专利名称:正性辐射线敏感涂层液的制作方法
本发明是关于专门适于制备光致抗蚀层的正性辐射线敏感涂层液。
已知的正性光致抗蚀液，主要成分含有萘醌二
氮化物，或者含有由能够被酸裂解的化合物和经光化辐射线作用后形成强酸的化合物所组成的组合物。这些正性光致抗蚀液在生产印刷电路和微电子元件中，广泛用于化学蚀刻等。
在这些应用领域中，通常由制造厂提供光敏涂层液，然后由用户将其涂布在适当的分层支持物上，例如涂在硅片上或者某种绝缘材料的铜
层板上，然后使涂层干燥。与工业上通常用于生产PS印刷版或者干膜抗蚀剂时连续涂布无端头支持物的过程相比，这种单片涂布法当然更难进行，更容易出现问题。用户在涂布单片支持物时，很难保持标准涂布条件严格不变。在实际涂布过程中出现的这些问题，不仅由于涂层中固体成分的种类和数量所造成，而且在很大程度上也是由于常用的有机溶剂类型所引起的。由于仅仅涂布少量支持物的许多用户，不具备回收或者在环境上安全处置溶剂蒸气的设施，所以只允许使用对人体健康无害的溶剂。近来，由于提出了许多允许实验室中使用的有机溶剂的标准，所以有机溶剂的选择受到了很大限制。另一方面，在此溶液干燥时，甚至于在温度和干燥条件均不相同的各种情况下，都希望获得尽可能均匀和无条痕的保护层。为达到此目的所做的各种尝试，通常是使用由几个组分组成的溶剂混合物，而组成此溶剂混合物的各个溶剂互不相同，并且对于涂层中各成分具有不同的溶解能力。
蒸发值也不同，以便在干燥过程中使涂层的固化过程逐渐发生，以避免因各单个组分过早分离造成的不均匀性。由于这些原因，大部分可以从市场上买到的实际使用的光致抗蚀液，均含有某种溶剂混合物。
在美国专利3，634，082中，提出了适于以1，2-醌二
氮化合物为基料的正性光致抗蚀液用的各种溶剂物质有乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、脂肪族酯(例如乙酸丁酯)、脂肪族酮(例如甲基异丁基酮和丙酮)、二噁烷、二甲苯、卤代芳香族化合物(例如氯代二甲苯)、苯和甲苯。
这些溶剂基本上用于以能够被酸所裂解的化合物作为基料的正性光致抗蚀混合物中，关于这一点例如在美国专利4，101，323和欧洲专利申请公开42，562中曾加以介绍。
工艺级光致抗蚀溶液的主要成分，通常是例如乙二醇单甲醚和乙二醇单乙醚等乙二醇衍生物，相应二甘醇的醚或者乙酸乙二醇乙醚酯。这些溶剂的特点在于，对于常规的全部涂层成分具有良好的溶解性，其沸点和蒸发值适当，而且价格合理。但是采用这些组合物所得到的涂层并不是在所有情况下均完美无缺。而且，从它们在实验室环境空气中可以允许的浓度这一点来看，其使用价值近来已经减小。
因此，本发明的目的是提出一种光致抗蚀液，这种溶液所使用的溶剂，就其沸点、蒸气压、溶解能力以及价格等方面均与迄今所选用的溶剂相当，但是由它得到的涂层质量却得到改进，对人体的伤害也较小。
按照本发明，提出了一种正性辐射线敏感的涂层液，此溶液含有辐射线敏感的化合物或者辐射线敏感的化合物的组合物，以及某种有机溶剂或者溶剂混合物(至少大部分来说是由某种二醇醚所组成的)作为基本成分。
本发明涂层液的特点在于所说的二醇醚是1、2-丙二醇的(C1-C4)单烷基醚。优选的二醇醚是其单C1烷基醚或者单C2烷基醚。尤其优先选用1，2-丙二醇单甲基醚。
所说的烷基醚基，可以位于丙二醇的1-位或者2-位上。对于其单甲基醚来说，一般优先选用更容易买到的1-甲氧基丙醇〔2〕。也可以使用两种甲基异构体的混合物和(或者)丙二醇单C1烷基醚至单C4烷基醚的混合物。
上述提到过的溶剂都可以在市场上买到。这些溶剂在工厂实验室环境气氛中允许存在的最大浓度，高于迄今所使用的那些乙二醇醚的最大浓度。这些溶剂的另一个很大优点是与相应的乙二醇的醚类相比(尤其是当这些溶剂是在涂料中使用的唯一的溶剂时)，由它们制成的涂层液具有更一致的平展性，而且可以得到更均匀的涂层。当部分丙二醇单烷基醚由其它常用的辅助溶剂(例如乙酸丁酯等酯类、二甲苯等烃类、丙酮或者丁酮等酮类、醇类或者乙酸-3-甲氧基丁酯等某些烷氧基烷基酯类)代替时，这种溶液的优良性质仍然保持。如果需要的话，可以按这种方式改变不同情况下的湿润性、流动性及蒸发特性。这些附加溶剂的添加量，按重量计在任何情况下应当小于50%。以相当于该溶剂混合物重量的0-35%为好，最好为0-20%。因此，本发明的溶剂或者溶剂混合物，按重量计含有65-100%的1，2-丙二醇C1-C4单烷基醚，优先选用1，2-丙二醇单甲基醚和(或者)1，2-丙二醇单乙基醚。也可以通过加入更高沸点的醇或者醚增加该涂层的柔韧性，在干燥之后少量的高沸点醇或者醚(大约1-2%)保持在涂层之中。如果需要的话，还可以加入某个较低沸点溶剂(例如仲丁醇)以加快蒸发速率。
按照已知的方式，例如浸涂、挤压涂布(Slot-die-coating)、甩涂、喷涂、辊涂或者帘式淋涂等方法，将此光致抗蚀液涂布在支持物上。
在大部分情况下，最好只使用烷氧基丙醇作为溶剂。
按重量%计，本发明溶液中固体总量，一般在10至50之间，最好在15至35之间变化，其具体数值取决于在每种情况下所使用光敏化合物和粘合剂的类型以及预期的用途。
本发明的涂层液，还含有辐射线敏感化合物或者光敏化合物，辐射线敏感的化合物的组合物或者光敏化合物的组合物。正性化合物，即曝光使之可溶的化合物，适于本发明的目的。这种化合物包括1，2-醌-二
氮化物以及光解酸给予体与可以被酸裂解的化合物(例如原羧酸化合物及乙缩醛化合物)的组合物。
1，2-醌-二
氮化物是已知的物质，在例如西德专利938，233和1，543，271，以及西德专利申请公开2，331，377、2，547，905和2，828，037等文件上做过介绍。优选的1，2-醌-二
氮化物是萘醌-(1，2)-二
氮化物-(2)-4-
酸酯或酰胺，或者是萘醌-(1，2)-二
氮化物-(2)-5-
酸酯或者酰胺。在这些物质中，最优先选用的是酯，尤其是
酸酯。1，2-醌-二
氮化物相对于该混合物中不挥发组分的量，按重量%计算一般为3-50，优选值为7-35。
以可以被酸裂解的化合物为基料的涂层液也是已知的，并且记载于例如美国专利3，779，778和4，101，323、西德专利2，718，254和西德公开说明书2，829，512及2，829，511之中。作为可以被酸所裂解的化合物，这些涂层液含有原羧酸衍生物、乙缩醛或者聚乙缩醛、烯醇的醚类或者酰亚氨基碳酸酯。作为对辐射线敏感和对消去酸敏感的化合物，它们主要含有有机卤代化合物，尤其是被卤代甲基等基团取代的均三嗪或者是2-三氯甲基-1，3，4-二唑类。在美国专利4，101，323中记载的原羧酸衍生物中，尤其优先选用脂肪族二元醇的双-1，3-二噁烷-2 基醚类。在西德专利记明书2，718，254中描述的聚缩醛类中，优先选用含有脂肪族醛单元和二醇单元的聚缩醛。
此外，在西德公开说明书2，928，636中记载了一些很适用的合合物。在此文中，描述了在主链上具有重复的原酸酯基的聚合原酸酯作为可以被酸裂解的化合物。这些基团是具有五元环或者六元环的1，3-二氧杂环烷的2-烷基醚。特别优选的物质，是带有1，3-二氧杂环己基-2-烷基醚重复单元的聚合物，在该重复单元中，所说的烷基醚基可以被醚氧原子隔开，而且该烷基醚基最好键合到相邻环的5-位上。
可以被酸裂解的化合物在光敏混合物中的比例，相对于该混合物中不挥发组分的重量百分数，通常处于8-65之间，最好处于14-44之间。消除酸的化合物量，按重量%计处于0.1-10之间，最好处于0.2和5之间。
本发明的涂料组合物除含有上述光敏组分之外，还可以含有聚分子粘合剂。优先选用的高分子粘合剂在水中不溶，但是却于碱性水溶液中溶解或者溶胀。可以在碱性介质中溶解或者溶胀的适用粘合剂包括虫胶和松香之类的天然树脂，苯乙烯与顺丁烯二酸酐共聚物、丙烯酸或者甲基丙烯酸共聚物尤其是与丙烯酸酯或者甲基丙烯酸酯的共聚物、以及特别是酚醛清漆等合成树脂。在酚醛清漆缩合树脂中，含有取代的酚与甲醛缩合的更高度缩合的树脂，已经证明特别适用。碱可溶树脂的类型和数量，以预期的用途而异;这些树脂在总固体物质中的比例，以30-90%(重量)为好，尤其是55-85%(重量)。采用聚(4-乙烯基-苯酚)型酚树脂来代替酚醛清漆，或者作为含有酚醛清漆之混合物的一个成分也是有利的。而且可以共同使用许多其它树脂，优先选用的有乙烯基聚合物，例如聚乙酸乙烯酯、聚丙烯酸酯、聚乙烯基醚和聚乙烯基吡咯烷酮等，这些物质仍可以用共聚物改性。这些树脂的最有利的比例，取决于工艺要求以及对所需显影条件的影响。这个比例一般不超过碱可溶树脂重量的大约20%。为了满足例如柔韧性、粘附力、光泽等等特殊要求，必要时于此光敏混合物中还可以加入少量其它物质，例如聚乙二醇、纤维素衍生物(如乙基纤维素)、表面活性剂、染料、细粒状颜料以及紫外线吸收剂等。
本发明的溶液可以涂布在光致抗蚀技术中常用的各种支持物材料上，例如绝缘材料的铜
层板、照相凹板印刷用铜辊、丝网印刷用镍辊、铝板、玻璃板以及微电子学中使用的硅、氮化硅和二氧化硅表面上。按本发明在例如锌板、黄铜-铬板、铝-铜-铬板、铝板或者钢板上涂布本发明涂层液，也可以制得活版印刷版和胶版印刷版。
所涂布的光敏材料借助于常规光源曝光，此常规光源的辐射最大值处于紫外光的长波范围或者可见光的短波范围内。也可以利用电子束、X射线束或者激光光束成象。
显影用的碱性水溶液，具有分度的碱性，也就是说其PH值最好处于10和14之间，而且其中也可以含有少量有机溶剂或者表面活性剂。利用这种碱性水溶液除去被光射照射过的拷贝涂层区域，因而产生出原像的正象。
以下的实施例记载的是本发明的优选实施方案。除非另外说明，否则所用的比例和百分数均指重量单位。重量份数(P.b.w.)和容积份数(p.b.v.)用克和厘米3表示。
实施例1这个实施例说明的是用电镀法，生产印刷纺织物用轮转镍丝网印刷模板。
用下列物质制备涂层液丁醇，15p.b.w.，1-甲氧基-丙醇-2(Dowanol PM，美国道化学公司)45p.b.w.，
软化点温度范围为105-120℃的甲酚-甲醛酚醛清漆(符合DIN 3，181)28p.b.w.，聚乙烯基醚(Lutonal A25)3.5p.b.w.，2-乙基丁醛和三甘醇的聚缩醛8.3p.b.w.，2-(6-甲氧基-萘基-2)-4，6-双-三氯甲基-均三嗪0.2p.b.w.，以及结晶紫碱0.01p.b.w.，在备有导电剥离层之光亮、稍可收缩的镍辊上，涂布上涂层液，形成表面质量良好的涂层，厚度达60um至75um。涂布过程分两步完成，即利用压缩空气进行喷涂，然后干燥，尔后再喷涂一次。接着用红外线辐射器将此轮转辊充分干燥30分钟。此溶液直至完全干燥所需的均化时间以及此涂层的厚度可以用减少此溶液中丁酮含量的方法来改变。甚至于该溶液中不含丁酮，也可以得到表面质量良好的涂层。
当使用由40p.b.w.的丁酮、15p.b.w的乙酸β-乙氧基乙酯和5p.b.w的2-(β-乙氧基-乙氧基)乙醇组成的混合物，作为上述涂料组合物的溶剂时，涂层质量也很好。但是，实际上，只使用这些溶剂中一种溶剂时，不能制得质量良好的涂层。
然后使涂过的镍辊，在欲加以印刷的正性模版下适度曝光，利用每厘米内有32行的丝网，使正性模版的色调值转变成具有不同可见密度的成象单元。以1，2-萘辊二
氮化物为基料、其厚度为上述涂层厚度一半的正性涂层，需要的曝光时间为上述的四倍。使用由下列物质组成的溶液显影0.5%的NaOH，0.8%的偏硅酸钠(九水合物)和1.0%的乙二醇单正丁醚以及97.7%的无离子水。
显影时，将经过曝光的辊，在旋转条件下浸入适当大小的、其中盛有占其体积一半量显影液体的容器之中。这种涂层的抗显影过度能力良好，因此可以形成边缘笔直的抗蚀层，使此辊在显影液中旋转6分钟，然后除去显影液容器，用水洗此辊，按着在空气中干燥。
在此辊芯的裸露区域，电沉积厚度达0.1mm镍。然后使此辊芯收缩，用丙酮使此耐蚀模版剥离，从此辊芯将其拉除，于是制得了一种弹性的轮转印刷模版。通过此轮转模版上的许多小孔，油墨按照成象的图样被涂在欲加以印刷的纺织物上。
当使用正庚醛和四甘醇的聚缩醛作为可以裂解的化合物时，得到了相似的结果。
实施例2这个实施例说明，在制造高解象力印刷电路板时，用辊涂机涂布本发明的涂料溶液。为了制备固体含量为30%的涂层液，将下列物质溶解在1-甲氧基丙醇-2中实施例1的酚醛清漆64p.b.w.，聚乙烯基甲基醚(Lutonal M40)11 p.b.w.，2-乙基丁醛和己烷-1，6-二醇的聚缩醛15p.b.w.，3-甲氧基甲烷和5-氧代-7，7-二羟基-甲基-壬醇-1的聚原酸酯9.5p.b.w.，2-萘嵌戊烷基-5-基-4，6-双-三氯甲基-均三嗪0.4p.b.w.，以及结晶紫碱0.1p.b.w.，制得一种粘度大约为90mm2/S的涂层液。固体含量为40%的相应涂层液，粘度大约为200mm2/S。如果使用1-乙氧基-丙醇-2
(乙氧基丙醇EP，Deutsch BP Chemie GmbH)代替1-甲氧基丙醇-2，则40%涂层液的粘度大约为320mm2/S。
当利用辊涂器，例如AKL400型辊涂器(可以在市场上买到Messrs.Buerkle，Freuden.stadt，德意志联邦共和国的产品，这种辊涂器适于双侧涂布，备有48至64个直线形凹槽/2.5Cm的槽纹辊)，将上面配制的溶液，涂布在具有通孔的绝缘材料电镀铜
层板上时，一次涂布后，根据涂布时所使用的涂层液、槽纹辊和机器调节器，可以获得厚度大约为3-14μm的子涂层。按照所需的过程周期时间长短，适当选择1-甲氧基-丙醇-2、1-乙氧基-丙醇-2或者其混合物，也可以改变均化时间和干燥时间。采用所述的涂层液可以获得良好的均化性和干燥性能，这些性能与使用常用溶剂混合物溶解同样固体混合物时所获得的性质相当。这种常用的溶剂混合物由乙酸-β-乙氧基乙酯、二甲苯和乙酸丁酯组成，其中也可以任意含有邻氯代甲苯和对氯代甲苯混合物。
干燥后，使此版在相应有孔区域，于负原像下曝光，接着用实施例1的显影剂冲洗这些区域，在80℃温度下干燥此版10分钟，然后利用电镀法用铜加固，并且电镀锡层。接着使此光致抗蚀层在正光路原象之下曝光，并且按照上述方法显影。用碱性蚀刻剂将裸露的铜浸蚀掉(选择性电镀工艺)。
如果在某些场合下需要坚实度较小、柔韧性较高的光刻层，则使用1-甲氧基丙醇-2和2-乙基丁醇含量分别为85%和15%的溶剂混合物，代替上面采用的单一溶剂。在干燥之后，于涂层中残留有少量(不超过2%)高沸点溶剂，其作用宛如柔韧剂。加入10%3-甲氧基丁醇或者20%乙酸-3-甲氧基丁酯获得了类似的结果。作为掺入物质，也可以使用1-异丁氧基-丙醇-2(iBP，DeutscheBP-Chemie的产品)。
实施例3在静电喷涂装置上，在生产LCD元件的玻璃板(其上有一层 -锡的氧化物层)上涂布由下列物质组成的溶液实施例1的酚醛清漆1，2p.b.w.，50%聚乙烯基甲基醚的甲苯溶液10p.b.w.，4-(2-苯基-丙基-2)苯酚的1，2-萘醌-2-二
氮化物-4-磺酸酯4p.b.w.，以及由等量1-甲氧基-丙醇-2和2-甲氧基丙醇-1(Dowanol PM和Solvenon PM，BASF AG造)组成的混合物74p.b.w.。
涂布方法如下用喷涂法借助于直径为60mm、在40，000转/分转速和100仟伏直流电压下高速旋转的钟形喷料口和泵喷涂规定量的上述溶液。此钟形喷料口安装在距离涂布台30厘米处，在此涂布台上方，由接地的玻璃板导向。在上述条件下，电流小于1mA。通过在0.8-2m/分范围内改变前进速度和泵的转速(转/分)，可以使干涂层厚度达到4-10μm之间。假如希望涂层厚度大约为5μm，必要时最好通过加入较高沸点溶剂，将涂料溶液浓度调节到15%。
干燥之后，在正原像下曝光，此原像为一旋转计算器显示区域的进数输送线。然后用实施例1的溶液显影，最后用5%盐酸，从裸露区域将铟-锡氧化物除去。
实施例4按照实施例1所述的方式，使用由下列物质组成的正性光刻胶溶液，使高解象力电路图案转印到硅片上1-甲氧基-丙醇〔2〕76p.b.w.，实施例1的酚醛清漆13.6p.b.w.，1，3-双-〔2-(5-乙基-5-丁基-1，3-二氧杂环己氧基)〕-2-乙基-2-丁基丙烷6.6p.b.w.，实施例2的三嗪1.1p.b.w.，和聚乙烯基醚(Lutonal A 25)2.7p.b.w.。
在6，000转/分下，利用甩涂法涂布上述溶液，并且于循环空气干燥櫉中干燥。用这种方法制得可贮存的正性PS硅片，与以邻萘醌二
氮化物为基料的同样厚度的常用正性光致抗蚀层相比，其感光度增加几倍。使用市场上可以买到的AZ1350J光刻胶做了对比试验。AZ1350J光刻胶以邻-醌二
氮化物为基料，它广泛地用于微电子学领域之中。对比试验条件与实施例1相同，但是使用了延长曝光时间的滤光片，对比试验结果为非重氮涂层的曝光时间为3秒，重氮涂层为20秒。在使用实施例1的显影液显影1分钟的条件下，为了获得高达ITEK原象试验的大约3/2倍的良好解象力，最好采用这两种曝光时间。按照公开的欧洲专利申请书42，104和42，105所述的方法，加入聚硅氧烷和氟表面活性剂，可以避免因甩涂过程中可能形成的条纹，这种情况与使用AZ1350J光刻胶时所呈现的相同。当使用1-乙氧基丙醇-2代替1-甲氧基丙醇-2时，可以获得相似质量的涂层。
实施例5在制备用于生产影印照相凹板铜辊的正性光致抗蚀液时，搅拌下将下列物质溶解在85p.b.w.1-甲氧基丙醇-2中实施例1的酚醛清漆12p.b.w.，由95%乙酸乙烯酯和5%丁烯酸组成的共聚物1p.b.w.，由1mole 2，3，4-三羟基苯酰苯和2molel，2-萘醌-2-二
氮化物-5-磺酸氯化物缩合成的酯混合物2p.b.w.，以及结晶紫碱0.1p.b.w.。
由下列物质制备对比溶液上述酚醛清漆24p.b.w.，上述共聚物2p.b.w.，上述酯混合物4p.b.w.，结晶紫碱0.2p.b.w.，以及三氯乙烷49p.b.w.，异丙醇14p.b.w.，乙酸丁酯7p.b.w.和2-乙氧基乙醇100p.b.w.。
用喷漆枪在新镀过铜的轮转铜辊上，将此二种涂料溶液各涂在一半面积上，使涂层厚度达到4μm，然后利用热空气或者红外线辐射器使此二层干燥。检查这两个涂层，发现本发明溶液产生的涂层比另一涂层光滑得多、更均匀而且平展性也较好。然后用具有欲加以印刷图案的半色调底片进行曝光，将0.8%氢氧化钠溶液倒在慢慢旋转的辊上，以此方法使铜表面裸露呈现图象。对此两种涂层来说，这个操作步骤保持2-4分钟。然后用水漂洗此辊并且用热空气加以干燥，在操作的同时使辊进一步旋转。
在使用三氯化铁溶液蚀刻此常用的照相凹版之前，利用机械修正法由雕刻刀修整这两个欲对比的涂层部分，做出标记和附加线。就这两个涂层来说，本实验达到了可对比的良好效果，因为在干燥之后此二涂层仍然含有大约1%的残余溶剂，而在对比的那层之中主要含有毒性的2-乙氧基乙醇。
实施例6这个实施例说明的是使用本发明涂层液制造胶版印刷版。
利用辊涂法将由下列物质组成的涂层液涂布在铝基板上，涂布之前用钢丝刷将此铝基板表面的一侧打毛实施例1的酚醛清漆7p.b.w.，2-(萘-2-氧基)-5，5-二甲基-1，3-唑酮-4 2p.b.w.，2-(4-甲氧基-蒽-1-基)-4，6-双-三氯甲基-均三嗪0.4p.b.w.，和4-二乙氨基偶氮苯0.1p.b.w.，以及1-甲氧基丙醇-2 90.8p.b.w.。
此铝表面容易均匀地被此溶液湿润，而且在涂层完全干燥之前，此涂层保持其均匀特性。为了加速干燥过程，可以用仲丁醇代替1-甲氧基丙醇-2其替代量不超过15%。为了减缓干燥过程，可以用1-乙氧基丙醇-2代替全部或者部分1-甲氧基丙醇-2。
这种涂层的厚度相当于2克/米2。
干燥之后，用正原象使此板曝光，用加入氢氧化钠将PH调节到12.6的磷酸钠水溶液(3.5%)显影，用水漂洗，最后用1%磷酸擦拭，准备印刷。即使此板在显影液中放置时间比所需时间长12倍时，成像区域实际上也不致于出现缺陷。此后，这个版可以用于印刷，它很容易接受油墨。
实施例7使用与实施例1中相同的固体成分，溶解在1-乙氧基丙醇-2中，制成40%浓度的溶液，这种方法制成的溶液是一种适于在与实施例3相似的条件下(钟形喷料口距离为20厘米，高压为80仟伏)进行静电喷涂的体系。首先用3-甲氧基丁醇-1稀释此溶液，使其中固体含量调节到26%(重量)。干燥之后，涂层的重量大约为5克/米2。在例如铝或者铜支持物上，这种涂层表现出良好的平展性。
这种涂层液可以在喷涂中使用，甚至于在含有相当高固体物质的情况下都可以使用。可以同时使用高达大约5%的异丁氧基丙醇，而无需改变喷涂条件。
权利要求
1.正性辐射敏感涂层液，其中含有辐射线敏感的化合物或者辐射线敏感的化合物的组合物以及有机溶剂或者有机溶剂混合物作为基本成分，所说的溶剂混合物至少大部分由二醇醚所组成，其中所说的二醇醚是1，2-丙二醇的单-C1-C4-烷基醚，
2.权利要求
1请求保护的辐射线敏感的涂层液，其中所说的二醇醚是1，2-丙二醇的单C1或单C2烷基醚，
3.权利要求
1请求保护的辐射线敏感的涂层液，其中所说的二醇醚是1，2-丙二醇的单甲醚，
4.权利要求
2请求保护的辐射线敏感的涂层液，其中所说的二醇醚1，2-丙二醇的单甲醚，
5.权利要求
1至4请求保护的辐射线敏感的涂层液，其中还含有高分子粘合剂，所说的粘合剂不溶于水，但却溶于碱性水溶液中，
6.权利要求
1至4中请求保护的辐射线敏感的涂层液，其中所含的光敏化合物是1，2-萘醌-2-二
氮化物，
7.权利要求
1至4中请求保护的辐射线敏感的涂层液，其中所含的辐射线敏感的化合物的组合物是由a)至少具有一个可以被酸裂解的C-O-C键的化合物，以及b)辐射线能使之形成强酸的化合物所组成。
8.权利要求
5中请求保护的辐射线敏感的涂层液，其中所说的高分子粘合剂是酚醛清漆。
9.权利要求
1至4中请求保护的辐射线敏感的涂层液，其中65%至100%的溶剂或者溶剂混合物，分别由1，2-丙二醇单C1烷基醚至单C4烷基醚所构成。
10.权利要求
9中请求保护的辐射线敏感的涂层液，其中65%至100%的溶剂或者溶剂混合物，分别由1，2-丙二醇单甲基醚和(或者)1，2-丙二醇单乙基醚所构成。
专利摘要
本发明描述了一种正性辐射线敏感的涂层液，其中含有辐射线敏感的化合物(例如，1，2-萘醌二氮化物)或者辐射线敏感的化合物的组合物(例如由至少具有一个可以被酸裂解的C-O-C键的化合物，与辐射线能使之形成强酸的化合物组成的)，以及有机溶剂或者有机溶剂混合物作为基本成分。所说的溶剂混合物，至少大部分是由1，2-丙二醇的单C
文档编号G03C1/49GK85105070SQ85105070
公开日1986年12月31日 申请日期1985年7月3日
发明者汉斯·鲁克特, 拉尔夫·奥兰马克 申请人:赫彻斯特股份公司导出引文BiBTeX, EndNote, RefMan