形时，若W无插花的形式，曝光主体图形和 测试图形，则该主体图形的遮光坐标点为Xm=(a-Px)/2、Xp=(Px+a)/2、Ym=-(Py+dl-b)/2、 化=(Py+dl+b)/2-t-dl，且中也变换值为X=0、Y=0 ;W及，相应的测试图形的遮光坐标点为 Xm=(a-Px)/2、Xp=(Px+a)/2、Ym=(Py+dl+b)/2-t、化=(Py+dl+b)/2,且中也变换值为X=0、 Y=-dl； 当所述完整图形包含主体图形和测试图形时，若W插花的形式，仅曝光主体图 形，则该主体图形的遮光坐标点为Xm= (a-Px) /2、Xp= (Px+a) /2、Ym=- (Py+t+dl-b) /2、 化=(Py+t+dl+b)/2-t-dl，且中也变换值为X=0、Y=0 ; 当所述完整图形包含主体图形和测试图形时，若W插花的形式，曝光主体图形和测 试图形，则该主体图形的遮光坐标点为Xm=(a-Px)/2、Xp=(Px+a)/2、Ym=-(Py+t+dl-b)/2、 化=(Py+t+dl+b)/2-t-dl-t-d4,且中也变换值为X=0、Y=0;W及，相应的测试图形的遮光坐 标点为Xm= (a-Px)/2、Xp= (Px+a)/2、Ym= (Py+t+dl+b)/2-t、化=(Py+t+dl+b)/2,且中也变换 值为X=0、Y=-t-dl ; 其中，（Xm，化）为第一遮光坐标点，（Xp，化）为第二遮光坐标点，Xm和Xp为对应于所 述第一轴的参数值、化和化为对应于所述第二轴的参数值，X为沿所述第一轴的变换值、Y 为沿所述第二轴的变换值，Px为所述第一期望步进长度、Py为所述第二期望步进长度，a为 所述一个完整图形上的左侧缓冲区在所述第一轴方向上的宽度、b为所述一个完整图形上 的下侧缓冲区在所述第二轴方向上的高度，t为所述实际高度，dl为所述主体图形和所述 测试图形在所述光刻版上的间距，d4为所述测试图形和部分所述主体图形在所述光刻版上 的间距。9. 根据权利要求7所述的光刻机曝光参数的获取方法，其特征在于，所述光刻机曝光 参数包括；遮光坐标和中也变换值； 若所述光刻版上包含沿所述第一轴对称的两个完整图形，且第一图形位于所述第一轴 的上方、第二图形位于所述第一轴的下方，则按照如下方式计算所述光刻机曝光参数： 当所述完整图形仅包含主体图形时，第一图形的主体图形的遮光坐标点为Xm=-(Px+a)/2、Xp=(Px+a)/2、Ym=d3/2、化=(Py+b)+d3/2,且中也变换值为X=0、 Y=- (Py+b+d3) /2 ;W及，第二图形的主体图形的遮光坐标点为Xm=- (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、 Ym=-(Py+b)-d3/2、化=-d3/2,且中也变换值为X=0、Y= (Py+b+d3)/2 ; 当所述完整图形包含主体图形和测试图形时，若W无插花的形式仅曝光主体图 形，则第一图形的主体图形的遮光坐标点为Xm=- (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、Ym=d3/2、 化=(Py+b)+d3/2,且中也变换值为X=0、Y=-(Py+t+dl+b+d3)/2 ;W及，第二图形的主体图形 的遮光坐标点为Xm=-(Px+a)/2、Xp= (Px+a)/2、Ym=-(Py+t+dl+b)-d3/2、化=-t-dl-d3/2,且 中也变换值为X=0、Y=(Py+t+dl+b+d3)/2 ; 当所述完整图形包含主体图形和测试图形时，若W无插花的形式曝光主体图形和测 试图形，则第一图形的主体图形的遮光坐标点为Xm=-(Px+a)/2、Xp= (Px+a)/2、Ym=d3/2、 化=(Py+b)+d3/2,且中也变换值为X=0、Y=-(Py+t+dl+b+d3)/2 ;第一图形的测试图形的遮 光坐标点为Xm=-(Px+a)/2、Xp=(Px+a)/2、Ym=(Py+dl+b)-t+d3/2、化=(Py+dl+b)+d3/2,且 中也变换值为X=0、Y=-dl-(Py+dl+b+d3)/2;W及，第二图形的主体图形的遮光坐标点为 Xm=-(Px+a)/2、Xp= (Px+a)/2、Ym=-(Py+dl+b)-d3/2、化=-t-dl-d3/2,且中也变换值为X=0、 Y=(Py+dl+b+d3)/2 ;第二图形的测试图形的遮光坐标点为Xm=-(Px+a)/2、Xp=(Px+a)/2、 Ym=-t-d3/2、化=-d3/2,且中也变换值为X=0、Y=-dl+(Py+dl+b+d3)/2 ; 当所述完整图形包含主体图形和测试图形时，若W插花的形式仅曝光主体图 形，则第一图形的主体图形的遮光坐标点为Xm=- (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、Ym=d3/2、 化=(Py+b) +d3/2，且中也变换值为X=0、Y=- (Py+t+dl+b+d3) /2;W及，第二图形的主体图形 的遮光坐标点为Xm=-(Px+a)/2、Xp= (Px+a)/2、Ym=-(Py+t+dl+b)-d3/2、化=-t-dl-d3/2,且 中也变换值为X=0、Y=(Py+t+dl+b+d3)/2 ; 当所述完整图形包含主体图形和测试图形时，若W插花的形式曝光主体图形和测 试图形，则第一图形的主体图形的遮光坐标点为Xm=-(Px+a)/2、Xp= (Px+a)/2、Ym=d3/2、 化=(Py+b)-t-d4+d3/2,且中也变换值为X=0、Y=-(Py+t+dl+b+d3)/2 ;第一图形的测试图形 的遮光坐标点为Xm=-(Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、Ym= (Py+dl+b) +d3/2、化=(Py+t+dl+b) +d3/2， 且中也变换值为X=0、Y=-t-dl-(Py+t+dl+b+d3)/2 ;W及，第二图形的主体图形的遮光坐标 点为Xm=-(Px+a)/2、Xp=(Px+a)/2、Ym=-(Py+t+dl+b)-d3/2、化=-t-dl-t-d4-d3/2,且中也 变换值为X=0、Y=(Py+t+dl+b+d3)/2 ;第二图形的测试图形的遮光坐标点为Xm=-(Px+a)/2、 Xp= (Px+a) /2、Ym=-t-d3/2、化=-d3/2,且中也变换值为X=0、Y=-t-dl+ (Py+t+dl+b+d3) /2 ; 其中，（Xm，化）为第一遮光坐标点，（Xp，化）为第二遮光坐标点，Xm和Xp为对应于所 述第一轴的参数值、Ym和化为对应于所述第二轴的参数值，X为沿所述第一轴的变换值、Y 为沿所述第二轴的变换值，Px为所述第一期望步进长度、Py为所述第二期望步进长度，a为 所述一个完整图形上的左侧缓冲区在所述第一轴方向上的宽度、b为所述一个完整图形上 的下侧缓冲区在所述第二轴方向上的高度，t为所述实际高度，dl为所述主体图形和所述 测试图形在所述光刻版上的间距，d3为所述第一图形和所述第二图形在所述第二轴方向上 的间距，d4为所述测试图形和部分所述主体图形在所述光刻版上的间距。10.根据权利要求7所述的光刻机曝光参数的获取方法，其特征在于，所述光刻机曝光 参数包括；遮光坐标和中也变换值； 若所述光刻版上包含H个完整图形，第一图形和第H图形沿所述第一轴对称，第二图 形位于所述第一图形和所述第H图形之间、且第二图形的中也点与所述原点重合，则按照 如下方式计算所述光刻机曝光参数： 当所述完整图形仅包含主体图形时，第一图形的主体图形的遮光坐标点为Xm=- (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、Ym= (Py+b) /化d3、化=(Py+b) /化(Py+b+d3)，且中也变 换值为X=0、Y=- (Py+b+d3);第二图形的主体图形的遮光坐标点为Xm=- (Px+a) /2、 Xp= (Px+a) /2、Ym=- (Py+b) /2、化=(Py+b) /2，且中也变换值为X=0、Y=0 ;W及，第H图形 的主体图形的遮光坐标点为Xm=- (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、Ym=- (Py+b) /2- (Py+b+d3)、 化=(Py+b) /2- (Py+b+d3)，且中也变换值为X=0、Y=Py+b+d3 ; 当所述完整图形包含主体图形和测试图形时，若W无插花的形式仅曝光主体图形，贝U第一图形的主体图形的遮光坐标点为Xm=-(Px+a)/2、Xp= (Px+a)/2、Ym= (Py+t+dl+b) /化d3、 化=(Py+t+dl+b)/化(Py+b+d3)，且中也变换值为X=0、Y=-(Py+t+dl+b+d3);第二图 形的主体图形的遮光坐标点为Xm=-(Px+a)/2、Xp=(Px+a)/2、Ym=-(Py+t+dl+b)/2、 化=(Py+t+dl+b) /2-t-dl，且中也变换值为X=0、Y=0 ;W及，第H图形的主体图形的 遮光坐标点为Xm=-(Px+a)/2、Xp= (Px+a)/2、Ym=-(Py+t+dl+b)/2-(Py+t+dl+b+d3)、 化=-(Py+t+dl+b)/2-t-dl-d3,且中也变换值为X=0、Y=Py+t+dl+b+d3 ; 当所述完整图形包含主体图形和测试图形时，若W无插花的形式曝光主体图形 和测试图形，则第一图形的主体图形的遮光坐标点为Xm=- (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、 Ym=(Py+dl+b)/化d3、化=(Py+dl+b)/2-t+(Py+b+d3)，且中也变换值为X=0、 Y=- (Py+dl+b+d3);第一图形的测试图形的遮光坐标点为Xm=- (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、 Ym= (Py+dl+b) /2-t+ (Py+dl+b+d3)、化=(Py+dl+b) /化(Py+dl+b+d3)，且中也变换值为X=0、 Y=-dl-(Py+dl+b+d3);第二图形的主体图形的遮光坐标点为Xm=-(Px+a)/2、Xp=(Px+a)/2、 Ym=-(Py+dl+b)/2、化=(Py+dl+b)/2-t-dl，且中也变换值为X=0、Y=0 ;第二图形的测试图 形的遮光坐标点为Xm=-(Px+a)/2、Xp= (Px+a)/2、Ym= (Py+dl+b)/2-t、化=(Py+dl+b)/2， 且中也变换值为X=0、Y=-dl;W及，第H图形的主体图形的遮光坐标点为Xm=-(Px+a)/2、 Xp= (Px+a) /2、Ym=-(Py+dl+b) /2-(Py+dl+b+d3)、化=-(Py+dl+b) /2-t-dl-d3，且中也 变换值为X=0、Y=Py+dl+b+d3 ;第H图形的测试图形的遮光坐标点为Xm=- (Px+a) /2、 Xp=(Px+a)/2、Ym=-(Py+dl+b)/2-t-d3、化=-(Py+dl+b)/2-d3,且中也变换值为X=0、 Y=-dl+(Py+dl+b+d3)； 当所述完整图形包含主体图形和测试图形时，若W插花的形式仅曝光主体图形，则第 一图形的主体图形的遮光坐标点为Xm=-(Px+a)/2、Xp=(Px+a)/2、Ym=(Py+t+dl+b)/化d3、 化=(Py+t+dl+b)/化(Py+b+d3),且中也变换值为X=0、Y=-(Py+t+dl+b+d3);第二图 形的主体图形的遮光坐标点为Xm=-(Px+a)/2、Xp=(Px+a)/2、Ym=-(Py+t+dl+b)/2、 化=(Py+t+dl+b) /2-t-dl，且中也变换值为X=0、Y=0 ;W及，第H图形的主体图形的 遮光坐标点为Xm=-(Px+a)/2、Xp= (Px+a)/2、Ym=-(Py+t+dl+b)/2-(Py+t+dl+b+d3)、 化=(Py+t+dl+b) /2- (Py+b+d3)，且中也变换值为X=0、Y=Py+t+dl+b+d3 ; 当所述完整图形包含主体图形和测试图形时，若W插花的形式曝光主体图形 和测试图形，则第一图形的主体图形的遮光坐标点为Xm=- (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、Ym=(Py+t+dl+b)/化d3、化=(Py+t+dl+b)/2-t-d4+(Py+b+d3),且中也变换值为X=0、 Y=-(Py+t+dl+b+d3);第一图形的测试图形的遮光坐标点为Xm=-(Px+a)/2、Xp=(Px+a