第一表面浮雕结构层221上的Al层和所选择的镀层、液晶光变层、油墨、颜料、OVI和/或染料等将同时脱离光学防伪元件1，从而形成所选择的镀层、液晶光变层、油墨、颜料、OVI和/或染料的图案化。这就形成了图1b所示的光学防伪元件，也即形成了所选择的镀层、液晶光变层、油墨、颜料、OVI和/或染料的图案化，且该图案仍满足能够被采样合成层21采样合成，从而增强了该光学防伪元件I的防伪能力。
[0041]另外，图4示例性地示出了第一表面浮雕结构层221为非平坦结构的表面浮雕结构层的示例。而且，优选地，第一表面浮雕结构层221单位表观面积上的表面积与第二表面浮雕结构层222相比的比值为小于3:4，更优选地，该比值为小于1:2，再优选地，该比值为小于1:3。
[0042]此外，所述基材2可以是至少局部透明的，也可以是有色的介质层。在一种优选方案中，所述基材2可以是一层单一的透明介质薄膜，例如PET膜、PVC膜等，当然也可以是表面带有功能涂层(比如压印层)的透明介质薄膜，还可以是经过复合而成的多层膜。
[0043]根据本发明的光学防伪元件特别适合制作成开窗安全线。所述安全线的厚度不大于50μπι。带有所述开窗安全线的防伪纸用于钞票、护照、有价证券等各类高安全产品的防伪。
[0044]根据本发明的光学防伪元件也可用作标签、标识、宽条、透明窗口、覆膜等，可以通过各种粘结机理粘附在各种物品上。例如转移到钞票、信用卡等高安全产品和高附加值产品上。
[0045]本发明另一方面提供了带有所述光学防伪元件的产品，所述产品包括但不限于钞票、信用卡、护照、有价证券等各类高安全产品及高附加值产品，以及各类包装纸、包装盒坐寸ο
[0046]以上仅示例性地描述了本发明的某些优选实施方案。但是本领域技术人员可以理解，在不偏离本发明构思和精神的前提下，可以对本发明做出各种等同变换或修改，而如此得到的技术方案也应属于本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种光学防伪元件，该光学防伪元件包括: 基材，该基材包括相互对立的第一表面和第二表面； 形成在所述基材的所述第一表面上的采样合成层；以及 形成在所述基材的所述第二表面上的微图像层，该微图像层包括形成在所述基材的所述第二表面上的第一表面浮雕结构层和第二表面浮雕结构层、以及形成在所述第一表面浮雕结构层上的第一颜色功能层或形成在所述第二表面浮雕结构层上的第二颜色功能层，所述第一表面浮雕结构层的表面积与表观面积的比值小于所述第二表面浮雕结构层的表面积与表观面积的比值，而且所述采样合成层能够对所述微图像层进行采样合成从而形成图像。
2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述采样合成层为微透镜阵列层。
3.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述采样合成层和所述微图像层的图像周期为10 μ m至200 μ m。
4.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述采样合成层和所述微图像层的图像周期为15 μ m至50 μ m。
5.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述采样合成层的焦距为ΙΟμπι至200 μ m。
6.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述采样合成层的焦距为15μπι至40 μ m0
7.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述采样合成层的加工深度小于15 μ m。
8.根据权利要求7所述的光学防伪元件，其中，所述加工深度为0.5 μ m至10 μ m。
9.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述基材的厚度与所述采样合成层的焦距之差小于3μηι。
10.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述基材的厚度与所述采样合成层的焦距之差小于I μ m。
11.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述第一表面浮雕结构层和所述第二表面浮雕结构层为连续曲面型结构、矩形结构、锯齿型棱镜结构和/或它们的拼接或组合。
12.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述第一颜色功能层与所述第一表面浮雕结构层同形覆盖，所述第二颜色功能层与所述第二表面浮雕结构层同形覆盖。
13.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述第一颜色功能层和所述第二颜色功能层均为单层金属镀层、多层金属镀层、单层介质层、多层介质层、干涉型多层膜结构、液晶光变层、共挤光变膜、油墨、颜料、染料和光变油墨中的至少一者。
14.根据权利要求1至13中任一项权利要求所述的光学防伪元件，该光学防伪元件还包括形成在所述微图像层的整个表面上的第三颜色功能层，该第三颜色功能层的颜色特征不同于所述第一颜色功能层和所述第二颜色功能层的颜色特征。
15.根据权利要求14所述的光学防伪元件，其中，所述第三颜色功能层为单层金属镀层、多层金属镀层、单层介质层、多层介质层、干涉型多层膜结构、液晶光变层、共挤光变膜、油墨、颜料、染料、光变油墨中的至少一者。
16.根据权利要求14所述的光学防伪元件，该光学防伪元件还包括形成在所述微图像层与所述第三颜色功能层之间的半透明材料层。
17.根据权利要求16所述的光学防伪元件，其中，所述半透明材料层与所述第一表面浮雕结构层和所述第二表面浮雕结构层的折射率之差不大于0.3。
18.根据权利要求17所述的光学防伪元件，其中，所述折射率之差小于0.1。
19.根据权利要求1至13和15至18中任一项权利要求所述的光学防伪元件，其中，所述微图像层还包括能够在无需所述采样合成层进行采样合成的情况下就能够被直接观察的宏观图像。
20.根据权利要求1所述的光学防伪元件，该光学防伪元件还包括形成于所述基材中、所述基材的所述第一表面上、所述基材的所述第二表面上、所述第一表面浮雕结构层中、所述第二表面浮雕结构层中、所述采样合成层中、所述微图像层的表面上的至少一者中的衍射光变特征、干涉光变特征、微纳结构特征、印刷特征、部分金属化特征以及用于机读的磁、光、电、放射性特征中的一种或多种特征。
21.—种米用根据权利要求1-20中任一项权利要求所述的光学防伪兀件的光学防伪女口广叩ο
【专利摘要】本发明提供一种光学防伪元件以及使用该光学防伪元件的光学防伪产品，其易识别且难伪造。该光学防伪元件包括：基材，该基材包括相互对立的第一表面和第二表面；形成在所述基材的所述第一表面上的采样合成层；以及形成在所述基材的所述第二表面上的微图像层，该微图像层包括形成在所述基材的所述第二表面上的第一表面浮雕结构层和第二表面浮雕结构层、以及形成在所述第一表面浮雕结构层上的第一颜色功能层或形成在所述第二表面浮雕结构层上的第二颜色功能层，所述第一表面浮雕结构层的表面积与表观面积的比值小于所述第二表面浮雕结构层的表面积与表观面积的比值，而且所述采样合成层能够对所述微图像层进行采样合成从而形成图像。
【IPC分类】G02B3-00, B42D25-36, G02B5-18
【公开号】CN104656167
【申请号】CN201310596793
【发明人】张宝利, 孙凯, 朱军
【申请人】中钞特种防伪科技有限公司, 中国印钞造币总公司
【公开日】2015年5月27日
【申请日】2013年11月22日