的导电膜图案正好为互补关系，沟槽008的尺寸也可根据工艺能力和设计需要进行调节。
[0040]本实施例设计了透明导电膜图案与触控图形互补，因此在触控电极层006的沟槽008处下方设有透明导电膜层004，补偿了由于沟槽008不能反射光线而造成的光线段差，如图3示出的光线反射情况所示，增加的透明导电膜层004可以很好的达到消影的效果，提尚显不屏的品质。
[0041 ] 本实施例中所述绝缘层005在所述沟槽008对应的区域覆盖在所述透明导电膜层004的导电膜图案上，在其他区域设置在所述显示基板的彩膜基板003上，此种设计相当于绝缘层005和透明导电膜层004同层，有利于降低触控显示面板的厚度。
[0042]进一步地，触控电极层006的材质与透明导电膜层004的材质相同，因此两者对光线的反射率相同，有利于形成均匀的反射光线。相同的材质例如为氧化铟锡等透明导电材料。
[0043]进一步地，在触控电极层006的上方设置上偏光片007，起到保护和偏光的作用。
[0044]实施例二:
[0045]图5是本发明的另一个较佳实施例的触控显示面板的结构示意图，本实施例的触控显示面板通过Array (阵列)工艺制备的TFT基板002，在所述TFT基板002上制备彩膜基板003，并在ODF(液晶滴注)工艺对盒完成后，制备触控电极层006以及透明导电膜层004，具体为:在彩膜基板003的上表面沉积一层透明导电膜层004，不经过掩膜工艺，继续沉积一层绝缘层005，用于阻绝透明导电膜层004和触控电极层006，绝缘层005的厚度可根据工艺能力尽可能的做薄；紧接着沉积触控电极层006，并经过掩膜工艺蚀刻出需要的触控图形，形成沟槽008，沟槽008的尺寸可根据工艺能力和设计需要进行调节。
[0046]本实施例设计了透明导电膜层004为未经构图工艺处理的整层，绝缘层005整层设置在所述透明导电膜层004上，触控电极层006的沟槽008处都会有透明导电膜层004的存在，使得照射在触控电极层006的沟槽008处的光线透过绝缘层005照射到透明导电膜层004的上表面，实现光线的反射，如图5示出的光线反射情况所示，补偿了由于沟槽008不能反射光线而造成的光线段差，所以增加的透明导电膜层004可以很好的达到消影的效果，提高显示屏的品质。另外，本实施例不需要刻蚀透明导电层，可以减少一道掩膜工艺，提高了生产效率，同时使绝缘层平整。
[0047]进一步地，触控电极层006的材质与透明导电膜层004的材质相同，因此两者对光线的反射率相同，有利于形成均匀的反射光线。相同的材质例如为氧化铟锡等透明导电材料。
[0048]进一步地，在触控电极层006的上方设置上偏光片007，起到保护和偏光的作用。
[0049]本发明还提供了一种触控显示装置，包括上述触控显示面板。触控显示装置例如为平板电脑、手机、电视机、导航仪、摄像机、照相机、数码相框等具有触控和显示功能的产品或部件。
[0050]本发明另外还提供了一种触控显示面板的制备方法，如图6所示，所述方法包括以下步骤:
[0051]S1、提供显不基板；
[0052]S2、在所述显示基板的上表面上形成透明导电膜层；
[0053]S3、形成绝缘层；
[0054]S4、在所述绝缘层上形成触控电极层，并在所述触控电极层中形成触控图形，其中所述透明导电膜层通过所述绝缘层与所述触控电极层绝缘。
[0055]利用本发明的触控显示面板的制备方法制备的触控显示面板，形成所述触控图形的同时形成了沟槽，通过在绝缘层和显示基板之间形成透明导电膜层，使得照射在触控电极层沟槽处的光线透过绝缘层照射到透明导电膜层的上表面，实现光线的反射，使触控显示面板在不点亮或是低灰阶点亮的情况下能够反射出均匀的光线，避免了消影现象。
[0056]进一步地，显示基板从下到上包括下偏光片、阵列基板以及彩膜基板。本发明的方法还包括在触控电极层上贴合上偏光片的步骤，起到保护和偏光的作用。
[0057]进一步地，为了形成实施例一提供的产品结构，本发明的方法还包括在透明导电膜层中形成与所述触控图形互补的导电膜图案的步骤，绝缘层在沟槽对应的区域覆盖在透明导电膜层的导电膜图案上，在其他区域设置在所述显示基板上。此设计通过设置透明导电膜图案与触控图形互补，在触控电极层的沟槽处设有导电膜层，补偿了由于沟槽不能发射光线而造成的光线段差，同时此种结构相当于绝缘层和透明导电膜层同层，从而降低面板厚度。
[0058]进一步地，为了形成实施例二提供的产品结构，利用本发明的方法制备的透明导电膜层或者为未经构图工艺处理的整层，绝缘层整层设置在所述透明导电膜层上，此种设计不需刻蚀透明导电膜层，减少了工艺，同时使绝缘层平整。
[0059]进一步地，利用本发明的方法形成的触控电极层的材质与透明导电膜层的材质相同，因此两者对光线的反射率相同，有利于形成均匀的反射光。相同的材质例如为氧化铟锡等透明导电材料。
[0060]以上实施方式仅用于说明本发明，而非对本发明的限制。尽管参照实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，对本发明的技术方案进行各种组合、修改或者等同替换，都不脱离本发明技术方案的精神和范围，均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。
【主权项】
1.一种触控显示面板，其特征在于，包括显示基板、触控电极层以及位于所述显示基板和所述触控电极层之间的绝缘层，其中所述触控电极层包括带有沟槽的触控图形；所述触控显示面板还包括透明导电膜层，通过所述绝缘层与所述触控电极层绝缘。
2.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述透明导电膜层包括与所述触控图形互补的导电膜图案。
3.根据权利要求2所述的触控显示面板，其特征在于，所述绝缘层在所述沟槽对应的区域覆盖在所述透明导电膜层的导电膜图案上，在其他区域设置在所述显示基板上。
4.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述绝缘层整层设置在所述透明导电膜层上。
5.根据权利要求1至4任一项所述的触控显示面板，其特征在于，所述触控电极层与所述透明导电膜层材质相同。
6.根据权利要求5所述的触控显示面板，其特征在于，所述触控显示面板还包括偏光片，所述偏光片设置在所述触控电极层上。
7.—种触控显示装置，其特征在于，所述包括触控显示装置权利要求1-6任一项所述的触控显示面板。
8.—种触控显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤: 提供显不基板； 在所述显示基板的上表面上形成透明导电膜层； 形成绝缘层； 在所述绝缘层上形成触控电极层，并在所述触控电极层中形成触控图形，其中所述透明导电膜层通过所述绝缘层与所述触控电极层绝缘。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法还包括以下步骤: 在所述透明导电膜层中形成与所述触控图形互补的导电膜图案。
10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法还包括以下步骤: 在所述触控电极层上贴合偏光片。
【专利摘要】本发明公开了一种触控显示面板、其制备方法及具有该触控显示面板的触控显示装置。本发明在绝缘层和显示基板之间设置透明导电膜层，使得照射在触控电极层沟槽处的光线透过绝缘层照射到透明导电膜层的上表面，实现光线的反射，补偿了由于沟槽不能反射光线而造成的光线段差，使触控显示面板在不点亮或是低灰阶点亮的情况下能够反射出均匀的光线，避免了消影现象。
【IPC分类】G02F1-1333, G06F3-041
【公开号】CN104765181
【申请号】CN201510226990
【发明人】李金钰, 刘英明, 蔡佩芝, 曹雪
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方光电科技有限公司
【公开日】2015年7月8日
【申请日】2015年5月6日