曝光装置用曝光头及曝光装置用投影光学系统的制作方法

本发明涉及通过DMD(Digital Micro-mirror Device：数字微镜器件)等光调制元件阵列而直接描绘图案的无掩模曝光装置，特别是，涉及将图案像投影到曝光面的光学系统。

背景技术：

在具备DMD的无掩模曝光装置中，控制将光调制元件(单元)二维排列成矩阵状的光调制元件阵列而进行曝光动作，并将图案直接形成在基板的描绘面。具体地，当从光源放射的照明光被导入到DMD时，按照应形成于成为投影对象的区域的图案，对DMD的各个微镜进行开/关控制。在DMD上反射的光通过投影光学系统而被成像，图案像形成于曝光面。

在曝光装置中，为了提高吞吐量，将在DMD中反射的光(图案光)分割，并对多个分割图案像进行投影。例如，在基板与DMD之间的共轭面(成像面)配置分割光学系统，在共轭面上，沿着副扫描方向而分割图案像。在共轭面上被分割的图案像沿着主扫描方向而以规定的间隔进行排列，并投影到沿着副扫描方向而彼此分开的扫描带的位置(参照专利文献1)。另外，也可在成像光学系统的射出端侧配置分割光学系统，并将图案像分割(参照专利文献2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1日本特开2012-247711号公报

专利文献2日本特开2014-092707号公报

在共轭面上分割整个图案像的情况下，形成配置有将多个平行平面(反射镜)组合的光学系统的结构，构成复杂的反射镜配置的光学系统。因此，即便想要将图案像分割成多个(例如，分割成4个以上)，相邻的反射镜发生干扰，导致光量损失。另外，在成像光学系统的射出端侧将图案像分割成多个的情况下，由于未在共轭面分割图案像，因此由光束的扩散而导致的光量损失较大。

因此，需要一种在将图案像分割成更多个的同时，将各个分割图案像以充分的分辨率而形成在曝光面的曝光装置用的光学系统。

技术实现要素：

本发明的曝光装置用曝光头可适用于无掩模曝光装置，并包括将多个光调制元件二维排列而成的光调制元件阵列及使在所述光调制元件阵列反射的光在被描绘体的曝光面成像的投影光学系统，所述投影光学系统包括第1光学系统、图像分割光学系统、第2光学系统。

第1光学系统使在所述光调制元件阵列反射的图案像的光在第1成像面成像。图像分割光学系统包括多个反射镜对，该多个反射镜对按照分割区域而分割形成于所述第1成像面的(作为中间像的)图案像，并形成多个分割图案像。多个反射镜对的配置按照分割区域而进行。例如分割区域被规定在光调制元件阵列的受光面上。第2光学系统使通过图像分割光学系统而形成的多个分割图案像的光在曝光面成像。

在本发明中，多个反射镜对分别具备：分割镜，其以与第1成像面交叉的方式配置；引导镜，其与所述分割镜平行，并将来自所述分割镜的光导向所述第2光学系统。图像分割光学系统通过分割镜而在第1成像面附近对图案像进行分割。即，以如下的范围分割图案像：沿着能够得到可调整的焦深的范围内被容许的图案分辨率的第1成像面的垂直方向上的第1成像面附近的光轴方向。

并且，多个分割镜相对于第1成像面分别以规定的角度倾斜，使得多个分割图案像沿着主扫描方向及副扫描方向彼此分开地投影。在此，“相对于第1成像面倾斜”表示，分割镜的反射面的法线方向相对于第1成像面的法线方向倾斜。

在该情况下，包括以下两种情况：在将反射面的各个边正射影到第1成像面时所规定的投影线相对于主扫描方向和副扫描方向中的至少任意一个方向倾斜或与主扫描方向和副扫描方向均平行的情况。例如，在反射面为矩形形状的情况下，反射面的各个边的射影线构成相对于主扫描方向及副扫描方向平行或相对于主扫描方向及副扫描方向均倾斜的状态。

通过沿着主扫描方向和副扫描方向彼此分开地对分割图案像进行投影，从而能够将图案像投影到多个扫描带的各个扫描带，可一次扫描的区域扩大到与分割图案像的数量对应的数量，提高吞吐量。

关于多个分割镜的配置，可使多个分割镜分别倾斜，以将多个分割图案像以环状投影到曝光面。在此，环状的投影并不是表示如以往那样沿着倾斜的一排的方向而对分割图案像进行投影的情况，也不是在其一侧的随机的投影，而是指具备如下特征的投影：在追随多个分割图案像时的轨迹像环的形状(既可以是圆、椭圆的任意形状，也可以像环橡胶这样形状被打破)这样的像的图案配置。在该情况下，优选为，以构成分割图案像的长度方向的边缘的线沿着副扫描方向排列的方式进行投影。

例如，多个分割镜以各个角度倾斜，使得在按照曝光面投影中心规定的4个象限内分别将至少1个分割图案投影到曝光面。在此，曝光面投影中心是指，假设位于图案像的中心的光线未由图像分割光学系统分割(反射)而到达被描绘体(基板W)的曝光面时的虚拟点。另外，在光调制元件阵列对齐于成像光学系统的光学中心的情况下，可将成像光学系统的光轴与曝光面相交的点视为投影中心。

为了尽量将相邻的分割图案像的距离拉开，例如，优选为，使位于中心侧的中心侧分割镜倾斜，以将分割图案像投影到自曝光面投影中心的距离沿着副扫描方向比沿着主扫描方向更远的位置。另外，也可构成为与中心侧分割镜相邻的分割镜倾斜，以将分割图案像投影到自曝光面投影中心的距离沿着主扫描方向比沿着副扫描方向更远的位置。

当从描绘数据的时机调整等方面考虑时，优选为，多个分割镜分别倾斜，以使与图案像的一个半区域对应的分割图案像与另一个半区域对应的分割图案像关于曝光面投影中心成为点对称的关系。

当从防止各个分割图案像的清晰度的偏差的方面考虑时，优选为，多个引导镜以使从所述多个分割镜到曝光面为止的各个光路长度相等的方式构成。

当从使图案像尽量清晰的方面考虑时，优选为，多个分割镜相对于第1成像面以与所述投影光学系统的焦深对应的角度倾斜。即，构成在与被容许的图案像的清晰度对应的焦深的范围内收纳反射面的倾斜角度即可。例如，可构成为多个分割镜相对于第1成像面以45°以下的角度倾斜的结构，更优选为，以30°以下、15°以下的角度倾斜。

本发明的其他方式中的曝光装置用投影光学系统具备：第1成像光学系统，其使在将多个光调制元件二维排列而成的光调制元件阵列反射的光在第1成像面成像；图像分割光学系统，其按照分割区域而将形成于所述第1成像面的图案像在第1成像面附近分割成至少4个，从而形成至少4个分割图案像；及第2成像光学系统，其使至少4个分割图案像的光在所述曝光面成像，所述图像分割光学系统以如下方式形成至少4个分割图案像：将多个分割图案像沿着主扫描方向及副扫描方向而彼此分开地投影。

发明效果

根据本发明，能够在保持图案像的清晰度的同时，提高吞吐量。

附图说明

图1是示意性地表示本实施方式的曝光装置的立体图。

图2是示意性地表示曝光头的内部结构的图。

图3是表示DMD中的图案像的分割区域的图。

图4是表示投影到基板的曝光面的6个分割图案像的位置的图。

图5是表示与中心侧分割区域对应的反射镜对的配置的图。

图6是表示与中间分割区域对应的反射镜对的配置的图。

图7是表示与外侧分割区域对应的反射镜对的配置的图。

图8是表示分割镜的共轭面的配置的图。

图9是表示分割镜的配置角度的图。

图10是表示3个分割镜及引导镜的配置关系的图。

图11是表示3个分割镜的立体图。

图12是表示引导镜的配置的图。

图13是设于描绘装置的描绘控制部的框图。

图14是表示分割成奇数的数量时的DMD中的分割区域的图。

(符号的说明)

10描绘装置(曝光装置)

22DMD(光调制元件阵列)

24投影光学系统

25第1成像光学系统(第1光学系统)

26第2成像光学系统(第2光学系统)

30图像分割光学系统

32、34、36反射镜对

32A、34A、36A分割镜

32B、34B、36B引导镜

具体实施方式

下面，参照附图而对本发明的实施方式进行说明。

图1是示意性地表示本实施方式的曝光装置的立体图。

曝光装置10作为向涂布(或粘贴)了光致抗蚀剂等感光材料的基板W直接照射图案光的无掩模曝光装置，具备门状构造体12、基台14。在基台14上搭载有支持描绘台18的X-Y工作台驱动机构56，并且基板W设置在描绘台18上。

在门状构造体12具备光源20a、20b，另外，图案形成用的曝光头201、202排列在基板W的上方而配置。曝光头201具备DMD(Digital Micro-mirror Device)、投影光学系统(在此，未图示)，并根据从光源20a放射的光而将图案像投影到基板W。曝光头202也构成为相同的结构，通过光源20b的光而对图案像进行投影。

矩形形状的基板W例如是印刷基板、干膜、玻璃基板等电路用基板，并以进行了预焙处理、感光材料的涂布/粘贴处理等的空白的状态搭载于描绘台18。在基板W(描绘台18)中规定有彼此正交X-Y-Z坐标系统，描绘台18可沿着X、Y方向而移动，进而可围绕Z轴进行旋转。在此，将X方向规定为主扫描方向，将Y方向规定为副扫描方向。

曝光装置10具备控制曝光动作的描绘控制部(在此，未图示)。在描绘控制部连接有在此未图示的监视器、键盘等，并按照操作者的操作而进行与描绘处理相关的设置。设于突出部31的CCD19检测基板W的変形状态，在调整对准之后进行曝光动作。

图2是示意性地表示曝光头201的内部结构的图。曝光头202也具备相同的内部结构。

从图1所示的光源20a、20b放射的照明光经由照明光学系统(未图示)而被导向DMD22。DMD22是将几μm～几十μm的微小矩形形状的微镜二维排列成矩阵状的光调制设备，例如由1024×768的微镜构成。

在DMD22中，根据保持于存储器单元的控制信号(曝光数据)，对各个微镜分别选择性地进行开/关控制。在开状态的微镜反射的光是与应投影的图案对应的光束，经由反射镜(未图示)而被导向投影光学系统24。

投影光学系统24是使来自DMD22的光在基板W的曝光面成像的光学系统，具备第1成像光学系统25、第2成像光学系统26及图像分割光学系统30。第1成像光学系统25使与来自DMD22的图案对应的光在位于焦点位置的成像面(第1成像面)成像，并以规定放大率放大整个图案像。

图像分割光学系统30将形成于第1成像光学系统25的成像面的图案像分割成6个，形成6个部分的图案像(以下，称为分割图案像)。通过图像分割光学系统30而形成的6个分割图案像通过第2成像光学系统26而形成在基板W的曝光面。

关于像的形成说明如下：图像分割光学系统30可视为组合到第2成像光学系统26的光学系统，位于第2成像光学系统26的前侧焦点位置处的成像面与第1成像光学系统25的成像面(焦点位置)一致，另外位于后侧焦点位置处的成像面与基板W的曝光面一致。下面，将第1成像光学系统25的成像面称为共轭面。

随着基板W沿着主扫描方向X移动，通过DMD22形成的投影区域(曝光区域)相对基板W而相对地移动。按照以照射与投影区域的位置对应的图案光的方式规定曝光动作的曝光间距而执行。由此，沿着主扫描方向而形成图案。

其他的曝光头20₂也相同，在进行光栅扫描的同时进行曝光动作，在整个基板形成图案。当结束描绘处理时，实施现像处理、蚀刻或镀敷、抗蚀剂剥离处理等，由此制造形成有图案的基板。

在此，基板W的移动方向与主扫描方向一致，也可以将基板W以相对于主扫描方向X而稍微倾斜的状态配置于描绘台18。在该情况下，在描绘台18沿着主扫描方向X而移动时，曝光区域以相对于基板W的长度方向(X方向)而倾斜的状态相对移动。

作为曝光方式，可适用由将步骤和重复方式相结合的方式或连续移动方式进行的复用曝光方式。在步骤和重复方式相结合的方式中，描绘台18间歇性地沿着X方向移动，与此相应地对各个微镜进行开/关控制。另外，在连续移动方式中，描绘台18连续地移动，并根据曝光间距而对各个微镜进行开/关控制。在此，适用连续移动方式。

接着，利用图3～12，对图案像的分割及投影位置进行说明。下面，将不分割图案像时(不包括分割光学系统时)的曝光区域的中心点即DMD的中心位置的投影点设定为X-Y-Z坐标系统的原点而进行说明。

图3是表示DMD中的图案像的分割区域的图。图4是表示投影到基板的曝光面的6个分割图案像的位置的图。

如图3所示，在DMD22的反射面设定有在与主扫描方向对应的横向上进行等分割的部分区域DM1～DM6(以下，称为分割区域)。如图4所示，通过整个DMD22形成的图案像的光通过图像分割光学系统30而投影到每个部分区域DM1～DM6的彼此不同的位置处。被投影的分割图案像DA1～DA6分别通过分割区域DM1～DM6的图案光而形成。

如图4所示，将6个分割图案像DA1～DA6以沿着主扫描方向X而彼此分开规定的间隔的方式投影，另外沿着副扫描方向Y而分开，以不重叠，并对准彼此相邻的扫描带SB1～SB6的位置而投影。即，假如相对于主扫描方向X而将分割图案像DA1～DA6排列到相同的位置处，则成为相对副扫描方向Y而扩展的1个像。

此时的沿着副扫描方向Y的图案像的排列顺序是从上方以分割图案像DA1、DA6、DA2、DA5、DA3、DA4的顺序进行排列。即，将与位于DMD22的中心侧的分割区域DM1、DM4对应的分割图案像DA1、DA4沿着副扫描方向Y而投影到从原点远离的位置处，将其相邻的分割区域DM2、DM5的分割图案像DA2、DA5在与分割图案像DA1、DA4分别相同的象限内沿着副扫描方向Y而投影到靠近原点的位置处。

另外，将分割区域DM3、DM6的分割图案像DA3、DA6投影到与分割图案像DA1、DA4、分割图案像DA2、DA5不同的象限内，并分别投影到分割图案像DA2、DA4、分割图案像DA1、DA5的中间附近的位置处。

其结果，分割图案像DA1～DA6的投影位置相对于副扫描方向Y而构成点对称的投影位置关系。即，分割图案像DA1、DA4、分割图案像DA2、DA5、分割图案像DA3、DA6相对于原点构成对称的位置关系。另外，沿着副扫描方向而将分割图案像交替地投影到DMD22的右侧的一半部分区域DM1～DM3与左侧的一半部分区域DM4～DM6之间，分割图案像DA1～DA3、分割图案像DA4～DA6构成彼此补充的互补的关系。

另外，各个分割图案像自原点的距离(到投影中心位置为止的距离)XL不一致。在此所谓的投影中心是指，假设DMD22所致的位于图案像的中心的光线未由图像分割光学系统分割(反射)而到达了被描绘体(基板W)的曝光面时的虚拟点。另外，在DMD22对齐到投影光学系统24的光学中心的情况下，将第1成像光学系统25、第2成像光学系统26的光轴与曝光面相交的点视为投影中心。

这样，图像分割光学系统30并不像以往那样将分割图案像DA1～DA6投影成倾斜的一排，而是以分布在所有象限内的方式大致投影成环状。在此，环状不仅包括圆形，而且还包括非圆形的环形、多边形的意思。沿着这些图形轮廓而配置分割图案像DA1～DA6，而分割图案像DA1～DA6的朝向不限制于环切线方向，而是以规定的角度配置。另外，分割图案像的配置无需形成为环，例如即便配置4个分割图案像，也可视为环状。

实现环状投影的图像分割光学系统30与DMD22的分割区域DM1～DM6对应地具备6个反射镜对，各个反射镜对构成为平行平面的组。下面，对反射镜对进行说明。

图5是表示与分割区域DM1对应的反射镜对的配置的图。图6是表示与分割区域DM2对应的反射镜对的配置的图。图7是表示与分割区域DM3对应的反射镜对的配置的图。

如图5～7所示，反射镜对32、34、36是将来自分割区域DM1、DM2、DM3的反射光分别导向分割图案像DA1、DA2、DA3的投影位置(参照图4)的反射镜，由矩形形状的分割镜32A、34A、36A和矩形形状的引导镜32B、34B、36B构成。但是，在此为了便于说明，将图5～7所示的各个反射镜的尺寸描绘成与DMD22的各个分割区域相应的尺寸。

分割镜32A的整个反射面与共轭面CS不平行，而是与共轭面CS交叉。即，其法线方向与共轭面CS的法线方向不平行，而是倾斜地配置。因此，沿着相对于共轭面CS垂直的Z轴方向，自共轭面CS的距离根据分割镜32A的位置而不同。

另外，分割镜32A的矩形形状的反射面相对于主扫描方向X、副扫描方向Y而分别以规定的角度倾斜。即，将分割镜反射面的各个边射影到共轭面CS时被规定的投影线分别相对X轴、Y轴而不平行，而是倾斜。在此，将这样的分割镜32A相对于共轭面CS的配置称为“共轭面CS附近处的倾斜配置”。

相对于主扫描方向X、副扫描方向Y及Z轴的倾斜角度根据图4所示的分割图案像DA1的投影位置而被设定。在图4中，通过分割镜32A、引导镜32B，在副扫描方向Y上将分割图案像DA1移动2.5扫描带的距离。

由于将分割图案像DA1投影到与主扫描方向X相比，在副扫描方向Y上更远离原点的位置处，因此相对于X轴的倾斜角度大于相对于Y轴的倾斜角度。另外，其反射面的法线方向朝向+Y方向、+X方向。与分割镜32A构成平行平面的关系的引导镜32B将来自分割镜32A的光导向第2光学系统26。

图6所示的反射镜对34的分割镜34A也以与共轭面CS交叉的方式配置，并且相对于主扫描方向X、副扫描方向Y而分别以不同的角度倾斜。由于将分割图案像DA2投影到与副扫描方向Y相比，在主扫描方向X上更远离原点的位置处，因此相对于Y轴的倾斜角度大于相对于X轴的倾斜角度。另外，为了避免与反射到分割镜32A的光发生干扰，其反射面的法线方向以与分割镜32A相比，更大程度地倾向+X侧的方式倾斜。在图6中，通过分割镜34A、引导镜34B，向副扫描方向Y移动0.5扫描带程度。

进而，图7所示的反射镜对36的分割镜36A也以与共轭面CS交叉的方式配置，并且相对于主扫描方向X、副扫描方向Y而分别以不同的角度倾斜。在此，将分割图案像DA1投影到第4象限，因此其反射面的法线方向朝向-X、-Y方向。在图7中，通过分割镜36A、引导镜36A，向副扫描方向Y的负方向移动1.5扫描带程度。

图8是表示分割镜36A的共轭面CS的配置的图。图9是表示分割镜36A的配置角度的图。

分割镜36A以其中心设置在共轭面CS上的方式倾斜，并夹着与共轭面CS交叉的线36AC而分为相比于共轭面CS为上侧(-Z方向)的区域和相比于共轭面CS为下侧的区域(+Z方向)。相对分割镜36A的边(以下，称为分割边)36AL的共轭面CS的倾斜角度与相邻设置的分割镜34A(参照图6)的分割边的倾斜角度不同，当从X轴方向观察时，彼此的边交叉。从投影图案像DA3通过分割镜36A、引导镜36B而从原点向+X方向、-Y方向移动可知，交叉线36AC相对于主扫描方向X、副扫描方向Y而倾斜。

图9所示的分割镜36A相对于共轭面CS的倾斜角度α被设定为尽量使反射镜的两个边缘36AE不从共轭面CS离开的角度。例如，设定为30°以下、15°以下。通过将倾斜角度α设定为微小角度，从而能够避免与相邻的分割镜之间的干扰。对其他分割镜32A、34A也进行相同的设置。

另外，投影光学系统24的焦深是将分割图案像分别收纳到对焦范围内的焦深。各个分割镜相对于共轭面CS的倾斜角度以收纳在用于保持分割图案像所需的清晰度的焦深的范围内的方式被设定。焦深的范围根据所要求的图案的分辨率、投影光学系统24的光学特性等而被确定。例如，分割镜36的倾斜角度至少可设定为45°、30°或15°以下。

图10是表示3个分割镜及引导镜的配置关系的图。图11是表示3个分割镜的立体图。并且，图12是表示引导镜的配置的图。

如上所述，分割图案像DA1、DA2、DA3通过由一组平行平面构成的反射镜对32A、32B(32)、反射镜对34A、34B(34)、反射镜对36A、36B(36)而被投影到图10所示的位置处。分割镜32A、34A、36A及引导镜32B、34B、36B的尺寸比与DMD22的各个分割区域对应的共轭面CS上的投影区域大。

特别是，因为分割镜32A、34A、36A相对于成像面即共轭面CS倾斜，因此引导镜32B、34B、36B被设定成考虑了分割图案像的光束的扩散的尺寸。此外，图5～7、10中表示分割图案像DA1～DA3的光束的扩散范围LM。

另外，引导镜32B、34B、36B以使沿着-Z方向的任意的自X-Y平面的距离(到反射镜中心位置为止的距离)相等的方式被进行配置。在图12中，表示从各个引导镜到共轭面CS为止的距离Z0相等。另外，以使从分割镜32A、34A、36A到投影了分割图案像DA1～DA3的曝光面为止的光路长度均相同的方式配置引导镜32B。

与DMD22的分割区域DM4～DM6相应地配置的3个反射镜对(未图示)也构成相同的配置，在6个分割镜彼此相邻的同时，分别沿着主扫描方向X、副扫描方向Y而以不同的角度倾斜。与分割区域DM4、DM5、DM6对应的分割镜的倾斜角度分别是与分割镜32A、34A、36A对称的角度，主扫描方向X、副扫描方向Y的正负方向相反。另外，从6个分割镜到分割图案像DA1～DA6为止的光路长度均相等。

图13是设于描绘装置的描绘控制部的框图。

描绘控制部50具备曝光控制部52，该曝光控制部52与外部的工作站(未图示)连接，并连接有监视器50B、键盘50C。曝光控制部52控制曝光动作处理，向曝光数据生成部76、时机控制电路73、描绘台控制电路53、光源控制部61等电路输出控制信号。控制曝光动作处理的程序存储在曝光控制部52内的ROM(未图示)中。

从工作站(未图示)输入到曝光控制部52的图案数据是具备描绘图案的位置信息(轮廓位置信息)的向量数据(CAD/CAM数据)，表示为基于X-Y坐标系统的位置坐标数据。

第1～第6光栅数据生成部72₁～72₆变更向量数据，分别依次生成应描绘到扫描带SB1、SB2、SB3的图案的光栅数据。所生成的光栅数据分别临时存储到第1～第6缓存74₁～74₆。

与曝光间距相应地输出临时存储到各个缓存的光栅数据。即，在部分投影区域移动曝光间距量而可执行下一次的曝光动作时，进行光栅数据的输出。根据从设于曝光控制部52的地址控制电路(未图示)输出的控制信号进行第1～第6光栅数据生成部72₁～72₆中的光栅数据的输出控制。

当向曝光数据生成部76发送光栅数据时，曝光数据生成部76将与分割图案像DA1～DA6的各个投影区域的位置对应的光栅数据进行综合，作为相对于整个DMD22的1个曝光数据而生成对DMD22的各个微镜进行开/关控制的信号。在DMD22中，根据从曝光数据生成部76输出的曝光数据而对微镜进行开/关控制。

时机控制电路73为了进行时机调整，将时钟脉冲信号作为同步信号而向缓存74₁～74₆、曝光数据生成部76等输出。另外，根据从CCD19输出的图像信号，图像处理部62检测形成于基板W的对准标记的位置。

描绘台控制电路53借助于驱动电路54而对具备马达(未图示)的X-Y工作台驱动机构56进行控制，从而控制描绘台18的移动速度、基板行进方向等。关于描绘台18的位置，即部分图案像DA1～DA6的投影位置，位置检测传感器55检测相对于描绘台18的相对齐置。

对曝光头202也同样设有与光栅数据变换处理、DMD驱动处理等相关的电路(未图示)，并进行相同的曝光动作处理。

这样，根据本实施方式，具备分别由分割镜和引导镜构成的平行平面的组即6个反射镜对的图像分割光学系统30将来自DMD22的图案像按照DMD22的分割区域DM1～DM6而分割成6个，关于6个分割图案像DA1～DA6，以沿着主扫描方向X、副扫描方向Y而彼此分开的方式移动投影位置。由此，能够提高吞吐量。

通过配置多个构成平行平面的关系的反射镜对而对图案像进行分割，从而能够构成简单的光学系统，将图案像分割为4个或4个以上的数量。特别是，将中心侧的分割图案像投影到相对于副扫描方向而离最远的位置处，因此能够扩大分割图案像的距离间隔。

并且，关于与中心侧的分割镜相邻的中间位置处的分割镜，将分割图案像投影到相对于主扫描方向而离最远的位置处，拉大相邻分割镜之间的分割图案像的投影位置距离间隔。由此，能够避免相邻的反射镜之间的干扰。特别是，通过将图案像的右侧一半、左侧一半的分割图案像沿着副扫描方向而交替地排列，从而能够取得更大的投影位置的距离间隔。而且以避免相邻的反射镜之间的光的干扰的方式抑制分割镜的倾斜角度，从而能够抑制光量损失而得到所需的分辨率。

进而，分割图案像DA1～DA6的投影位置相对于其中心而构成点对称的位置关系，由此图案像的左侧一半、右侧一半的分割图案像构成互补的位置关系，从而能够容易地设定描绘处理中的描绘时机的调整等。并且，通过将分割图案像DA1～DA配置成环状，并且以使到投影分割图案像DA1～DA6的曝光面为止的光路总长度相等的方式配置分割镜对(各个引导镜)，从而使得各个分割图案像的清晰度均匀。

图案像的分割数量可以是任意的数量，可分割成任意的偶数的数量。在该情况下，与分割数量相应地配置反射镜对即可。另外，也可将图案像分割成奇数的数量。

图14是表示分割成奇数的数量时的DMD中的分割区域的图。与通过将DMD22’的反射面5等分而被设定的5个分割区域DM1～DM5相应地配置5个反射镜对。关于分割镜的倾斜角度，设定成与分割成偶数的数量时相同的倾斜角度。

本实施方式中，以分割图案像从投影中心向X、Y方向分别分开的方式设定了分割镜的倾斜角度，但例如也可以如下方式倾斜：使将中止侧分割镜32A的边正交射影时的投影线沿着X方向、Y方向而平行。