位于任意两个相邻的第一线栅单元120、第二线栅单元121、第三线栅单元122以及第四线栅单元123之间的黑矩阵单元12b的宽度相等。

除此之外,本实施例的显示装置还包括OC平坦化层8,其位于线栅层12与液晶层3之间,OC平坦化层8覆盖于线栅层12的上表面,用于增加线栅层12的上表面的平滑性以及对液晶层3起到防污染的作用。

本实施例每个线栅结构12a中的第一线栅单元120、第二线栅单元121、第三线栅单元122以及第四线栅单元123的排列方式可以根据实际显示需要进行设定,图3中只是通过示例给出并不用于进行限定。

下面以线栅层12的材质为铝,线栅层12的高度固定的情况为例来具体描述通过改变每个线栅单元的栅距、线栅100的宽度使得R子像素、G子像素和B子像素合成的白光色坐标与W子像素的白光色坐标相匹配的过程。

参照图5,整个匹配过程包括以下步骤:

步骤S1、选取使得第一线栅单元120在红光波段对应的中心峰值处的透过率大于70%、在波段外的最低透过率低于10%的第一参数范围,第二线栅单元121在绿光波段对应的中心峰值处的透过率大于70%、在波段外的最低透过率低于10%的第二参数范围,第三线栅单元122在蓝光波段对应的中心峰值处的透过率大于70%、在波段外的最低透过率低于10%的第三参数范围,第四线栅单元123在可见光对应的全波段的透过率大于70%的第四参数范围。这里的参数包括线栅单元的线栅周期和占空比,其中,占空比表示的是线栅100的宽度与线栅周期的比值。

步骤S2、在第一、第二、第三参数范围中选取不同的参数,计算R子像素、G子像素和B子像素在选取的参数下合成的白光色坐标在不同灰阶下的色坐标变化曲线,从而得到R子像素、G子像素和B子像素在第一、第二、第三参数范围下的第一色坐标变化曲线集合。

步骤S3、在第四参数范围中选取不同的参数,计算W子像素在选取的参数下的白光在不同灰阶下的色坐标变化曲线,从而得到W子像素在第四参数范围下的第二色坐标变化曲线集合。

步骤S4、选取第一色坐标变化曲线集合与第二色坐标变化曲线集合中偏差最小的两个色坐标变化曲线所对应的参数作为第一线栅单元120、第二线栅单元121、第三线栅单元122以及第四线栅单元123的线栅参数,从而实现R子像素、G子像素和B子像素合成的白光色坐标与W子像素的白光色坐标相匹配。

通过改变每个线栅单元的栅距、线栅的宽度、线栅的高度以及线栅的材质可以获得不同颜色的光的同时提升每个线栅单元的透光率,此外,还可以使得R子像素、G子像素和B子像素合成的白光色坐标与W子像素的白光色坐标相匹配,从而改善显示装置的白点漂移现象。

实施例2

参照图6,本实施例与实施1的不同之处在于,滤光片1位于TFT阵列7与下偏光片6之间,线栅层12位于介质层11与TFT阵列7之间。

本实施例的显示装置除了具备实施例1中的显示装置的性能外,通过将滤光片1设置于TFT阵列7与下偏光片6之间,可以省去实施例1的显示装置中的OC平坦化层8,通过TFT阵列将滤光片1与液晶层3进行隔离,避免了线栅层12对液晶层3产生污染。

以上所述仅是本申请的具体实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

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