防伪结构体及其制造方法_5

文档序号:8385855阅读:来源:国知局
及其制造方法进行说明。第3实施方式的 防伪结构体的俯视图由于与图1相同,因此省略记载。
[0134] 图6是第3实施方式的防伪结构体的截面图,表示沿着图1所示的防伪结构体的 II-II线的截面。
[0135] 如图6所示,防伪结构体30具备微细凹凸形成层11及反射层12。微细凹凸形成 层11在第1主面IlA上具有含有深宽比为0. 5以上的凹凸结构的第一区域13和含有深宽 比小于0. 5的凹凸结构的第二区域14。
[0136] 在第二区域14的凹凸结构上配置有反射层12。反射层12按照覆盖除第一区域 13以外的区域、例如覆盖第二区域14的方式进行配置。第一区域13具有比第二区域14还 高的透光率。
[0137] 接着,对第3实施方式的防伪结构体的制造方法进行说明。
[0138] 图7是表示防伪结构体30的制造方法的截面图。
[0139] 首先,如图7(a)所示,在微细凹凸形成层11的第1主面IlA上形成第一区域13 及第二区域14。即,在第1主面IlA上形成含有深宽比为0. 5以上的凹凸结构的第一区域 13及含有深宽比小于0.5的凹凸结构的第二区域14。接着,如图7(b)所示,在图7(a)所 示的结构上、即第一、第二区域13、14的凹凸结构上涂覆功能性微粒15。
[0140] 之后,通过利用气刀、刮刀及刮板等的擦拭,如图7(c)所示,将存在于第二区域14 的微粒15除去、仅在第一区域13的凹凸结构的凹部中填充微粒15。第一区域13具有可使 微粒15填充于其凹凸结构的凹部中的凹部的宽度和凹凸结构的深宽比,第二区域14具有 无法使微粒15填充于其凹凸结构的凹部中的凹部的宽度和凹凸结构的深宽比。
[0141] 之后,通过加热或溶剂涂布,使微粒15部分粘接(暂时粘接)于第一区域13的凹 凸结构的凹部。
[0142] 接着,如图7(d)所示,在图7(c)所示的结构上、即在含有微粒15的第一区域13 及第二区域14上干式涂覆反射层12。接着,通过利用溶剂的微粒15的溶解或者超声波的 照射、送风及溶剂喷雾等物理冲击,如图7 (e)所示,将存在于第一区域13的微粒15和反射 层12除去。
[0143] 通过以上的工序,可以制造图6所示的第3实施方式的防伪结构体30。
[0144] 对于第3实施方式的防伪结构体30的微细凹凸形成层11、第一区域13、第二区域 14、反射层12及功能性微粒15,与第1实施方式相同。
[0145] 在第3实施方式中,仅在第一区域13的凹凸结构的凹部中填充微粒15,进而在第 一区域13的微粒15上及第二区域14的凹凸结构上涂覆反射层12。之后,利用溶解或物理 处理,将存在于第一区域13的凹部中的微粒15与反射层12 -起除去,从而可以使反射层 12仅残留在第二区域14上。
[0146] 由此,可以提供能够在微细凹凸形成层11的第二区域14上以高的位置精度形成 准确图案的反射层、伪造非常困难的防伪结构体。进而,能够以高生产率且廉价地形成该防 伪结构体。
[0147] 以下,作为实施例,更为详细地说明防伪结构体的材料及制造方法。
[0148][实施例1]
[0149] 为了制造本发明的防伪结构体,如下所示,准备微细凹凸形成层11的油墨组合 物。
[0150] "微细凹凸形成层的油墨组合物"(紫外线固化型树脂)
[0151]
【主权项】
1. 一种防伪结构体,其具备: 微细凹凸形成层,该微细凹凸形成层具备第一区域和第二区域,所述第一区域具有含 有深度与宽度之比即深宽比为第1值以上的凹凸结构的光学元件,所述第二区域具有含有 深宽比小于所述第1值的凹凸结构的光学元件,所述第一区域具有比所述第二区域更高的 透光率; 填充于所述第一区域所含的所述凹凸结构的凹部中的微粒;以及 配置在所述第二区域所含的所述凹凸结构上的反射层。
2. -种防伪结构体,其具备: 微细凹凸形成层,该微细凹凸形成层具备第一区域和第二区域,所述第一区域具有含 有深度与宽度之比即深宽比为第1值以上的凹凸结构的光学元件,所述第二区域具有含有 深宽比小于所述第1值的凹凸结构的光学元件,所述第二区域具有比所述第一区域更高的 透光率; 配置于所述第一区域所含的所述凹凸结构的凹部中的反射层;以及 配置在所述反射层上的掩模涂膜。
3. -种防伪结构体,其具备: 微细凹凸形成层,该微细凹凸形成层具备第一区域和第二区域,所述第一区域具有含 有深度与宽度之比即深宽比为第1值以上的凹凸结构的光学元件,所述第二区域具有含有 深宽比小于所述第1值的凹凸结构的光学元件,所述第一区域具有比所述第二区域更高的 透光率;和 配置于所述第二区域所含的所述凹凸结构上的反射层。
4. 根据权利要求1所述的防伪结构体,其中, 所述第一区域的所述凹部的宽度及所述凹凸结构的深宽比被设定为可以使所述微粒 填充于该凹凸结构的所述凹部中的值, 所述第二区域的所述凹部的宽度及所述凹凸结构的深宽比被设定为无法使所述微粒 填充于该凹凸结构的所述凹部中的值。
5. 根据权利要求1~4中任一项所述的防伪结构体,其中,所述第1值为0. 5。
6. 根据权利要求1或4所述的防伪结构体,其中,所述微粒为球状粒子。
7. -种防伪结构体的制造方法,其具备: 在微细凹凸形成层的一个主面上形成分别含有凹凸结构的第一区域及第二区域; 在所述第一区域及第二区域的所述凹凸结构上涂覆微粒; 将所述第二区域的凹凸结构上的所述微粒除去、而在所述第一区域的凹凸结构的凹部 中填充所述微粒; 使所述微粒粘接于所述第一区域的凹凸结构的凹部; 在配置于所述第一区域的凹凸结构的凹部中的所述微粒上及所述第二区域的凹凸结 构上涂覆反射层;以及 通过对所述第一区域及第二区域的整个区域进行刻蚀,从而使所述第二区域的所述反 射层残留,而将所述第一区域的所述微粒上的所述反射层除去。
8. -种防伪结构体的制造方法,其具备: 在微细凹凸形成层的一个主面上形成分别含有凹凸结构的第一区域及第二区域; 在所述第一区域及第二区域的所述凹凸结构上涂覆反射层; 在所述第一区域及第二区域的所述反射层上涂覆微粒; 将所述第二区域的反射层上的所述微粒除去、而在所述第一区域的凹凸结构的凹部中 填充所述微粒; 使填充于所述第一区域的凹凸结构的凹部中的所述微粒变化成膜状、从而在所述凹部 的反射层上形成掩模涂膜;以及 通过对所述第一区域及第二区域的整个区域进行刻蚀,从而将所述第二区域的所述反 射层除去,使所述第一区域的被所述掩模涂膜保护的所述反射层残留。
9. 一种防伪结构体的制造方法,其具备: 在微细凹凸形成层的一个主面上形成分别含有凹凸结构的第一区域及第二区域; 在所述第一区域及第二区域的所述凹凸结构上涂覆微粒; 将所述第二区域的凹凸结构上的所述微粒除去、而在所述第一区域的凹凸结构的凹部 中填充所述微粒; 在配置于所述第一区域的凹凸结构的凹部中的所述微粒上及所述第二区域的凹凸结 构上涂覆反射层;以及 利用溶解或物理性除去法将存在于所述第一区域的凹凸结构的凹部中的所述微粒及 反射层除去。
10. 根据权利要求7~9中任一项所述的防伪结构体的制造方法,其中,所述微粒具有 芯壳结构,且该芯壳结构中的壳由在规定温度下发生软化的聚合物形成。
11. 根据权利要求8所述的防伪结构体的制造方法,其中,所述微粒是含有聚合物的粒 子,且按照在规定温度下变化成膜状的方式构成。
12. 根据权利要求7~9中任一项所述的防伪结构体的制造方法,其中,所述微粒含有 聚合物,且所述聚合物的至少一部分通过电磁波的照射而表现粘性或使粘性消失。
【专利摘要】防伪结构体(10)具备具有第一区域(13)和第二区域(14)的微细凹凸形成层(11),第一区域(13)具有含有深度与宽度之比即深宽比为第1值以上的凹凸结构的光学元件,第二区域(14)具有含有深宽比小于所述第1值的凹凸结构的光学元件。第一区域(13)具有比第二区域(14)更高的透光率。防伪结构体(10)还进一步具备填充于第一区域(13)所含的凹凸结构的凹部中的微粒(15)和配置于第二区域(14)所含的凹凸结构上的反射层(12)。
【IPC分类】B42D25-40, B42D25-30, G02B5-08, G02B5-18, B42D25-328
【公开号】CN104704401
【申请号】CN201380051760
【发明人】屋铺一寻
【申请人】凸版印刷株式会社
【公开日】2015年6月10日
【申请日】2013年11月14日
【公告号】EP2921888A1, US20150253729, WO2014077329A1
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