，加入光引 发剂1?4份、阻聚剂0. 1?1份、溶剂20?50份，混合制成低折射率UV涂料，调节其折 射率为1. 4?1. 45 ;
[0047] C、基材涂布通过调节涂料的固含量与湿膜厚度，控制涂层厚度。在PET基材13 (光 学保护膜）表面涂布一层高折射率UV涂料，使涂料胶液固化，得到高折射率UV胶涂层12 ; 再涂布一层低折射率UV涂料，得到低折射率UV胶涂层（11)。控制厚度在1/4可见光波长。 调节涂料的固含量为5?10%，线数调节为100?300LPI，涂布车速10m/min。
[0048] D、涂布硅胶，贴合PET剥离膜15 (覆膜层）。
[0049] 参数说明：空气折射率ns;低折射率UV胶涂层：折射率η 1;高折射率UV胶涂层：折 射率 nQ;PET 基材（75 ?250 μ m) ;ΡΕΤ 剥离膜（25 ?50 μ m)。
[0050] 折射率之间的关系（Ii1) n Q*ns;
[0051] 高折射率UV涂层厚度为L = 1/4 (0· 40到0· 76) μ m。
[0052] 在其中一个实施例中，进一步详细说明如下：
[0053] (1)、采用高折射率的丙烯酸单体：2_苯硫基乙基丙烯酸酯、2_(对-异丙苯基-苯 氧基）乙基丙烯酸酯、2-羟基-3-苯乙氧基丙基丙烯酸酯、乙氧化双酚芴（2E0)二丙烯酸酯 中的一种或多种，与纳米硫化锌、纳米二氧化钛、纳米氧化锌中一种或多种，按质量〇. 5? I : 1?1. 5的比例混合，重量份45?79份，经超声波震荡lh，高速搅拌0. 5h，取上清液，力口 入光引发剂1?4份、阻聚剂0. 1?1份、溶剂（乙酸乙酯、乙酸正丁酯、异丙醇、丁酮中的 一种或多种）20?80份，制得高折射率UV涂料，其折射率为1. 60?2. 0。
[0054] (2)、采用低折射率的丙烯酸单体15?31. 6份：丙烯酸月桂酯、丙烯酸甲酯、甲基 丙烯酸甲酯中的一种或几种，加入光引发剂1?4份、阻聚剂0. 1?1份、溶剂（乙酸乙酯、 乙酸正丁酯、异丙醇、丁酮中的一种或多种）20?50份，40°C恒温搅拌0. 5h，混合制成低折 射率UV涂料，其折射率为1.4?1.45。
[0055] (3)、涂布高折射率UV涂料：用步骤（1)制得的高折射率UV涂料，涂料已用溶剂调 节固含量为20?40%，粘度10?50cps ;选用75?250 μ m的PET基材13,在涂布机上经 网纹辊（线数为60?800LPI)上料涂覆，在烘箱加热烘干（温度设定在50?200°C )，使溶 剂挥发；在UV灯照射下（紫外灯线功率80?lOOW/cm)，使胶液固化。涂布机线速度在5? 13m/min，得到高折射率UV胶涂层12 ;高折射率UV胶涂层12 (硬化层）厚度3?10 μ m。
[0056] (4)、涂布低折射率UV涂料：用步骤（2)制得的低折射率UV涂料，涂料已用溶剂调 节固含量为5?10%，粘度10?50cps，选用线数为100?200LPI的网纹辊，直径50mm，调 节涂布机线速5?13m/min，网纹棍转速30?60r/min，涂覆高折射率UV胶涂层12 (硬化 层）上，经烘箱干燥（温度设定在50?200°C )，使溶剂挥发；在UV灯照射下（紫外灯线功 率80?lOOW/cm)，使胶液固化，得到低折射率UV胶涂层11 ;此层厚度为0. 1?0. 2 μ m。
[0057] (5)、涂覆硅胶以及护膜层：将PET基材13(使用层）下层涂覆20 μ m的液态加成 型反应硅胶（聚二甲基硅氧烷）或液态亚克力胶水（PMMA)，经过烘箱烘烤（130?200°C范 围），得到硅胶涂层14,在硅胶涂层14下使用（25?75 μ m)的PET剥离膜15保护，成为二 层保护膜。
[0058] 本发明的保护膜参数如下：
[0059]
【主权项】
1. 一种减反射增透光学保护膜，包含有：PET基材（13)，其特征在于，所述PET基材 (13) 表面之上引入高折射率UV胶涂层（12)，所述高折射率UV胶涂层（12)之上引入低折射 率UV胶涂层（11)，所述低折射率UV胶涂层（11)、高折射率UV胶涂层（12)、PET基材（13) 组成保护膜整体结构；所述PET基材（13)底面引入娃胶涂层（14)，所述娃胶涂层（14)底 面之下设有PET剥离膜（15)。
2. 根据权利要求1所述的一种减反射增透光学保护膜，其特征在于，所述高折射率UV 胶涂层（12)的原料组成及重量份为：
所述丙帰酸单体包括2-苯硫基己基丙帰酸醋、2-(对-异丙苯基-苯氧基）己基丙帰 酸醋、2-轻基-3-苯己氧基丙基丙帰酸醋、己氧化双酷現（2E0)二丙帰酸醋中的一种及其组 合； 所述纳米复配料包括纳米硫化锋、纳米二氧化铁、纳米氧化锋中的一种及其组合； 所述光引发剂包括：苯偶姻及衍生物、苯偶醜类、焼基苯丽类、硫杂意丽类中的一种及 其组合； 所述阻聚剂包括；对苯二酷、对苯酿、酷喔嗦、目一苯基蔡胺、对叔下基邻苯二酷中的 一种及其组合。
3. 根据权利要求1所述的一种减反射增透光学保护膜，其特征在于，所述低折射率UV 胶涂层（11)的原料组成及重量份为： 丙帰酸单体 15?31. 6份， 光引发剂 1?4份， 阻聚剂 0. 1?1份， 所述丙帰酸单体包括丙帰酸月桂醋、丙帰酸甲醋、甲基丙帰酸甲醋中的一种及其组合。
4. 根据权利要求1所述的一种减反射增透光学保护膜，其特征在于，所述娃胶涂层 (14) 采用反应娃胶或液态亚克力胶水。
5. 根据权利要求2所述的一种减反射增透光学保护膜，其特征在于，所述丙帰酸单体 采用；2-苯硫基己基丙帰酸醋、2-(对-异丙苯基-苯氧基）己基丙帰酸醋、2-轻基-3-苯 己氧基丙基丙帰酸醋、己氧化双酷現（2EO)二丙帰酸醋，按质量比为2 ;1 ;1 ;0. 5,或1 ;2 ;2 : 1混合。
6. 根据权利要求2所述的一种减反射增透光学保护膜，其特征在于，所述纳米复配料 采用；纳米硫化锋、纳米二氧化铁、纳米氧化锋，按质量比为2;1;1，或1;2;2混合。
7. 根据权利要求3所述的一种减反射增透光学保护膜，其特征在于，所述丙帰酸单体 采用；丙帰酸月桂醋、丙帰酸甲醋、甲基丙帰酸甲醋，按质量比为2 ;1 ;1，或1 ;2 ;2混合。
8. 根据权利要求1所述的一种减反射增透光学保护膜，其特征在于，所述低折射率UV
胶涂层（11)的折射率ni;l. 4?1.45,所述高折射率UV胶涂层（12)的折射率n";l. 60? 2. 0,所述PET基材（13)厚度为75?250 y m，所述PET剥离膜（15)厚度为25?50 y m。
9. 一种如权利要求1?8任一项所述减反射增透光学保护膜的制备方法，其特征在于， 包括W下步骤： (1) 、采用高折射率的丙帰酸单体与纳米复配料，按质量比15?31. 6份；30?47. 4份 的比例混合，得到混合物重量份45?79份，经超声波震荡比，高速揽拌0.化，取上清液，力口 入光引发剂1?4份、阻聚剂0. 1?1份，加入溶剂20?80份，溶剂包括己酸己醋、己酸正 下醋、异丙醇、下丽中的一种及其组合，用溶剂调节固含量为20?40%，粘度10?50cps， 恒温揽拌，制得高折射率UV涂料，备用，其折射率n。为1. 60?2. 0 ; (2) 、采用低折射率的丙帰酸单体15?31. 6份，加入光引发剂1?4份、阻聚剂0. 1? 1份，加入溶剂20?50份，用溶剂调节涂料的固含量为5?10%，粘度10?50cps，4(TC恒 温揽拌0.化，混合制成低折射率UV涂料，备用，其折射率ni为1. 4?1. 45 ; (3) 、涂布高折射率UV涂料；用步骤（1)制得的高折射率UV涂料，选用75?250 y m的 PET基材（13)，在涂布机上经网纹親上料涂覆在PET基材（13)表层，在烘箱加热烘干，温度 设定在50?20(TC，使溶剂挥发，在UV灯照射下，紫外灯线功率80?lOOW/cm，照射1?6 砂，使涂料胶液固化，涂布机线速度在5?13m/min，形成使用涂层，得到高折射率UV胶涂层 (12)，硬化层厚度可调，厚度为3?lOym ; (4) 、涂布低折射率UV涂料；用步骤（2)制得的低折射率UV涂料，选用线数为100? 200LPI的网纹親，直径50mm，调节涂布机线速5?13m/min,网纹親转速30?60r/min，涂 布在固化的高折射率UV胶涂层（12)之上，经烘箱干燥，温度设定在50?20(TC，使溶剂挥 发，在UV灯照射下，紫外灯线功率80?lOOW/cm，照射1?6砂，使涂料胶液固化，得到低折 射率UV胶涂层（11)，此层厚度为0. 1?0. 2ym; 巧）、涂覆娃胶W及护膜层：将PET基材（13)下层涂覆20 ym的液态加成型反应娃胶或 液态亚克力胶水，涂布后，经过烘箱烘烤，130?20(TC范围，烘烤1?3分钟，得到娃胶涂层 (14);使用25?75 y m的阳T剥离膜（巧）保护，贴合PET剥离膜（巧）在娃胶涂层（14)下 面，成为二层保护膜。
【专利摘要】本发明公开了一种减反射增透光学保护膜及制备方法，可以显著降低保护膜表面可见光的反射率，提高视觉效果。本发明包含有PET基材，PET基材表面之上引入高折射率UV胶涂层，高折射率UV胶涂层之上引入低折射率UV胶涂层，PET基材底面引入硅胶涂层，硅胶涂层底面之下设有PET剥离膜。本发明大大降低了工艺难度，使批量生产成为可能。
【IPC分类】G02B1-111, B32B27-36
【公开号】CN104597530
【申请号】CN201410808840
【发明人】陈克勇, 朱文峰, 杨忠芝, 齐东东
【申请人】东莞市纳利光学材料有限公司
【公开日】2015年5月6日
【申请日】2014年12月19日