技术特征：
技术总结
一种评价方法包括：转印工序，将掩模多个图案要素通过曝光装置的投影光学系统转印到基板；第1工序，根据转印工序中转印结果，求出与基于投影光学系统的多个图案要素各自的投影位置有关的第1特性值，将多个图案要素的第1特性值平均值作为表示投影光学系统像差的第1信息求出；检测工序，检测通过投影光学系统投影的多个图案要素像；第2工序，根据检测工序中的检测结果，求出关于基于投影光学系统的多个图案要素各自的投影位置的第2特性值，将多个图案要素第2特性值的平均值及多个图案要素各个的第2特性值与该第2特性值的平均值之差作为表示投影光学系统像差的第2信息求出；评价工序，根据第1信息和第2信息评价投影光学系统的像差。
技术研发人员：大久保徹
受保护的技术使用者：佳能株式会社
技术研发日：2016.12.20
技术公布日：2017.07.04