一种扩散膜的制备方法与流程

文档序号:11862330阅读:513来源:国知局

本发明涉及一种扩散膜的制备方法。



背景技术:

随着数字时代的来临,液晶显示器(LCD)已经成为了当今应用最普遍的显示技术。因为LCD具有绿色环保,低耗能,低辐射,画面柔和等优点,所以LCD将会是未来几十年内主流的显示技术。LCD为非发光性的显示装置,必须利用背光源才能达到显示的功能。背光源性能的好坏会直接影响LCD显像质量,背光源的成本占LCD模块的3-5%,所消耗的电力占模块的75%,是LCD模块中相当重要的零组件。高精细、大尺寸的LCD,必须有高性能的背光技术与之配合,因此当LCD产业努力开拓新的应用领域的同时,背光技术的高性能化成为其中一个为至关重要环节。

背光源体系的主要构件包括:光源、导光板、各类光学膜片。目前光源主要有EL、CCFL以及LED三种类型,依照光源分布位置不同可分为侧光式和直下式两种。随着LCD模组不断向更亮、更轻、更薄的方向发展,侧光式CCFL背光源成为背光源发展的主流。

背光源体系中光学膜片主要包括反射膜、扩散膜和增亮膜。反射膜的主要作用是提高光学表面的反射率,将漏出导光板底部的光线高效率且无耗损地反射,从而降低光耗损,减少用电量,提高液晶显示面的光饱和度。扩散膜的主要作用是将从导光板透出的光,透过扩散粒子来达到雾化光源的效果。当光线经过扩散层时,从折射率相异的介质中穿过,介质折射率不同以及入射角度不同就会使得光发生多次折射、反射和散射现象,可以把光线修正成为均匀面光源,达到光学扩散的效果。

目前光扩散膜的生产方法多是在透明PET膜片上涂覆粒子,由于粒子的折射、散射作用,从而达到光扩散的效果。然后该方法存在诸多问题:由于采用涂覆的方法,将不可避免地使用溶剂、胶水等化学物质,必然会对环境、健康产生不良影响;由于使用多种物质,光学介面较多,因而光损失也无法避免;由于是先生产透明PET膜,再在上面进行涂覆粒子,这样的多步生产工艺必然会降低生产效率;当生产不同类型产品时,必需要更换胶水,这就必然会引起较大的浪费。



技术实现要素:

为了克服现有扩散膜的制备方法的上述不足,本发明提供一种制备方法简便的扩散膜的制备方法。

本发明解决其技术问题的技术方案是: 一种扩散膜的制备方法,通过熔融挤出机把聚合物切片塑化为熔体,并向前输送,熔体到达模头后从狭缝口模流出,形成熔体膜,熔体膜在静电吸附电极的作用下被贴附于冷却辊上;

在静电吸附电极的后方设置一放电电极,通过其对熔体膜连续不断地放电,使熔体膜上形成凸起。

优选的,所述的放电电极与静电吸附电极之间的距离为1~10cm。间距太小,则放电电极和静电吸附电极之间会相互影响;间距太大,则熔体已经冷却为固体,无法在放电的作用下形成微小凸起。

优选的,所述放电电极的放电电压为6~15V。放电电压太小则无法起到放电效果或薄膜表面凸起太低,无法起到扩散效果;放电电压太大则会放电过于强烈,且无法形成密集的表面凸起。

优选的,所述放电电极与所述熔体膜之间的距离为0.5~8cm。距离太小则放电易集中于局部,距离太大则无法放电。

优选的,所述冷却辊的温度为14~35℃。温度太小则熔体固化速度太快,无法形成凸起;温度太大则薄膜冷却速度过慢,易形成结晶而影响膜的透光效果。

本发明的有益效果在于:通过以上方法,可以一步制得光扩散膜,由于可以不需在薄膜表面进行涂布,因而生产效率得到了提升,也无需用到各种有害的化学物质,并且由于可以仅使用一种高分子材料制造扩散膜,其不存在各物质间的介面损耗问题,透光率也可以得到有效提升,当需要切换不同类型产品时,只需调节放电电极参数就可以顺利切换,而无需更换胶水等材料,有效节约了成本。

附图说明

图1是本发明的设备示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细说明。

实施例一

参照图1,一种扩散膜的制备方法,通过熔融挤出机1把聚合物切片塑化为熔体,并向前输送,熔体到达模头后从狭缝口模流出,形成熔体膜2,熔体膜2在静电吸附电极4的作用下被贴附于冷却辊3上。

在静电吸附电极4的后方设置一放电电极5,通过其对熔体膜2连续不断地放电,使熔体膜2上形成凸起。所谓静电吸附电极4的后方是按照熔体膜的流动方向来进行判断的,如图1所示 。

本实施例中所述的放电电极5与静电吸附电极4之间的距离为5cm,所述放电电极5的放电电压为10V,所述放电电极5与所述熔体膜2之间的距离为5cm,所述冷却辊3的温度为25℃,通常通过通冷却水来控制冷却辊3的温度。

实施例二

参照图1,一种扩散膜的制备方法,通过熔融挤出机1把聚合物切片塑化为熔体,并向前输送,熔体到达模头后从狭缝口模流出,形成熔体膜2,熔体膜2在静电吸附电极4的作用下被贴附于冷却辊3上。

在静电吸附电极4的后方设置一放电电极5,通过其对熔体膜2连续不断地放电,使熔体膜2上形成凸起。所谓静电吸附电极4的后方是按照熔体膜的流动方向来进行判断的,如图1所示 。

本实施例中所述的放电电极5与静电吸附电极4之间的距离为1cm,所述放电电极5的放电电压为12V,所述放电电极5与所述熔体膜2之间的距离为3cm,所述冷却辊3的温度为15℃,通常通过通冷却水来控制冷却辊3的温度。

实施例三

参照图1,一种扩散膜的制备方法,通过熔融挤出机1把聚合物切片塑化为熔体,并向前输送,熔体到达模头后从狭缝口模流出,形成熔体膜2,熔体膜2在静电吸附电极4的作用下被贴附于冷却辊3上。

在静电吸附电极4的后方设置一放电电极5,通过其对熔体膜2连续不断地放电,使熔体膜2上形成凸起。所谓静电吸附电极4的后方是按照熔体膜的流动方向来进行判断的,如图1所示 。

本实施例中所述的放电电极5与静电吸附电极4之间的距离为2cm,所述放电电极5的放电电压为9V,所述放电电极5与所述熔体膜2之间的距离为0.5cm,所述冷却辊3的温度为32℃,通常通过通冷却水来控制冷却辊3的温度。

实施例四

参照图1,一种扩散膜的制备方法,通过熔融挤出机1把聚合物切片塑化为熔体,并向前输送,熔体到达模头后从狭缝口模流出,形成熔体膜2,熔体膜2在静电吸附电极4的作用下被贴附于冷却辊3上。

在静电吸附电极4的后方设置一放电电极5,通过其对熔体膜2连续不断地放电,使熔体膜2上形成凸起。所谓静电吸附电极4的后方是按照熔体膜的流动方向来进行判断的,如图1所示 。

本实施例中所述的放电电极5与静电吸附电极4之间的距离为10cm,所述放电电极5的放电电压为6V,所述放电电极5与所述熔体膜2之间的距离为2cm,所述冷却辊3的温度为30℃,通常通过通冷却水来控制冷却辊3的温度。

实施例五

参照图1,一种扩散膜的制备方法,通过熔融挤出机1把聚合物切片塑化为熔体,并向前输送,熔体到达模头后从狭缝口模流出,形成熔体膜2,熔体膜2在静电吸附电极4的作用下被贴附于冷却辊3上。

在静电吸附电极4的后方设置一放电电极5,通过其对熔体膜2连续不断地放电,使熔体膜2上形成凸起。所谓静电吸附电极4的后方是按照熔体膜的流动方向来进行判断的,如图1所示 。

本实施例中所述的放电电极5与静电吸附电极4之间的距离为9cm,所述放电电极5的放电电压为7V,所述放电电极5与所述熔体膜2之间的距离为7cm,所述冷却辊3的温度为14℃,通常通过通冷却水来控制冷却辊3的温度。

实施例六

参照图1,一种扩散膜的制备方法,通过熔融挤出机1把聚合物切片塑化为熔体,并向前输送,熔体到达模头后从狭缝口模流出,形成熔体膜2,熔体膜2在静电吸附电极4的作用下被贴附于冷却辊3上。

在静电吸附电极4的后方设置一放电电极5,通过其对熔体膜2连续不断地放电,使熔体膜2上形成凸起。所谓静电吸附电极4的后方是按照熔体膜的流动方向来进行判断的,如图1所示 。

本实施例中所述的放电电极5与静电吸附电极4之间的距离为3cm,所述放电电极5的放电电压为8V,所述放电电极5与所述熔体膜2之间的距离为5.5cm,所述冷却辊3的温度为20℃,通常通过通冷却水来控制冷却辊3的温度。

实施例七

参照图1,一种扩散膜的制备方法,通过熔融挤出机1把聚合物切片塑化为熔体,并向前输送,熔体到达模头后从狭缝口模流出,形成熔体膜2,熔体膜2在静电吸附电极4的作用下被贴附于冷却辊3上。

在静电吸附电极4的后方设置一放电电极5,通过其对熔体膜2连续不断地放电,使熔体膜2上形成凸起。所谓静电吸附电极4的后方是按照熔体膜的流动方向来进行判断的,如图1所示 。

本实施例中所述的放电电极5与静电吸附电极4之间的距离为8cm,所述放电电极5的放电电压为13V,所述放电电极5与所述熔体膜2之间的距离为1cm,所述冷却辊3的温度为35℃,通常通过通冷却水来控制冷却辊3的温度。

实施例八

参照图1,一种扩散膜的制备方法,通过熔融挤出机1把聚合物切片塑化为熔体,并向前输送,熔体到达模头后从狭缝口模流出,形成熔体膜2,熔体膜2在静电吸附电极4的作用下被贴附于冷却辊3上。

在静电吸附电极4的后方设置一放电电极5,通过其对熔体膜2连续不断地放电,使熔体膜2上形成凸起。所谓静电吸附电极4的后方是按照熔体膜的流动方向来进行判断的,如图1所示 。

本实施例中所述的放电电极5与静电吸附电极4之间的距离为4cm,所述放电电极5的放电电压为15V,所述放电电极5与所述熔体膜2之间的距离为4cm,所述冷却辊3的温度为22℃,通常通过通冷却水来控制冷却辊3的温度。

实施例九

参照图1,一种扩散膜的制备方法,通过熔融挤出机1把聚合物切片塑化为熔体,并向前输送,熔体到达模头后从狭缝口模流出,形成熔体膜2,熔体膜2在静电吸附电极4的作用下被贴附于冷却辊3上。

在静电吸附电极4的后方设置一放电电极5,通过其对熔体膜2连续不断地放电,使熔体膜2上形成凸起。所谓静电吸附电极4的后方是按照熔体膜的流动方向来进行判断的,如图1所示 。

本实施例中所述的放电电极5与静电吸附电极4之间的距离为6cm,所述放电电极5的放电电压为11V,所述放电电极5与所述熔体膜2之间的距离为8cm,所述冷却辊3的温度为23℃,通常通过通冷却水来控制冷却辊3的温度。

实施例十

参照图1,一种扩散膜的制备方法,通过熔融挤出机1把聚合物切片塑化为熔体,并向前输送,熔体到达模头后从狭缝口模流出,形成熔体膜2,熔体膜2在静电吸附电极4的作用下被贴附于冷却辊3上。

在静电吸附电极4的后方设置一放电电极5,通过其对熔体膜2连续不断地放电,使熔体膜2上形成凸起。所谓静电吸附电极4的后方是按照熔体膜的流动方向来进行判断的,如图1所示 。

本实施例中所述的放电电极5与静电吸附电极4之间的距离为7cm,所述放电电极5的放电电压为14V,所述放电电极5与所述熔体膜2之间的距离为6cm,所述冷却辊3的温度为31℃,通常通过通冷却水来控制冷却辊3的温度。

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