专利名称：全息窄带带阻滤光片及其制作工艺的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种滤光片。
现有技术中，窄带带阻滤光片在光谱学研究，特别是喇曼光谱的研究中有重要的应用。它的主要特征是在一定的光谱波段中滤去某一波长以及附近小范围内的谱线，而使其他波长的光以尽可能高的透过率透过。它的主要光学性能指标以中心波长的光学密度和波长与透过率关系的半宽度表示。在窄带带阻滤光片的许多应用中，特别是在喇曼光谱的研究中，光学密度越高，半宽度越窄，则它的性能越优良。通常情况下，该滤光片的性能要求是光学密度大于4D，半宽度小于25纳米。带阻滤光片的制作方法有许多种，主要有染料吸收、多层介质镀膜(干涉滤光片)和反射全息滤光片，其中染料吸收型的很难达到窄带带阻滤光片要求，而干涉滤光片很难达到高光学密度，通常在窄带宽下(20nm)的光学密度为2D，另一方面干涉滤光片制作成本相对比较高昂。
在反射全息滤光片中，利用反射衍射光即是带通滤光片，利用透射光即是带阻滤光片。反射全息滤光片的应用也体现在带通和带阻两方面。已有的窄带带通滤光片的衍射效率在50％至90％之间，其透射光不能满足高光学密度的要求，并且衍射效率随波长的变化曲线常有波瓣出现，影响滤波性能；宽带带通滤光片的透射光显然不适合窄带带阻滤光片的要求，并且其制作技术与窄带带阻滤光片的情况有很大的不同；全息激光防护镜是与窄带带阻滤光片较接近的一种，但激光防护镜一般有防护角要求，特性曲线的半宽度常在35nm以上；其他的一些反射全息元件(如全息平视显示装置、夜视仪中的全息光耦合器等)中人们所关心的是光学成象性能，特殊的光谱特性往往不在制作工艺中加以考虑。
一定的反射特性曲线与全息记录介质的折射率调制的分布有关，而折射率调制的分布又与反射全息的制作工艺有关。最早的体全息理论——均匀介质耦合波理论与实验结果有较大差异，而且按此理论不可能得到窄带带阻滤光片。目前已在理论和工艺上开展有效工作的有T.Kubota(参见T.Kubota，Controlof the reconstruction wavelength of Lippmann holograms recorded indichromated gelatin，Appl.Opt.1989，28(10)1845～1894)对均匀介质耦合波理论与实验结果不符进行了较成功的解释，他认为在介质内部折射率调制度和条纹密度的分布是不均匀的，他利用非均匀介质的耦合波方程推导出了有关衍射效率的Recatti方程，在假定非均匀模型的基础上，对方程进行数值解得到了与实验结果基本相符的衍射效率理论结果。P.G.Boj(参见P.G.Boj，J.Crespo，and J.A.Quintana，Broadband reflection holograms in dichromatedgelatin，Appl.Opt.，1992，31(17)3302～3305)利用Kubota的方法建立了他们自己的模型，分析了他们的宽带反射全息的实验结果，利用电子显微镜拍摄的照片证实了记录介质内部的非均匀性，这是一种宽带反射全息元件，不适合本发明要求的窄带带阻滤光片。Dahe Liu等(参见Daho Liu，Jing Zhou，Nonlinear analysis for reflection hologram，Optics Communication，1994，107471～479)也建立了一种特殊非均匀模型，并且分析了他们的工艺制作的实验结果，这是一种窄带反射带通滤光片，其缺陷是光学密度较低。由于重铬酸明胶处理工艺的复杂性，不同实验室得出的实验结果各有不同，非均匀模型也各不相同。
本发明的目的在于提供一种光学密度大于4D、带宽小于20纳米的全息窄带带阻滤光片及其制作工艺。
本发明的技术方案是一种全息窄带带阻滤光片，玻璃基片上涂敷有一层介质层，该介质层为记录了平行于介质层表面的干涉条纹的重铬酸明胶层，所述的重铬酸明胶层上涂敷有环氧树脂层，所述的环氧树脂层上粘结固定有封片玻璃，由重铬酸明胶层制成的反射全息衍射层的折射率调制度n1(z)、折射率变化空间频率的改变G(z)按下列公式分布n1(z)=n1[(1-p)(zT)r+p]]]>G(z)=G0-ΔG(zT)s]]>其中T为介质层厚度，z轴与介质层法向平行，在介质层与玻璃基片的界面处取z＝0，在介质层与环氧树脂层的界面处取z＝T，n1是z＝T时的折射率调制度，p是z＝0时的折射率调制度与n1之比，G0是z＝0时的空频相对于平均空频的变化，ΔG是空频相对平均空频的最大变化量；r和s分别表示n1(z)和G(z)随z变化的幂次。
为了达到上述的由重铬酸明胶层制成的反射全息衍射层的折射率调制度n1(z)、折射率变化空间频率的改变G(z)按所述的公式分布，所述的全息窄带带阻滤光片的制作工艺包括下列步骤(1)、制备重铬酸明胶液；(2)、在玻璃基片[2]上涂布感光液，流平后在摄氏温度15-25度的条件下干燥，形成介质层；(3)、在暗室条件下，对介质层进行全息记录A调节两束相干光的光强比，使两束光强在重铬酸明胶与空气接触表面的光强比为1；B在所述的重铬酸明胶层上过曝光，曝光量为每平方厘米100-250毫焦；(4)、在暗室中对重铬酸明胶层进行定影坚膜和显影；(5)、将脱水后的介质层迅速用热风吹干；(6)、用环氧树脂将封片玻璃层胶合于重铬酸明胶之上，使所述的重铬酸明胶层与空气隔离。
本发明利用类似于Kubota的理论方法设计出了反射全息记录介质内的折射率调制度分布，利用重铬酸明胶全息记录材料为实现该分布而发明了与之相适应的处理工艺，此发明具有以下优点(1)本发明设计的折射率调制层的折射率调制度分布可消除光谱特性曲线的波瓣效应，用本发明的工艺相匹配，按此分布规律制成的窄带带阻滤光片的半宽度在10nm以下，光密度可达6D以上。
(2)与本发明设计的分布相适应的处理工艺简便易行，成功率较高，控制峰值波长准确。
下面结合附图及实施例对本发明作进一步的描述附
图1为本发明的产品结构剖视图；其中[1]、重铬酸明胶层；[2]、玻璃基片；[3]、环氧树脂层；[4]、封片玻璃；附图2为全息滤光片的记录光路图；附图3为反射全息的测量光路图；附图4为T＝20μm时的衍射效率实验曲线和相应的理论曲线，其中的实线是实验曲线，虚线是理论曲线；附图5为T＝30μm时的衍射效率实验曲线和相应的理论曲线，其中的实线是实验曲线，虚线是理论曲线；附图6为T＝40μm时的衍射效率实验曲线和相应的理论曲线，其中的实线是实验曲线，虚线是理论曲线；附图7给出了p＝1的衍射效率曲线；附图8给出了p＝0.5的衍射效率曲线；附图9给出了p＝0.1的衍射效率曲线；附图10给出了峰值衍射效率η与胶层厚度T的关系图；附图11给出了峰值衍射效率η与最大折射率调制度n1的关系图；附图12给出了半宽度Δλh与胶层厚度T的关系图；附图13给出了半宽度Δλh与最大折射率调制度n1的关系图；附图14给出了r＝1时的等η线(η＝0.9999)和等Δλh线(Δλh＝20nm)关系图；附图15给出了r＝2时的等η线(η＝0.9999)和等Δλh线(Δλh＝20nm)关系图；附图16给出了r＝3时的等η线(η＝0.9999)和等Δλh线(Δλh＝20nm)关系图；附图17给出了折射率调制度分布和条纹密度分布设计的实施例一的特性曲线；附图18给出了折射率调制度分布和条纹密度分布设计的实施例二的特性曲线；实施例参见附图1，一种全息窄带带阻滤光片，玻璃基片[2]上涂敷有一层介质层，该介质层为记录了平行于介质层表面的干涉条纹的重铬酸明胶层[1]，所述的重铬酸明胶层[1]上涂敷有环氧树脂层[3]，所述的环氧树脂层[3]上粘结固定有封片玻璃[4]，由重铬酸明胶层[1]制成的反射全息衍射层的折射率调制度n1(z)、折射率变化空间频率的改变G(z)按下列公式分布n1(z)=n1[(1-p)(zT)r+p]]]>G(z)=G0-ΔG(zT)s]]>其中T为介质层厚度，z轴与介质层法向平行，在介质层与玻璃基片[2]的界面处取z＝0，在介质层与环氧树脂层[3]的界面处取z＝T，n1是z＝T时的折射率调制度，p是z＝0时的折射率调制度与n1之比，G0是z＝0时的空频相对于平均空频的变化，ΔG是空频相对平均空频的最大变化量；r和s分别表示n1(z)和G(z)随z变化的幂次。
为了满足所述的折射率调制度n1(z)、折射率变化空间频率的改变G(z)按上述的公式分布，全息窄带带阻滤光片的制作工艺包括下列步骤(1)、制备重铬酸明胶液A将明胶放入去离子水中浸泡，直至明胶完全吸水膨胀；B在摄氏温度70-80度的条件下搅拌明胶，直至完全溶解形成明胶液；C在摄氏温度49-51度的明胶液内加入重铬酸铵溶液，制成重铬酸明胶感光液；D用0.2微米孔径的过滤器过滤所述的感光液，并消除所述的感光液内的气泡；(2)、将摄氏温度65-75度的玻璃基片[2]放置于水平平台上，再将所述的感光液倒在玻璃基片[2]上，涂匀、自然流平后在摄氏温度15-25度的条件下干燥，形成介质层；(3)、在暗室条件下，对介质层进行全息记录A调节两束相干光的光强比，使两束光强在重铬酸明胶与空气接触表面的光强比为1；B在所述的重铬酸明胶层上过量曝光，曝光量为每平方厘米100-250毫焦；(4)、在暗室中对重铬酸明胶层进行定影和显影；(5)、将脱水后的介质层热风吹干；(6)、用环氧树脂将封片玻璃层[4]胶合于重铬酸明胶之上，使所述的重铬酸明胶层与空气隔离。
所述的在暗室中对重铬酸明胶层进行定影和显影的工艺包括A用摄氏温度15-25度的水冲洗所述的介质层，然后在去离子水中冲洗所述的介质层；B定影坚膜将所述的介质层浸入F5定影液中坚膜1-5分钟，再用温度15-25度的水冲洗；C第一次显影所述的介质层浸入浓度为50％、摄氏温度为23-27度的异丙醇内，脱水2-5分钟；D第二次显影所述的介质层浸入浓度为70％、摄氏温度为23-27度的异丙醇内，脱水25分钟；E第三次显影所述的介质层浸入浓度为90-100％、摄氏温度为23-27度的异丙醇内，脱水2-5分钟。
所述的明胶液的浓度为每100毫升去离子水中含有5-6克明胶；所述的每100毫升明胶液中加入14-17毫升浓度为5％的重铬酸按溶液。
参见附图2的对介质层进行全息记录光路图，其中B.S.为分束镜，M1和M2是反射镜，SF1和SF2是空间滤波器，L1和L2为准直透镜，DCG为重铬酸明胶记录干板。记录激光是氩离子激光器的488nm的激光，干涉条纹平行于介质表面。
反射全息的测量光路如图3所示，整个光路置于一旋转光具座上。白光点光源S经透镜L3准直后入射至测试元件HOE，HOE放置在旋转光具座的转轴上，衍射光经L4会聚至积分球IS的入射窗口，积分球IS的另一个窗口接单色仪M和光电倍增管PMT，放大器A放大光电倍增管信号，计算机C控制单色仪M扫描和通过A/D板接收放大器A输出的信号。测量时，先将HOE移去，使光具座的两臂成一条直线，测试光源的光谱信号，然后再按图3测量衍射信号。计算机将衍射信号与光源信号比较后得到衍射效率随波长的变化曲线。此光路中采用积分球是为了减少两次信号测量中由于光路不同而带来的误差。
设T为介质厚度，z轴与介质法向平行，在明胶与玻璃的界面处取z＝0，在明胶与空气的界面处取z＝T。由实验结果可得到折射率调制度n1(z)随z单调增加；空频的相对变化量G(z)＝[f(z)-f0]/f0随z单调减小，其中f0为平均空间频率，f(z)为z处的空频。文献[1](T.Kubota，Control of the reconstructionwavelength of Lippmann holograms recorded in dichromated gelatin，Appl.Opt.1989，28(10)1845～1894)和文献[2](P.G.Boj，J.Crespo，and J.A.Quintana，Broadband reflection holograms in dichromated gelatin，Appl.Opt.，1992，31(17)3302～3305)得出n1(z)的二阶导数小于零，即曲线向下凹。而本发明的理论与实验分析结果却是n1(z)的二阶导数大于零，即曲线向上凹。根据以上要点可得下列非均匀模型(1)---n1(z)=n1[(1-p)(zT)r+p]]]>(2)---G(z)=G0-ΔG(zT)s]]>其中n1是z＝T面的折射率调制度，p是z＝0面的折射率调制度与n1之比；G0是z＝0面上的空频相对于平均空频的变化，ΔG是空频相对平均空频的最大变化量；r和s分别表示n1(z)和G(z)随z变化的幂次，反映介质的非均匀特性，它们与介质层厚度和处理工艺有关。
附图4、附图5、附图6分别给出了T＝20μm、30μm和40μm的衍射效率实验曲线和相应的理论曲线，附图4、附图5、附图6中的λ是以纳米为单位的入射光波长，η为衍射效率，图中的实线是实验曲线，虚线是理论曲线。由于玻璃和明胶的反射、吸收、散射对衍射效率有影响，所以理论计算时应按实验曲线对理论衍射效率进行按比例修正。上述(1)式和上述(2)式的参数分别取为附图4n1＝0.043，p＝0.15，G0＝0.008，ΔG＝0.01，r＝2，s＝1；附图5n1＝0.043，p＝0.05，G0＝0.008，ΔG＝0.01，r＝3，s＝1；附图6，n1＝0.045，p＝0.05，G0＝0.008，ΔG＝0.01，r＝3，s＝1。
从以上曲线看出理论曲线基本无次峰，与实验曲线吻合较好，并且从所选的参数看折射率调制度在介质内的衰减较快，而且介质越厚衰减越快，即T越大，r也相应增大，介质中对衍射效率贡献较大的仅在介质表面。在窄带反射全息的情况下曲线基本对称，条纹密度的变化很小。
窄带带阻滤光片的主要特性是低峰值透过率和窄带宽，在理论计算时从互补性原理可从衍射效率得出峰值透过率。以下从理论上分析带宽、衍射效率与介质非均匀性的关系。
(1)衍射效率曲线的波瓣。附图7、附图8、附图9分别给出了p＝1、P＝0.5、P＝0.1的衍射效率曲线，其中，n1＝0.03，T＝20μm，G0＝0，ΔG＝0，r＝1，附图7、附图8、附图9中的λ是以纳米为单位的入射光波长，η衍射效率，从附图看出p减小时波瓣减小，p＝0.1时波瓣基本消失，而p＝0.1也与实验曲线基本吻合，所以以下理论计算中以p＝0.1为典型值。在其他r值下，也有类似结果。
在以下计算(2)至(4)中，取附图4、附图5、附图6的实验曲线的典型值G0＝0、ΔG＝0和p＝0.1。
(2)峰值衍射效率。峰值衍射效率η与重铬酸明胶层厚度T(单位μm)和最大折射率调制度n1的关系分别如附图10和附图11所示，r为n1(z)随z变化的幂次。显然，η与T和n1的关系是单调递增关系，并且在其他条件相同的条件下，r越大，η越小。
(3)衍射效率曲线的半宽度，参见附图12和附图13。半宽度Δλh与重铬酸明胶层厚度T(单位μm)和最大折射率调制度n1的关系如附图12和附图13所示，附图中的r为n1(z)随z变化的幂次。附图12中显示了Δλh(单位nm)随T的变化关系，虽然这一关系不是严格的单调关系，但在单调区间内的半宽度变化不大，总体上可以看成是单调递增。特别应指出的是这里非均匀介质和均匀介质有很大不同，r＝0时Δλh随T单调递减，而r＞0时Δλh随T递增。附图13显示Δλh随n1单调递增，并随r的增大而减小。
(4)衍射效率与带宽，参见附图14、附图15、附图16，半宽度为Δλh，重铬酸明胶层厚度为T(单位μm)，最大折射率调制度为n1，峰值衍射效率为η，有意义的理论分析是比较同一峰值衍射效率下的半宽度Δλh(单位nm)或同一半宽度下的峰值衍射效率η。附图14、附图15、附图16分别给出了r＝1、2、3情况下的等η线(η＝0.9999)和等Δλh线(Δλh＝20nm)，其中的r为n1(z)随z变化的幂次。显然由以上(2)和(3)分析得到的单调性可知，n1和T在等η线上方取值时，衍射效率均大于0.9999，在等Δλh线下方取值半宽度均小于20nm，在此两条线之间取值将能同时满足峰值透过率小于10-4和半宽度小于20nm。比较附图14、附图15、附图16三组曲线看出，r越小，两条线交点所对应的T越小，两条线包围的面积越大。
由以上实验曲线和理论模型可知，提高窄带滤光片性能不能仅从增加重铬酸明胶层厚度考虑，厚度的增加并不一定能提高滤光片性能，而且增加胶厚会给涂布和处理带来困难。如果工艺上能使胶层的r值较小，那么就能在较小的厚度下获得高效率窄带宽的滤光片。
以下是几个折射率调制度分布和条纹密度分布设计的例子实施例一取n1＝0.016，p＝0.1，r＝1，T＝80μm，G0＝0，ΔG＝0，λ是以纳米为单位的入射光波长，峰值衍射效率为η，得到的光学密度大于6D，半宽度小于9nm，理论特性曲线见附图17。
实施例二取n1＝0.037，p＝0.1，r＝3，T＝50μm，G0＝0，ΔG＝0，λ是以纳米为单位的入射光波长，峰值衍射效率为η，得到的光学密度大于4D，半宽度小于20nm，理论特性曲线见附图18，实验所得到的特性曲线与理论特性曲线基本吻合。
由以上分布设计可知，实现窄带带阻滤光片光学性能的关键是如何在工艺上实现折射率调制度按设计要求的非均匀分布。后处理后的重铬酸明胶折射率调制度分布与许多因素有关，这些因素主要有重铬酸明胶的预硬化程度，重铬酸明胶中记录的干涉条纹的对比度分布，重铬酸明胶的曝光量，重铬酸明胶的后处理。其中的重铬酸明胶预硬化和后处理又与诸多因素有关。由于重铬酸明胶的备制和后处理的多因素相互关联的复杂性，重铬酸明胶全息光学元件的制作很难在一定的工艺条件下得到性能完全一致的光学元件，只有通过不断调整工艺参数才能完成批量的元件制作。本发明认为以下几个因素是制作窄带带阻滤光片的关键因素(1)涂布温度与预硬化。重铬酸明胶的预硬化与重铬酸明胶涂布时的干燥温度有密切的关系，一般干燥温度越低重铬酸明胶的硬化程度越高，如以后的曝光和处理条件相同，那么明胶的折射率调制度越小。与重铬酸明胶的其他预硬化方法相比，如曝光前烘烤和预曝光，控制干燥温度更为有效、便捷和具有较好的重复性。一定的重铬酸明胶的预硬化程度与后面的其他工艺配合能有效的控制折射率调制度的非均匀分布情况，在理论设计中的r值与预硬化有相当大的关系。
(2)条纹对比度的控制。由以上理论设计可知，在明胶表面折射率调制度最高，虽然这一现象有许多因素引起，但曝光时干涉条纹的对比度对此有较大影响。在本发明中，按重铬酸明胶对所采用激光的透过率，控制附图2所示光路中两束相干光的光强比，使重铬酸明胶与空气接触表面的光强比为1。
(3)曝光量的控制。曝光量与明胶后处理前的硬化和最终的折射率调制度有关，也是控制折射率调制度非均匀性的重要方面。本发明中采用比按灵敏度计算的通常曝光量大2至3倍的大曝光量方法作为一个因素来控制非均匀性。
(4)预硬化和定影坚膜的相互协调控制。用F5定影液坚膜明胶能有效地控制折射率调制度和折射率调制度的非均匀性，这一坚膜作用与重铬酸明胶的预硬化有关。这两者之间的协调除与折射率调制度n1有关外，重要的是与理论关系式中的p有关，所以后处理和预硬化的协调控制也是制作窄带带阻滤光片的重要因素。
(5)在理论关系式中的折射率分布的空间频率变化部分对滤光片的性能影响比较小，这一变化往往影响的是特性曲线的对称性和使峰值波长略有变化，对称性对滤光片的性能影响不大，峰值波长的变化可通过光路矫正。对折射率分布的空频变化本发明中未有工艺控制。
将附图1所示的两块峰值波长差为0至2纳米、半宽度差为0至3纳米的窄带带阻滤光片明胶面相对胶合，可得到性能更好的窄带带阻滤光片。
权利要求
1.一种全息窄带带阻滤光片，玻璃基片[2]上涂敷有一层介质层，该介质层为记录了平行于介质层表面的干涉条纹的重铬酸明胶层[1]，所述的重铬酸明胶层[1]上涂敷有环氧树脂层[3]，所述的环氧树脂层[3]上粘结固定有封片玻璃[4]，其特征在于由重铬酸明胶层[1]制成的反射全息衍射层的折射率调制度n1(z)、折射率变化空间频率的改变G(z)按下列公式分布n1(z)=n1[(1-p)(zT)r+p]]]>G(z)=G0-ΔG(zT)s]]>其中T为介质层厚度，z轴与介质层法向平行，在介质层与玻璃基片[2]的界面处取z＝0，在介质层与环氧树脂层[3]的界面处取z＝T，n1是z＝T时的折射率调制度，p是z＝0时的折射率调制度与n1之比，G0是z＝0时的空频相对于平均空频的变化，ΔG是空频相对平均空频的最大变化量；r和s分别表示n1(z)和G(z)随z变化的幂次。
2.根据权利要求1所述的全息窄带带阻滤光片，其特征在于将两块峰值波长差为0至2纳米、半宽度差为0至3纳米的全息窄带带阻滤光片明胶面相对胶合。
3.一种用于全息窄带带阻滤光片的制作工艺，其特征在于它包括下列步骤(1)、制备用作感光液的重铬酸明胶液；(2)、将所述的感光液涂布于玻璃基片[2]上，流平后在摄氏温度15-25度的条件下干燥，形成介质层；(3)、在暗室条件下，对介质层进行全息记录A调节两束相干光的光强比，使两束光强在重铬酸明胶与空气接触表面的光强比为1；B在所述的重铬酸明胶层上过量曝光，曝光量为每平方厘米100-250毫焦；(4)、在暗室中对重铬酸明胶层进行定影坚膜和显影；(5)、将脱水后的介质层热风吹干(6)、用环氧树脂将封片玻璃层[4]胶合于重铬酸明胶之上，使所述的重铬酸明胶层与空气隔离。
4.根据权利要求3所述的全息窄带带阻滤光片的制作工艺，其特征在于在暗室中对重铬酸明胶层进行定影坚膜和显影的工艺包括A用摄氏温度15-25度的水冲洗所述的介质层，然后在去离子水中冲洗所述的介质层；B定影坚膜将所述的介质层浸入F5定影液中坚膜1-5分钟，再用温度15-25度的水冲洗；C第一次显影所述的介质层浸入浓度为50％、摄氏温度为23-27度的异丙醇内，脱水2-5分钟；D第二次显影所述的介质层浸入浓度为70％、摄氏温度为23-27度的异丙醇内，脱水2-5分钟；E第三次显影所述的介质层浸入浓度为90-100％、摄氏温度为23-27度的异丙醇内，脱水2-5分钟。
5.根据权利要求3所述的全息窄带带阻滤光片的制作工艺，其特征在于制备重铬酸明胶液包括如下步骤A将明胶放入去离子水中浸泡，直至明胶完全吸水膨胀；B在摄氏温度70-80度的条件下搅拌明胶，直至完全溶解形成明胶液；C在摄氏温度49-51度的明胶液内加入重铬酸铵溶液，制成重铬酸明胶感光液；D用0.2微米孔径的过滤器过滤所述的感光液，并消除所述的感光液内的气泡；
6.根据权利要求5所述的全息窄带带阻滤光片的制作工艺，其特征在于所述的明胶液的浓度为每100毫升去离子水中含有5-6克明胶；所述的每100毫升明胶液中加入14-17毫升浓度为5％的重铬酸按溶液。
7.根据权利要求3所述的全息窄带带阻滤光片的制作工艺，其特征在于在将所述的感光液涂布于所述的玻璃基片[2]工序中，把玻璃基片[2]加温至摄氏温度65-75度后放置于水平平台上，再将所述的感光液倒在玻璃基片[2]上，涂匀、自然流平。
全文摘要
本发明涉及一种全息窄带带阻滤光片,玻璃基片(2)上涂敷有一层介质层,该介质层为带有反射全息衍射层的重铬酸明胶层(1),所述的重铬酸明胶层(1)上涂敷有环氧树脂层(3),所述的环氧树脂层(3)上粘结固定有封片玻璃(4),其特征在于:由重铬酸明胶层(1)制成的反射全息衍射层的折射率调制度n1(z)、折射率变化空间频率的改变G(z)按公式分布,按此分布规律制成的窄带带阻滤光片的半宽度在10nm以下,光密度可达6D以上。
文档编号G02B5/26GK1252529SQ9911687
公开日2000年5月10日 申请日期1999年9月13日 优先权日1999年9月13日
发明者吴建宏, 唐敏学, 陈林森, 游善红, 徐颖 申请人:苏州大学