1.一种曝光设备，其特征在于，包括一掩膜板(110)、设于所述掩膜板(110)左侧下方的第一平台(121)、设于所述掩膜板(110)右侧下方的第二平台(122)、设于所述掩膜板(110)右侧上方的第一光源(131)、及设于所述掩膜板(110)左侧上方的第二光源(132)；
所述第一平台(121)、第二平台(122)均用于承载基板(200)；
所述第一光源(131)射出的光线穿过所述掩膜板(110)射到所述第一平台(121)；
所述第二光源(132)射出的光线穿过所述掩膜板(110)射到所述第二平台(122)。
2.如权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述掩膜板(110)为水平设置；所述第一平台(121)、第二平台(122)均为相对水平面倾斜设置；
所述第一平台(121)的上表面面向第一光源(131)，所述第二平台(122)的上表面面向第二光源(132)。
3.如权利要求2所述的曝光设备，其特征在于，所述第一光源(131)与第二光源(132)射出的光线均为平行光线；
所述第一光源(131)射出的光线从所述掩膜板(110)的上方倾斜射到所述掩膜板(110)的上表面，穿过所述掩膜板(110)垂直射到所述第一平台(121)；
所述第二光源(132)射出的光线从所述掩膜板(110)的上方倾斜射到所述掩膜板(110)的上表面，穿过所述掩膜板(110)垂直射到所述第二平台(122)。
4.如权利要求3所述的曝光设备，其特征在于，所述第一平台(121)与第二平台(122)为左右对称设置；所述第一光源(131)与第二光源(132)为左右对称设置；
所述第一光源(131)射出的光线从所述掩膜板(110)的上方以入射角为θ1入射到所述掩膜板(110)的上表面，所述第二光源(132)射出的光线从所述掩膜板(110)的上方以入射角为θ2入射到所述掩膜板(110)的上表面，其中，θ1等于θ2。
5.如权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，还包括容纳所述掩膜板(110)、第一平台(121)、第二平台(122)、第一光源(131)、及第二光源(132)的曝光腔。
6.一种曝光方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供曝光设备、及两个基板(200)，所述曝光设备包括一掩膜板(110)、设于所述掩膜板(110)左侧下方的第一平台(121)、设于所述掩膜板(110)右侧下方的第二平台(122)、设于所述掩膜板(110)右侧上方的第一光源(131)、及设于所述掩膜板(110)左侧上方的第二光源(132)；将两个基板(200)分别放置于第一平台(121)、第二平台(122)上；
步骤2、开启第一光源(131)与第二光源(132)，所述第一光源(131)射出的光线穿过所述掩膜板(110)射到放置于所述第一平台(121)上的基板(200)上；所述第二光源(132)射出的光线穿过所述掩膜板(110)射到放置于所述第二平台(122)上的基板(200)上。
7.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述掩膜板(110)为水平设置；所述第一平台(121)、第二平台(122)均为相对水平面倾斜设置；
所述第一平台(121)的上表面面向第一光源(131)，所述第二平台(122)的上表面面向第二光源(132)。
8.如权利要求7所述的曝光方法，其特征在于，所述步骤2中，所述第一光源(131)与第二光源(132)射出的光线均为平行光线；
所述第一光源(131)射出的光线从所述掩膜板(110)的上方倾斜射到所述掩膜板(110)的上表面，穿过所述掩膜板(110)垂直射到放置于所述第一平台(121)上的基板(200)上；
所述第二光源(132)射出的光线从所述掩膜板(110)的上方倾斜射到所述掩膜板(110)的上表面，穿过所述掩膜板(110)垂直射到放置于所述第二平台(122)上的基板(200)上。
9.如权利要求8所述的曝光方法，其特征在于，所述第一平台(121)与第二平台(122)为左右对称设置；所述第一光源(131)与第二光源(132)为左右对称设置；
所述步骤2中，所述第一光源(131)射出的光线从所述掩膜板(110)的上方以入射角为θ1入射到所述掩膜板(110)的上表面，所述第二光源(132)射出的光线从所述掩膜板(110)的上方以入射角为θ2入射到所述掩膜板(110)的上表面，其中，θ1等于θ2。
10.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述曝光设备还包括容纳所述掩膜板(110)、第一平台(121)、第二平台(122)、第一光源(131)、及第二光源(132)的曝光腔。