彩膜基板、彩膜基板的制造方法、触摸屏及显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及触摸屏技术领域，特别涉及一种彩膜基板、彩膜基板的制造方法、触摸屏及显示装置。
【背景技术】
[0002]触摸屏技术是一种智能化的人机交互输入技术，与传统的键盘和鼠标输入方式相比，触摸屏输入更加直观。当前，触摸屏需求的驱动力主要来自于消费电子产业，尤其是移动电话、便携游戏机、个人数字助理及便携导航设备等。触摸屏的类型很多，其中，电容式内嵌触摸屏是最为常见的类型之一。
[0003]现有技术中，电容式内嵌触摸屏主要是利用人体的电流感应进行工作的，电容式内嵌触摸屏的彩膜基板通常采用两层氧化铟锡(英文:Indium Tin Oxide ;简称:IT0)在彩色滤光片(英文:Color Filter ;简称:CF)的两侧制作触摸电极。具体的，如图1所示，该电容式内嵌触摸屏从下到上依次为背光源1001、偏光片1002、底层玻璃基板1003、薄膜场效应晶体管1004、液晶层1005、第一 ITO触摸电极1006、CF1007、顶层玻璃基板1008、第二 ITO触摸电极1009、偏光片或盖板1010等。当手指触摸电容式内嵌触摸屏时，由于人体电场、用户和电容式内嵌触摸屏表面形成一个耦合电容，对于高频电流来说，电容是直接导体，手指从接触点吸走一个很小的电流。该电流通过触摸电极中流出，触摸屏的主控制器根据流出的电流进行精确计算，得出触摸点的位置信息。
[0004]但是，电容式内嵌触摸屏的彩膜基板中作为触摸电极的ITO的阻抗较大，韧性较差，且ITO的价格昂贵，因此，以ITO作为触摸电极的触摸屏的阻抗较大，触摸屏尺寸较厚，且成本较高。
【发明内容】
[0005]为了解决以ITO作为触摸电极的触摸屏的阻抗较大，触摸屏尺寸较厚，且成本较高的问题，本发明提供了一种彩膜基板、彩膜基板的制造方法、触摸屏及显示装置。所述技术方案如下:
[0006]第一方面，提供了一种彩膜基板，所述彩膜基板包括:
[0007]透明基板；
[0008]位于所述透明基板一侧的色阻层；
[0009]与所述色阻层在所述透明基板的同侧设置的第一触摸电极，所述第一触摸电极由金属制成；
[0010]设置在所述透明基板一侧的第二触摸电极。
[0011]可选的，第二触摸电极与所述第一触摸电极位于所述透明基板的不同侧。
[0012]可选的，所述第二触摸电极由灰化金属制成。
[0013]可选的，所述第一触摸电极由灰化金属制成。
[0014]可选的，所述色阻层包括彩色像素，及位于每两个相邻的彩色像素之间的黑矩阵，所述第一触摸电极在所述透明基板的投影位于所述黑矩阵在所述透明基板的投影区域内。
[0015]可选的，所述色阻层包括彩色像素，及位于每两个相邻的彩色像素之间的黑矩阵，所述第一触摸电极设置在所述透明基板与所述黑矩阵之间。
[0016]可选的，所述色阻层包括彩色像素，及位于每两个相邻的彩色像素之间的黑矩阵，所述第二触摸电极在所述透明基板的投影位于所述黑矩阵在所述透明基板的投影区域内。
[0017]可选的，所述金属包括铜、钼、铝和银中的至少一种；
[0018]所述灰化金属为氮氧化钼铌。
[0019]可选的，所述彩膜基板还包括:消影层；
[0020]所述消影层设置在所述第二触摸电极的表层。
[0021]第二方面，提供了一种彩膜基板的制造方法，包括:
[0022]在透明基板的一侧制造色阻层；
[0023]在所述色阻层在所述透明基板的同侧制造第一触摸电极，所述第一触摸电极由金属制成；
[0024]在所述透明基板一侧制造第二触摸电极。
[0025]可选的，所述在所述透明基板一侧制造第二触摸电极，包括:
[0026]在所述透明基板一侧制造第二触摸电极，使所述第二触摸电极与所述第一触摸电极位于所述透明基板的不同侧。
[0027]可选的，所述第二触摸电极由灰化金属制成。
[0028]可选的，所述第一触摸电极由灰化金属制成。
[0029]可选的，所述色阻层包括彩色像素，及位于每两个相邻的彩色像素之间的黑矩阵，所述在所述色阻层在所述透明基板的同侧制造第一触摸电极，包括:
[0030]在所述色阻层在所述透明基板的同侧制造第一触摸电极，使所述第一触摸电极在所述透明基板的投影位于所述黑矩阵在所述透明基板的投影区域内。
[0031]可选的，所述色阻层包括彩色像素，及位于每两个相邻的彩色像素之间的黑矩阵，所述在所述色阻层在所述透明基板的同侧制造第一触摸电极，包括:
[0032]在所述色阻层在所述透明基板的同侧，且在所述透明基板与所述黑矩阵之间制造第一触摸电极。
[0033]可选的，所述色阻层包括彩色像素，及位于每两个相邻的彩色像素之间的黑矩阵，所述在所述透明基板一侧制造第二触摸电极，包括:
[0034]在所述透明基板一侧制造第二触摸电极，使所述第二触摸电极在所述透明基板的投影位于所述黑矩阵在所述透明基板的投影区域内。
[0035]可选的，所述金属包括铜、钼、铝和银中的至少一种；
[0036]所述灰化金属为氮氧化钼铌。
[0037]可选的，所述在所述透明基板一侧制造第二触摸电极之后，所述方法还包括:
[0038]在所述第二触摸电极的表层形成消影层。
[0039]第三方面，提供了一种触摸屏，包括第一方面任一所述的彩膜基板。
[0040]第四方面，提供了一种显示装置，包括第三方面所述的触摸屏。
[0041]本发明提供了一种彩膜基板、彩膜基板的制造方法、触摸屏及显示装置，通过在透明基板的一侧制造色阻层，在色阻层在透明基板的同侧制造第一触摸电极，且第一触摸电极由金属制成，然后在透明基板一侧制造第二触摸电极，将现有彩膜基板中的第一触摸电极采用金属制成，因此，降低了触摸屏的阻抗，减小了触摸屏尺寸，且降低了成本。
[0042]应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。
【附图说明】
[0043]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0044]图1是本发明实施例提供的现有触摸屏的结构示意图；
[0045]图2是本发明实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图；
[0046]图3是本发明实施例提供的再一种彩膜基板的结构示意图；
[0047]图4是本发明实施例提供的另一种彩膜基板的结构示意图；
[0048]图5是本发明实施例提供的一种第一触摸电极和第二触摸电极的网格线路分布的结构不意图；
[0049]图6是本发明实施例提供的一种第一触摸电极和第二触摸电极的网格线路分布的局部放大结构示意图；
[0050]图7是本发明实施例提供的又一种彩膜基板的结构示意图；
[0051]图8是现有技术提供的一种消影层叠成的结构示意图；
[0052]图9是本发明实施例提供的一种彩膜基板的制造方法的流程图。
[0053]通过上述附图，已示出本发明明确的实施例，后文中将有更详细的描述。这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本发明构思的范围，而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本发明的概念。
【具体实施方式】
[0054]为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
[0055]本发明实施例提供了一种彩膜基板100，如图2所示，该彩膜基板100包括:透明基板101 ;位于透明基板101 —侧的色阻层102 ;与色阻层102在透明基板101的同侧设置的第一触摸电极104，第一触摸电极104由金属制成；设置在透明基板101 —侧的第二触摸电极105。