述基板3的翘曲情况控制各个真空吸附装置2分别升起相应的高度，以适应基板3各处的翘曲量，由各个真空吸附装置2承接基板3，并使各个真空吸盘22与基板3保持在能够顺利进行真空吸附的范围内；然后开启真空压力，使所述基板3各处分别吸附在各个真空吸盘22上；接下来控制所述数个真空吸附装置2升降至同一高度，使所述基板3平整化；最后控制所述数个真空吸附装置2同时下降，使其完全进入相应的阶梯孔11，使平整化的基板3完整的吸附在所述载台本体I上。由此可见，本发明的吸附式载台，通过设置数个能够相对于载台本体I进行升降的真空吸附装置2，且每一真空吸附装置2的升降高度独立受控，保证了在遇到不规则翘曲的基板3时，该吸附式载台能够使真空吸附顺利进行，将基板3完整地吸附于载台上，确保基板3相对载台完全固定的同时，还能够使基板3各处平整贴附于载台上，保证基板3的平面度，避免基板3翘曲对其它光制程及成膜制程产生的不良影响，保障制程生产顺利进行。
[0051]请参阅图2，本发明还提供一种吸附式载台的吸附方法，包括如下步骤:
[0052]步骤1、如图3所示，提供吸附式载台、及基板3，将所述基板3置于所述吸附式载台上。
[0053]所述吸附式载台包括载台本体1、及数个能够相对于所述载台本体I进行升降的真空吸附装置2。
[0054]所述载台本体I内设有数个贯穿的阶梯孔11。
[0055]每一真空吸附装置2对应设于一所述阶梯孔11内，且每一真空吸附装置2独立受控，能够沿其所在的阶梯孔11的轴向进行升降，从而数个真空吸附装置2相对于所述载台本体I能够处于不同的高度。
[0056]每一真空吸附装置2包括一中空的支撑杆21、及固设于所述支撑杆21顶部的真空吸盘22 ;所述支撑杆21的内部设有与真空压力相连接的真空管路211。
[0057]步骤2、如图4所示，根据所述基板3的翘曲情况控制各个真空吸附装置2分别升起相应的高度，以适应基板3各处的翘曲量，由各个真空吸附装置2承接所述基板3，并使各个真空吸盘22与基板3保持在能够顺利进行真空吸附的范围内。
[0058]具体的，可以根据同批次基板3的翘曲情况来设定对应于基板3各个位置处的真空吸附装置2分别升起的高度，以适应基板3各处的翘曲量。
[0059]每一真空吸附装置2的支撑杆21连接一个伺服步进电机；通过该伺服步进电机精确控制与其连接的相应支撑杆21的位移量，使相应的真空吸附装置2沿其所在的阶梯孔11的轴向进行升降。
[0060]步骤3、开启真空压力，使所述基板3各处分别吸附在各个真空吸盘22上。
[0061]优选的，所述真空吸盘22为由丁腈橡胶或硅橡胶制成且具有波纹管结构，可根据基板3翘曲产生的斜度自由活动，保证所述真空吸盘22与基板3良好贴合，更有助于该步骤3中真空吸附的顺利进行。
[0062]步骤4、如图5所示，控制所述数个真空吸附装置2升降至同一高度，使所述基板3
平整化。
[0063]步骤5、如图6所示，控制所述数个真空吸附装置2同时下降，使其完全进入相应的阶梯孔11，使平整化的基板3完整的吸附在所述载台本体I上。
[0064]上述吸附式载台的吸附方法，通过控制各个真空吸附装置2分别升起相应的高度，以适应基板3各处的翘曲量，使真空吸附顺利进行，再通过控制数个真空吸附装置2升降至同一高度，使基板3平整化，最后将平整化的基板3完整的吸附在载台本体I上，适用于吸附不规则翘曲基板，在确保基板3相对载台完全固定的同时，还能够使基板3各处平整贴附于载台上，保证基板3的平面度，避免基板3翘曲对其它光制程及成膜制程产生的不良影响，保障制程生产顺利进行。
[0065]综上所述，本发明的吸附式载台，通过设置数个能够相对于载台本体进行升降的真空吸附装置，且每一真空吸附装置的升降高度独立受控，保证了在遇到不规则翘曲的基板时，该吸附式载台能够使真空吸附顺利进行，将基板完整地吸附于载台上，确保基板相对载台完全固定的同时，还能够使基板各处平整贴附于载台上，保证基板的平面度，避免基板翘曲对制程产生的不良影响，保障制程生产顺利进行。本发明的吸附式载台的吸附方法，通过控制各个真空吸附装置分别升起相应的高度，以适应基板各处的翘曲量，使真空吸附顺利进行，再通过控制数个真空吸附装置升降至同一高度，使基板平整化，最后将平整化的基板完整的吸附在载台本体上，适用于吸附不规则翘曲基板，在确保基板相对载台完全固定的同时，还能够使基板各处平整贴附于载台上，保证基板的平面度，避免基板翘曲对制程产生的不良影响，保障制程生产顺利进行。
[0066]以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
【主权项】
1.一种吸附式载台，其特征在于，包括载台本体(I)、及数个能够相对于所述载台本体(I)进行升降的真空吸附装置(2); 所述载台本体⑴用于承载基板(3)，该载台本体⑴内设有数个贯穿的阶梯孔(11);每一真空吸附装置(2)包括一中空的支撑杆(21)、及固设于所述支撑杆(21)顶部的真空吸盘(22);所述支撑杆(21)的内部设有与真空压力相连接的真空管路(211)； 每一真空吸附装置(2)对应设于一所述阶梯孔(11)内，且每一真空吸附装置(2)独立受控，能够沿其所在的阶梯孔(11)的轴向进行升降，从而数个真空吸附装置(2)相对于所述载台本体(I)能够处于不同的高度。
2.如权利要求1所述的吸附式载台，其特征在于，所述阶梯孔(11)包括凹陷于所述载台本体(I)上表面的沉孔(111)、及连接所述沉孔(111)的直孔(112); 所述沉孔(111)用于容纳所述真空吸盘(22)，其形状、尺寸与所述真空吸盘(22)的形状、尺寸相适应；所述直孔(112)用于供支撑杆(21)穿过，其形状、尺寸与所述支撑杆(21)的形状、尺寸相适应。
3.如权利要求1所述的吸附式载台，其特征在于，所述真空吸盘(22)内设有通孔(221)，所述真空管路(211)与所述通孔(221)连通。
4.如权利要求1所述的吸附式载台，其特征在于，通过电磁阀控制所述真空压力的开启或关闭。
5.如权利要求1所述的吸附式载台，其特征在于，每一真空吸附装置(2)的支撑杆(21)连接一个伺服步进电机；通过该伺服步进电机精确控制与其连接的相应支撑杆(21)的位移量，使相应的真空吸附装置(2)沿其所在的阶梯孔(11)的轴向进行升降。
6.如权利要求1所述的吸附式载台，其特征在于，所述真空吸盘(22)的材料为丁腈橡胶或硅橡胶；所述真空吸盘(22)具有波纹管结构。
7.一种吸附式载台的吸附方法，其特征在于，包括如下步骤: 步骤1、提供吸附式载台、及基板(3)，将所述基板(3)置于所述吸附式载台上； 所述吸附式载台包括载台本体(I)、及数个能够相对于所述载台本体(I)进行升降的真空吸附装置(2); 所述载台本体(I)内设有数个贯穿的阶梯孔(11); 每一真空吸附装置(2)包括一中空的支撑杆(21)、及固设于所述支撑杆(21)顶部的真空吸盘(22);所述支撑杆(21)的内部设有与真空压力相连接的真空管路(211)； 每一真空吸附装置(2)对应设于一所述阶梯孔(11)内，且每一真空吸附装置(2)独立受控，能够沿其所在的阶梯孔(11)的轴向进行升降，从而数个真空吸附装置(2)相对于所述载台本体(I)能够处于不同的高度； 步骤2、根据所述基板(3)的翘曲情况控制各个真空吸附装置(2)分别升起相应的高度，以适应基板(3)各处的翘曲量，由各个真空吸附装置(2)承接所述基板(3)，并使各个真空吸盘(22)与基板(3)保持在能够顺利进行真空吸附的范围内； 步骤3、开启真空压力，使所述基板(3)各处分别吸附在各个真空吸盘(22)上； 步骤4、控制所述数个真空吸附装置(2)升降至同一高度，使所述基板(3)平整化；步骤5、控制所述数个真空吸附装置(2)同时下降，使其完全进入相应的阶梯孔(11)，使平整化的基板(3)完整的吸附在所述载台本体(I)上。
8.如权利要求7所述的吸附式载台的吸附方法，其特征在于，每一真空吸附装置(2)的支撑杆(21)连接一个伺服步进电机；通过该伺服步进电机精确控制与其连接的相应支撑杆(21)的位移量，使相应的真空吸附装置(2)沿其所在的阶梯孔(11)的轴向进行升降。
9.如权利要求7所述的吸附式载台的吸附方法，其特征在于，通过电磁阀控制所述真空压力的开启或关闭。
10.如权利要求7所述的吸附式载台的吸附方法，其特征在于，所述真空吸盘(22)的材料为丁腈橡胶或硅橡胶，所述真空吸盘(22)具有波纹管结构。
【专利摘要】本发明提供一种吸附式载台及其吸附方法。该吸附式载台包括载台本体(1)、及数个能够相对于所述载台本体(1)进行升降的真空吸附装置(2)；所述载台本体(1)用于承载基板(3)，该载台本体(1)内设有数个贯穿的阶梯孔(11)；每一真空吸附装置(2)包括一中空的支撑杆(21)、及固设于所述支撑杆(21)顶部的真空吸盘(22)；所述支撑杆(21)的内部设有与真空压力相连接的真空管路(211)；每一真空吸附装置(2)对应设于一所述阶梯孔(11)内，且每一真空吸附装置(2)独立受控，能够沿其所在的阶梯孔(11)的轴向进行升降，从而数个真空吸附装置(2)相对于所述载台本体(1)能够处于不同的高度。
【IPC分类】B25H1-00, H01L21-683, G02F1-13
【公开号】CN104570419
【申请号】CN201410837322
【发明人】王松, 李春良
【申请人】深圳市华星光电技术有限公司
【公开日】2015年4月29日
【申请日】2014年12月26日