显示面板及显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及平板显示技术，特别涉及一种显示面板，以及包括该显示面板的显示
目.0
【背景技术】
[0002]显示面板目前被广泛的应用于手机、掌上电脑(Personal DigitalAssistant, PDA)等便携式电子产品中，例如:薄膜晶体管液晶显示器(Thin FilmTransistor-Liquid Crystal Display, TFT-LCD)、有机发光二级管显不器(Organic LightEmitting D1de, OLED)、低温多晶娃(Low Temperature Poly-silicon, LTPS)显不器以及等离子体显示器(Plasma Display Panel，PDP)等。在市场竞争的推动下，更轻便、显示效果更优越、价格更低的显示装置受到了越来越多的追捧。
[0003]在显示装置中，像素电极与公共电极之间能够形成电场，该电场驱动液晶分子转动来进行画面的显示；在显示面板的分辨率相对较低时，像素电极与黑矩阵之间的距离相对较远，则黑矩阵下方的电场强度较弱，液晶分子转动幅度较小，斜视透过率低，不易发生挤压色偏；但是随着高分辨率产品的需求，同时为了保证较高的穿透率，像素电极与黑矩阵之间的距离越来越小，黑矩阵下方的电场强度会变强，从而液晶分子转动幅度增大，会使得斜视透过率高，出现混色色偏的概率增加。现有高分辨率产品中，像素大小越来越小，像素电极与黑矩阵之间的距离越来越小，另外产品尺寸越来越大，厚度越来越薄，均容易因为挤压等外力的作用使得局部对位有偏移，由此发生混色色偏。
【发明内容】
[0004]有鉴于此，本发明实施例提供一种显示面板，包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板上设置有呈网格状排列的第一遮光层，所述第一遮光层包括至少两个色阻层；所述第二基板上设置有第二遮光层，在垂直于所述第二基板的方向，所述第二遮光层在所述第一遮光层上的投影完全覆盖所述第一遮光层。
[0005]本发明实施例还提供一种显示装置，所述显示装置包括如上所述的显示面板。
[0006]本发明实施例提供的显示面板及显示装置，在彩膜基板上设置第一遮光层，在阵列基板上设置第二遮光层，且第一遮光层和第二遮光层的位置相对设置，并且第二遮光层覆盖在数据线的上方，这种结构设计能够减少数据线边缘到第一遮光层边缘的混色面积，从而能够减少显示面板的混色色偏。
【附图说明】
[0007]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0008]图1是本发明实施例提供的显示面板的一种结构示意图；
[0009]图2是本发明实施例提供的第二基板的一种平面图；
[0010]图3是本发明实施例提供的第二基板的另一种平面图；
[0011]图4是本发明实施例提供的显不面板的另一种结构不意图；
[0012]图5是本发明实施例提供的显示面板的另一种结构示意图。
【具体实施方式】
[0013]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0014]本发明实施例提供一种显示面板10，如图1所示，包括相对设置的第一基板11和第二基板12，所述第一基板11上设置有呈网格状排列的第一遮光层13，所述第一遮光层13包括至少两个层叠设置的色阻层14 ;所述第二基板12上设置有第二遮光层15，在垂直于所述第二基板的方向，所述第二遮光层15在所述第一遮光层13上的投影完全覆盖所述第一遮光层13。
[0015]从图1中可以看出，第一基板是彩膜基板，第二基板是阵列基板，所述第二基板12上设置有多条数据线1，数据线I上设置有第二遮光层15，在第二遮光层15上设置有第一绝缘层2，在第一绝缘层2上层叠设置有像素电极和公共电极，像素电极和公共电极之间设置有第四绝缘层4 ;如图1中所示，像素电极3设置在第四绝缘层4上，第四绝缘层4上设置有公共电极5;其中，在垂直于所述第二基板的方向，所述第二遮光层在所述数据线上的投影与所述数据线至少部分交叠。以上仅为本实施例的一种实施方式，本实施例的实施方式还可以为，公共电极设置在第四绝缘层上，第四绝缘层上设置有像素电极。
[0016]如图1中所示，在第一基板11面对第二基板的一面上设置有色阻材料层6，在第一基板11的不同区域色阻材料层6的颜色可以不同，可以是红色色阻材料、绿色色阻材料、蓝色色阻材料、白色色阻材料、黄色色阻材料等，其中第一遮光层13包含两个色阻层14，色阻层14与色阻材料层6采用的材料相同，色阻层14与色阻材料层6沉积在第一基板11上的制备工艺也相同，第一遮光层包含的两个色阻层可以是同一颜色也可以是不同颜色的色阻材料；例如在第一基板上沉积红色色阻材料后，再沉积绿色色阻材料时，红色色阻材料与绿色色阻材料交叠的地方即为第一遮光层。以上仅为本发明实施例的一种实施方式，本发明实施例的实施方式还可以为，第一遮光层包括层叠设置的两个以上色阻层，即第一遮光层可以包括三层或者三层以上的同一颜色或者不同颜色的色阻材料。在第一基板上形成色阻材料层的同时形成第二遮光层，使得彩膜基板无需设置黑矩阵，且不会增加额外的工艺步骤，结构简单。
[0017]图2是本发明实施例提供的第二基板的一种平面图，从图2中可以看出，该第二基板12上设置有像素电极3和薄膜晶体管31，数据线