一种彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示
目.0
【背景技术】
[0002]随着显示技术的发展，对液晶显示(Liquid Crystal Display，LCD)的要求越来越个性化和多样化。以曲面电视为例，由于显示面板(panel)在弯曲后阵列基板和彩膜基板间的相对位置关系会发生微小的变化，会导致像素边缘漏光，尤其对于大视角的显示面板，像素边缘漏光的现象更明显。因此，现有技术在设计曲面panel时，考虑到漏光问题，一般需要对黑矩阵(Black Matrix, BM)进行不均匀化设计或者整体增加BM的宽度。
[0003]具体地，如图1(a)和图1(b)所示，现有技术的彩膜基板包括衬底基板10，位于衬底基板10上的黑矩阵11和彩膜层12，其中，彩膜层12包括红色(R)子像素、绿色(G)子像素和蓝色(B)子像素。
[0004]图1(a)为对彩膜基板中的黑矩阵11进行不均匀化设计后的截面示意图，如:设计B子像素与R子像素之间的黑矩阵的宽度大于R子像素与G子像素之间的黑矩阵的宽度，R子像素与G子像素之间的黑矩阵的宽度等于G子像素与B子像素之间的黑矩阵的宽度。这种情况一般针对在设计显示面板时，预先知道哪些区域可能会发生漏光，将可能会发生漏光的区域对应的黑矩阵的宽度设计的较其它区域对应的黑矩阵的宽度大，其它区域对应的黑矩阵的设计宽度与现有技术普通彩膜基板的黑矩阵设计宽度相等。
[0005]图1(b)为整体增加彩膜基板中的黑矩阵11的宽度后的截面示意图，图中R子像素与G子像素之间的黑矩阵的宽度等于G子像素与B子像素之间的黑矩阵的宽度，G子像素与B子像素之间的黑矩阵的宽度等于B子像素与R子像素之间的黑矩阵的宽度，但R子像素与G子像素之间的黑矩阵的宽度、G子像素与B子像素之间的黑矩阵的宽度、B子像素与R子像素之间的黑矩阵的宽度均大于图1(a)中R子像素与G子像素之间的黑矩阵的宽度，即均大于现有技术普通彩膜基板的黑矩阵设计宽度。
[0006]综上所述，现有技术对于可以曲平转换的IXD面板，一般都通过增加BM宽度来解决漏光问题，但增加BM宽度带来了透过率下降的问题。
【发明内容】
[0007]本发明实施例提供了一种彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置，用以解决曲平转换显示面板漏光或透过率下降的问题。
[0008]本发明实施例提供的一种彩膜基板，包括衬底基板、位于所述衬底基板一侧上的黑矩阵和包含矩阵排列的彩色子像素的彩膜层，还包括若干电泳单元和平坦层，每一所述电泳单元包括:第一控制电极、第二控制电极、不透明带电粒子、透明电泳液介质和透明挡墙，其中:
[0009]所述透明挡墙用于将所述不透明带电粒子和所述透明电泳液介质限制在第一预设区域内，所述第一预设区域内包括有所述第一控制电极和所述第二控制电极；
[0010]所述第一控制电极和所述第二控制电极分别用于接收不同的电压信号形成电压差，使得所述不透明带电粒子在所述透明电泳液介质中向所述第一控制电极或所述第二控制电极方向聚集运动，改变相邻的两个彩色子像素之间的遮光区域的宽度；
[0011]所述平坦层位于所述黑矩阵和所述彩膜层上覆盖整个衬底基板，并用于密封所述电泳单元。
[0012]由本发明实施例提供的彩膜基板，由于彩膜基板包括若干电泳单元，每一所述电泳单元包括:第一控制电极、第二控制电极、不透明带电粒子、透明电泳液介质和透明挡墙，其中:透明挡墙用于将不透明带电粒子和透明电泳液介质限制在第一预设区域内，第一预设区域内包括有第一控制电极和第二控制电极；第一控制电极和第二控制电极分别用于接收不同的电压信号形成电压差，使得不透明带电粒子在透明电泳液介质中向第一控制电极或第二控制电极方向聚集运动，改变相邻的两个彩色子像素之间的遮光区域的宽度。由于本发明具体实施例中的彩膜基板包括电泳单元，而电泳单元中的不透明带电粒子能够在透明电泳液介质中向第一控制电极或第二控制电极方向聚集运动，改变相邻的两个彩色子像素之间的遮光区域的宽度，因此能够利用第一控制电极和第二控制电极控制不透明带电粒子的聚集位置，达到改变遮光区域宽度的目的，从而有效解决曲平转换显示面板漏光或透过率下降的问题。
[0013]较佳地，所述第一控制电极位于两个相邻的彩色子像素之间的黑矩阵对应的区域；属于同一电泳单元的所述第二控制电极位于该两个相邻的彩色子像素或该两个相邻的彩色子像素中的任意一个彩色子像素对应的第二预设区域，所述第二预设区域靠近黑矩阵且与所述彩色子像素对应的区域在正投影方向上部分重叠。
[0014]较佳地，所述第一控制电极为非透明电极，所述第二控制电极为透明电极；或，
[0015]所述第一控制电极为透明电极，所述第二控制电极为透明电极。
[0016]较佳地，还包括与所述第一控制电极连接的第一信号线和与所述第二控制电极连接的第二信号线，所述第一控制电极通过所述第一信号线接地，所述第二控制电极用于通过所述第二信号线接收正电压信号或负电压信号。
[0017]较佳地，还包括覆盖所述黑矩阵和所述彩膜层的保护层，所述第一控制电极和所述第二控制电极位于所述保护层上。
[0018]较佳地，还包括覆盖所述平坦层的透明电极层，所述透明电极层接地。
[0019]较佳地，还包括位于所述平坦层上的屏蔽电极层，所述屏蔽电极层接地；
[0020]所述屏蔽电极层覆盖所述平坦层，所述屏蔽电极层为透明导电层；或，
[0021]所述屏蔽电极层对应的区域与所述黑矩阵对应的区域相同，所述屏蔽电极层为金属层。
[0022]较佳地，当所述屏蔽电极层覆盖所述平坦层时，还包括覆盖所述屏蔽电极层的透明高阻层。
[0023]较佳地，还包括位于所述衬底基板另一侧的弯曲形变功能层；
[0024]所述弯曲形变功能层包括第一透明电极层、第二透明电极层和位于所述第一透明电极层和所述第二透明电极层之间的增加了离子基的高分子材料，其中:
[0025]所述增加了离子基的高分子材料用于，在所述高分子材料受压时产生电压信号；
[0026]所述第一透明电极层和所述第二透明电极层用于将所述电压信号导出到外部电路。
[0027]本发明实施例还提供了一种显示面板，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，以及位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层，其中，所述彩膜基板为上述的彩膜基板。
[0028]本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述的显示面板。
[0029]本发明实施例还提供了一种彩膜基板的制作方法，所述方法包括:
[0030]在衬底基板上制作黑矩阵和包含矩阵排列的彩色子像素的彩膜层；
[0031]在完成上述步骤的衬底基板上沉积透明导电层，通过构图工艺形成若干第一控制电极和若干第二控制电极；
[0032]在完成上述步骤的衬底基板上涂覆透明聚合物层或透明树脂层，通过构图工艺形成若干透明挡墙；
[0033]在包括一个所述第一控制电极和至少一个所述第二控制电极的透明挡墙围成的区域内滴注预先由不透明带电粒子和透明电泳液介质形成的电泳液；其中，所述第一控制电极和所述第二控制电极用于接收不同的电压信号形成电压差，使得所述不透明带电粒子在所述透明电泳液介质中向所述第一控制电极或所述第二控制电极方向聚集运动，改变相邻的两个彩色子像素之间的遮光区域的宽度；
[0034]在完成上述步骤的衬底基板上制作平坦层，所述平坦层覆盖整个衬底基板，并用于密封所述电泳液。
[0035]较佳地，所述在完成上述步骤的衬底基板上制作平坦层，包括:
[0036]在完成上述步骤的衬底基板上制作浓度较大的第一平坦层，并对所述第一平坦层进行光固化；
[0037]在所述第一平坦层上制作浓度较小的第二平坦层，并对所述第二平坦层进行热固化。
【附图说明】
[0038]图1 (a)和图1 (b)分别为现有技术彩膜基板的不同截面结构示意图；
[0039]图2为本发明实施例提供的一种彩膜基板的截面结构示意图；
[0040]图3为本发