己醋铅 二异丙醇盐和H(己醜己酸己醋）铅。
[0095] 该些添加剂可W单独使用，或者W多种添加剂的混合物或缩聚物的形式使用。
[0096] 底涂层可W具有不低于35的维氏硬度。
[0097] 为减少莫尔条纹，可W将底涂层的表面粗趟度（十点平均粗趟度）调整至曝光用 激光的波长入的l/4n(n是上层的折射率）~1/2入。
[0098] 为了调整表面粗趟度，例如，可W向底涂层中添加树脂颗粒。树脂颗粒的实例包括 聚娃氧焼树脂颗粒和交联聚甲基丙帰酸甲醋树脂颗粒。此外，可W抛光底涂层W调整表面 粗趟度。抛光技术的实例包括软皮抛光（bWfing)、喷砂、湿巧磨和研磨。
[0099] 底涂层可W通过任何已知技术形成；例如，通过将上述组分添加到溶剂中来制备 底涂层形成用涂布液，形成涂布液的覆膜，而后干燥并可选地加热所述覆膜。
[0100] 用于制备底涂层形成用涂布液的溶剂的实例包括已知的有机溶剂，例如醇溶剂、 芳香姪溶剂、团代姪溶剂、丽溶剂、丽-醇溶剂、離溶剂和醋溶剂。
[0101] 其具体实例包括常见的有机溶剂，例如甲醇、己醇、正丙醇、异丙醇、正下醇、苯甲 醇、甲基溶纤剂、己基溶纤剂、丙丽、甲基己基丽、环己丽、己酸甲醋、己酸己醋、己酸正下醋、 二嗯焼、四氨巧喃、二氯甲焼、氯仿、氯苯和甲苯。
[0102] 在制备底涂层形成用涂布液时，分散无机颗粒的技术的实例包括涉及利用親磨 机、球磨机、振动球磨机、超微磨碎机、砂磨机、胶体磨机或涂料摇动器的已知技术。
[0103] 将底涂层形成用涂布液涂覆在导电性基体上的技术的实例包括常见的技术，例如 刮板涂布、线棒涂布、喷涂、浸涂、珠涂、气刀涂布和巷巧涂布。
[0104] 底涂层的厚度为例如优选不小于15 y m，且更优选为20 y m~50 y m。
[0105] <中间层〉
[0106] 中间层（未示出）可W在底涂层与感光层之间额外地形成。
[0107] 中间层的实例为含有树脂的层。中间层中所使用的树脂的实例包括已知聚合物， 例如缩酵树脂（例如聚己帰醇缩下酵）、聚己帰醇树脂、聚己帰醇缩酵树脂、酪蛋白树脂、聚 醜胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨醋树脂、聚醋树脂、甲基丙帰酸类树脂、丙帰酸类树脂、聚 氯己帰树脂、聚己酸己帰醋树脂、氯己帰-己酸己帰醋-马来酸酢树脂、聚娃氧焼树脂、聚娃 氧焼-醇酸树脂、苯酷-甲酵树脂和H聚氯胺树脂。
[010引中间层可W是含有有机金属化合物的层。中间层中所使用的该种有机金属化合物 的实例包括含有例如铅原子、铁原子、铅原子、猛原子或娃原子等金属原子的有机金属化合 物。
[0109] 中间层中所使用的该些化合物可W单独使用，或者W多种该些化合物的混合物或 缩聚物的形式使用。
[0110] 具体而言，中间层可W是含有含铅原子或娃原子的有机金属化合物的层。
[0111] 中间层可W通过任何已知技术形成；例如，通过将上述组分添加到溶剂中来制备 中间层形成用涂布液，形成所述涂布液的覆膜，而后干燥并可选地加热所述覆膜。
[0112] 涂覆中间层形成用涂布液的技术的实例包括常见的技术，例如浸涂、挤出涂布、线 棒涂布、喷涂、刮板涂布、刮刀涂布和幕帘涂布。
[011引中间层的厚度可W是例如0. lym~3ym。中间层可W充当底涂层。
[0114] <单层感光层〉
[0115] 单层感光层含有粘合剂树脂、电荷生成材料、空穴输送材料、电子输送材料、上述 特定化合物和可选的添加剂。
[0116] 粘合剂树脂
[0117] 粘合剂树脂的实例包括但不限于聚碳酸醋树脂、聚醋树脂、聚芳醋树脂、甲基丙帰 酸类树脂、丙帰酸类树脂、聚氯己帰树脂、聚偏二氯己帰树脂、聚苯己帰树脂、聚己酸己帰醋 树脂、苯己帰-下二帰共聚物、偏二氯己帰-丙帰膳共聚物、氯己帰-己酸己帰醋共聚物、氯 己帰-己酸己帰醋-马来酸酢共聚物、聚娃氧焼树脂、聚娃氧焼-醇酸树脂、苯酷-甲酵树 月旨、苯己帰-醇酸树脂、聚（N-己帰基巧哇）和聚娃焼。该些粘合剂树脂可W单独使用或组 合使用。
[0118] 在该些粘合剂树脂中，就与下文将描述的特定化合物的相容性而言，可W特别采 用聚碳酸醋树脂和聚芳醋树脂。
[0119] 特别而言，就感光层的形成而言，例如，粘合剂树脂可W是粘均分子量为30000~ 80000的聚碳酸醋树脂或粘均分子量为30000~80000的聚芳醋树脂。
[0120] 粘均分子量可下述方式具体测量。在100cm3二氯甲焼中，溶解Ig树脂，然后 利用化belohde粘度计在25C测量其比粘度nsp。特性粘度[il](cmVg)由关系式nsp/c =[11]+0.45[11] 2(3来确定[其中0表示浓度（肖/畑13)]。然后，粘均分子量1乂由比5油11611 给出的关系式[n] = 1.23X1(T4Mv0.83来确定。采用一点测定法。
[0121] 相对于感光层中的总固体含量，粘合剂树脂的量可W为例如35重量％~60重 量％，理想的是20重量％~35重量％。
[0122] 电荷生成材料
[0123] 电荷生成材料的实例包括；偶氮颜料，例如双偶氮颜料和H偶氮颜料；稠环芳香 族颜料，例如二漠意嵌意酿；巧类颜料；化咯并化咯类颜料；駄菁类颜料；氧化锋；和H方 砸。
[0124] 其中，就对暴露于波长在近红外区的激光的适应性而言，可W使用金属駄菁颜料 或无金属駄菁颜料作为电荷生成材料。特别而言，例如，更适合的材料为日本5-263007号 和5-279591号未审查专利申请公报中公开的羟基嫁駄菁、日本5-98181号未审查专利申请 公报中公开的氯化嫁駄菁、日本5-140472和5-140473号未审查专利申请公报中公开的二 氯化锡駄菁和日本4-189873号未审查专利申请公报中公开的铁氧駄菁。
[0125] 就对暴露于波长在近紫外区的激光的适应性而言，例如，电荷生成材料可W是稠 环芳香族颜料，例如日本2004-78147号和2005-181992号未审查专利申请公报中公开的二 漠意嵌意酿、硫說蓝颜料、紫菜嗦化合物、氧化锋、H方砸或双偶氮颜料。
[0126] 理想的是，电荷生成材料例如在使用曝光波长为380nm~50化m的光源的情形中 为无机颜料，或者在使用曝光波长为7〇〇nm~800nm的光源的情形中为金属駄菁颜料或无 金属駄菁颜料。
[0127] 在本示例性实施方式中，理想的是使用选自羟基嫁駄菁颜料和氯化嫁駄菁颜料中 的至少一种材料作为电荷生成材料。
[012引作为电荷生成材料的该些颜料可W单独使用或者在适当的情况下组合使用。就增 强感光体的敏感性和减少图像中形成的点缺陷而言，可W采用羟基嫁駄菁颜料作为电荷生 成材料。
[0129] 羟基嫁駄菁颜料不受特别限制，但可W使用V型羟基嫁駄菁颜料。
[0130] 特别而言，例如，就获得优异的分散性而言，在波长为600nm~900nm的吸收光谱 中最大峰值波长在810nm~839nm范围内的羟基嫁駄菁颜料是理想的。当使用该种羟基嫁 駄菁颜料作为电子照相感光体的材料时，能够容易地获得优异的分散性、充分的敏感性、充 电性和暗衰减性。
[013。 另外，在最大峰值波长在810nm~839nm范围内的羟基嫁駄菁颜料中，理想的是， 平均粒径在特定范围内并且用邸T法获得的比表面积在特定范围内。具体而言，平均粒径 理想的是不大于0. 20ym，且更理想为0. 01ym~0. 15ym。用BET法获得的比表面积理想 的是不小于45mVg，更理想的是不小于50mVg，且特别理想的是55mVg~120mVg。平均粒 径是使用激光衍射/散射型粒径分布分析仪（LA-700,由册RIBA，Ltd.制造）测得的体积平 均粒径（d50平均粒径）。基于邸T法的比表面积是在氮气吹扫下使用邸T比表面积分析仪 (FlowSorbII2300,由甜IMADZUCORPORATION制造）测量的。
[0132] 在平均粒径大于0. 20ym或者比表面积小于45mVg时，颜料颗粒在一些情形中会 变粗或凝聚。因此，在一些情形中，在例如分散性、敏感性、充电性和暗衰减特性等特性方面 容易出现问题，该可能导致容易形成图像缺陷。
[0133] 羟基嫁駄菁颜料的最大粒径（一次粒径的最大值）理想的是不大于1. 2ym，更理 想的是不大于1. 0ym，进一步理想的是不大于0. 3ym。如果最大粒径高于上述范围，则很 可能产生暗点。
[0134] 就抑制因感光体暴露于例如英光灯发出的光而造成的不均匀密度而言，理想的 是，羟基嫁駄菁颜料的平均粒径、最大粒径和比表面积分别不大于0. 2ym、不大于1. 2ym 和不小于45m2/g。
[01巧]羟基嫁駄菁颜料优选是V型羟基嫁駄菁颜料，其在使用化Ka特性X射线的X射 线衍射谱中至少在7.3°、16.0°、24. 9°和28.0。的布拉格角（2 0+0. 2° )处具有衍射 峰。
[0136] 氯化嫁駄菁颜料不受特别限制。在7.4°、16. 6°、25. 5°和28. 3。的布拉格角 (2 0 ±0. 2° )处具有衍射峰的氯化嫁駄菁颜料是理想的，因为该种氯化嫁駄菁颜料为具 有优异敏感性的电子照相用感光材料。
[0137] 氯化嫁駄菁颜料在吸收光谱中的理想的最大峰值波长及其理想的平均粒径、最大 粒径和比表面积与羟基嫁駄菁颜料的相同。
[013引相对于感光层中的总固体含量，电荷生成材料的量可W为1重量％~5重量％，理 想的是1. 2重量％~4. 5重量％。
[0139] 空穴输送材料
[0140] 空穴输送材料的实例包括但不限于例如H芳基胺化合物、联苯胺化合物、芳基焼 姪化合物、芳基取代的己帰化合物、巧化合物、意化合物和踪化合物等化合物。该些空穴输 送材料可W单独使用或组合使用。
[0141] 就电荷迁移性而言，理想的空穴输送材料为由式炬-1)表示的H芳基胺衍生物或 由式炬-2)表示的联苯胺衍生物。
[0142]
[0143] 式（B-1)中，Rbi表示氨原子或甲基；nil表示1或2;并且ArBi和ArB2各自独立地 表示具有取代基或不具有取代基的芳基、-CeH4-C(RB3) =C(RM) (rbs)或-CeH4-CH=CH-CH= C(RBe) (RB0，其中RBs~RB7各自独立地表示氨原子、具有取代基或不具有取代基的烷基，或 者具有取代基或不具有取代基的芳基。取代基的实例包括团原子、具有1~5个碳原子的 烷基、具有1~5个碳原子的烷氧基和取代有具有1~3个碳原子的烷基的具有取代基的 氨基。
[0144]
[0145] 式炬-2)中，RBs和RBs'可W彼此相同或不同，并且各自独立地表示氨原子、团原子、 具有1~5个碳原子的烷基、或者具有1~5个碳原子的烷氧基；RB9、rB9\iT和rbw可W彼 此相同或不同，并且各自独立地表示氨原子、团原子、具有1~5个碳原子的烷基、具有1~ 5个碳原子的烷氧基、取代有具有1或2个碳原子的烷基的氨基、具有取代基或不具有取代 基的芳基、-C(rbii)=C(rbi2) (rb")或者-CH=CH-CH=C(rbm) (rbi5)，其中rbii~rbi5各自 独立地表示氨原子、具有取代基或不具有取代基的烷基、或者具有取代基或不具有取代基 的芳基；并且ml2、ml3、nl2和nl3各自独立地表示0~2的整数。
[0146] 在由式炬-1)表示的H芳基胺衍生物和由式炬-2)表示的联苯胺衍生物中，具 有-CeH4-CH = CH-CH = C(RB6) (rb〇 的H芳基胺衍生物和具有-CH = CH-CH = C(Rbi4) (rb") 的联苯胺衍生