球磨机、振动球磨机、超微磨碎机、砂磨机或邸式砂磨机）或者无介质分散 器（例如揽拌器、超声分散器、親磨机或高压均化器）。高压均化器的实例包括：使涂布液 在高压下经历液-液碰撞或液-壁碰撞从而进入分散状态的碰撞型均化器，和使涂布液在 高压下通过细流路从而进入分散状态的通路型均化器。
[0214] 将感光层形成用涂布液涂覆至底涂层上的技术的实例包括浸涂、挤出涂布、线棒 涂布、喷涂、刮板涂布、刮刀涂布和幕帘涂布。
[0215] 单层感光层的厚度理想的是5ym~60ym，更理想的是5ym~50ym，进一步理 想的是10ym~40ym。
[0216] <图像形成设备（包括处理盒）〉
[0217] 示例性实施方式的图像形成设备包括；电子照相感光体；充电单元，所述充电单 元用于对所述电子照相感光体的表面进行充电；静电潜像形成单元，所述静电潜像形成单 元用于在所述电子照相感光体的经充电的表面上形成静电潜像；显影单元，所述显影单元 用于使用含有色调剂的显影剂使电子照相感光体表面上的所述静电潜像显影W形成色调 剂图像；和转印单元，所述转印单元用于将所述色调剂图像转印至记录介质的表面。该电子 照相感光体为上述示例性实施方式的电子照相感光体。
[021引示例性实施方式的图像形成设备可W具有已知的图像形成设备中所采用的结构， 例如，包括使转印至记录介质表面的色调剂图像定影的定影单元的设备；直接转印型设备， 其中，将形成在电子照相感光体表面上的色调剂图像直接转印至记录介质；中间转印型设 备，其涉及一次转印和二次转印，在一次转印中，形成在电子照相感光体表面上的色调剂图 像被转印至中间转印体表面，随后，在二次转印中，转印至中间转印体表面的色调剂图像被 转印至记录介质表面上；包括清洁器的设备，所述清洁器对在转印色调剂图像后尚未充电 的电子照相感光体表面进行清洁；包括电荷中和器的设备，所述电荷中和器通过对在转印 色调剂图像后尚未充电的图像载体表面照射电荷中和光来中和图像载体表面上的电荷；包 括电子照相感光体加热单元的设备，所述电子照相感光体加热单元升高电子照相感光体的 温度W降低相对温度。
[0219] 在中间转印型设备中，转印单元包括例如：中间转印体，色调剂图像被转印至其表 面；用于一次转印的一次转印单元，在一次转印中，形成在图像载体表面上的色调剂图像被 转印至中间转印体表面；和用于二次转印的二次转印单元，在二次转印中，转印至中间转印 体表面的色调剂图像被转印至记录介质表面。
[0220] 示例性实施方式的图像形成设备可W是干显影型图像形成设备或湿显影型图像 形成设备（使用液体显影剂进行显影）。
[0221] 在示例性实施方式的图像形成设备中，例如，具有电子照相感光体的部分可W是 可从图像形成设备上拆卸的盒的形式（处理盒）。优选使用的处理盒的实例为包括示例性 实施方式的电子照相感光体的处理盒。除电子照相感光体之外，处理盒可W还具有例如选 自由充电单元、静电潜像形成单元、显影单元和转印单元组成的组的至少一种。
[0222] 下面将描述示例性实施方式的图像形成设备的实例，但图像形成设备不限于此。 将描述附图中所示设备的主要部分，其他部分的描述将省略。
[0223] 图2示意性地图示了示例性实施方式的图像形成设备的结构的实例。
[0224] 参照图2,示例性实施方式的图像形成设备100包括具有电子照相感光体7的处 理盒300、曝光装置9 (静电潜像形成单元的实例）、转印装置40 (第一转印单元）和中间转 印体50。在图像形成设备100中，曝光装置9被放置成使从曝光装置9发出的光能够通过 处理盒300的曝光用开口到达电子照相感光体7,转印装置40被设置成面向电子照相感光 体7且二者之间夹有中间转印体50,中间转印体50被设置成W其一部分与电子照相感光 体7接触的状态。图像形成设备100还包括二次转印装置（未示出），所述二次转印装置将 转印至中间转印体50的色调剂图像转印至记录介质（例如纸）。中间转印体50、转印装置 40 (-次转印单元）和二次转印装置（未示出）各自对应于转印单元的实例。
[0225] 图2所示的处理盒300在其外壳中一体化地支承了电子照相感光体7、充电装置 8 (充电单元的实例）、显影装置11 (显影单元的实例）和清洁装置13 (清洁器的实例）。清 洁装置13具有清洁刮板131 (清洁部件的实例），并且清洁刮板131被设置成与电子照相感 光体7的表面接触。清洁部件可W为清洁刮板131 W外的形式，例如导电性或绝缘纤维部 件，并且该种清洁部件可W单独使用或与清洁刮板131组合使用。
[0226] 图2中的图像形成设备的结构的该实例包括；向电子照相感光体7的表面供给润 滑剂14的纤维部件132 (親），和支持清洁过程的纤维部件133 (平刷）；该些组件是可选地 提供的。
[0227] 下面将描述示例性实施方式的图像形成设备的各个组件。
[022引充电装置
[0229] 充电装置8是例如使用导电性或半导电性充电親、充电巧IJ、充电膜、充电橡胶刮板 或充电管的接触型充电器。也可W使用已知的充电器，例如非接触型親充电器或利用电晕 放电的格栅电晕管或电晕管充电器。
[0230] 曝光装置
[0231] 曝光装置9的实例包括光学装置，所述光学装置向电子照相感光体7的表面发射 光（例如来自半导体激光器、发光二极管（LED)或液晶光间的光），W使其表面W预定的图 像图案暴露于光。光源需要发射波长在电子照相感光体的光谱敏感范围内的光。通常采用 的半导体激光具有在近红外区的780nm左右的振荡波长。波长不限于此；可W使用振荡波 长为600nm W上且小于7〇〇nm的激光和振荡波长为400nm~450nm的作为蓝色激光的激光。 使用能够输出多光束的表面发射激光源对于形成彩色图像也是有效的。
[0232] 显影装置
[0233] 显影装置11的实例是使用显影剂通过接触显影或非接触显影使图像显影的常见 显影装置。只要其具有该种功能，显影装置11可W具有任何结构，并且根据预期的用途来 选择适当的结构。例如，可W使用具有下述结构的已知显影装置，在所述结构中，使用刷或 親使单组份显影剂或双组分显影剂粘附于电子照相感光体7。特别而言，可W采用包括将显 影剂保持在其表面上的显影親的显影装置。
[0234] 显影装置11中使用的显影剂可W是只含色调剂的单组份显影剂，也可W是含有 色调剂和载体的双组分显影剂。显影剂可W是磁性或非磁性的。可W使用已知显影剂作为 该种显影剂。
[0235] 清洁装置
[0236] 清洁装置13包括清洁刮板131，换言之，用清洁刮板进行清洁。
[0237] 作为另外一种选择，不用清洁刮板进行清洁，而是可W用毛刷进行清洁，或者可W 在显影的同时进行清洁。
[02測转印装置
[0239] 转印装置40的实例包括已知的转印充电器，例如使用带、親、膜或橡胶刮板的接 触型转印充电器，和利用电晕放电的格栅电晕管或电晕管转印充电器。
[0240] 中间转印体
[0241] 中间转印体50为半导电带（中间转印带）形式，由例如聚醜亚胺、聚醜胺醜亚胺、 聚碳酸醋、聚芳醋、聚醋或橡胶构成。中间转印体也可w是筒的形式。
[0242] 图3示意性地图示了示例性实施方式的图像形成设备的结构的另一实例。图3所 示的图像形成设备120是使用四个处理盒300的串联系统的多色图像形成设备。在图像形 成设备120中，四个处理盒300并列地设置在中间转印体50上，并且单个的电子照相感光 体针对不同颜色来运行。除串联系统外，图像形成设备120具有与图像形成设备100相同 的结构。
[0243] 示例性实施方式的图像形成设备100的结构不限于上述结构。例如，可W在电子 照相感光体7周围的在电子照相感光体7的转动方向上位于转印装置40下游且位于清洁 装置13上游的位置处设置第一电荷中和装置，所述第一电荷中和装置使残留色调剂具有 相同极性从而可W使用清洁刷容易地除去残留色调剂。此外，在电子照相感光体7的转动 方向上位于清洁装置13下游且位于充电装置8上游的位置处，可W设置第二电荷中和单 元，所述第二电荷中和单元中和电子照相感光体7表面上的电荷。
[0244] 示例性实施方式的图像形成设备100的结构不限于上述结构，可W具有已知的结 构；例如，可W采用直接转印系统，其中，形成在电子照相感光体7上的色调剂图像被直接 转印至记录介质。
[0245] 实施例
[0246] 下面将基于实施例和比较例进一步具体描述本发明，但本发明不限于此。
[0247] 实施例1
[024引底涂层的形成
[0249] 通过揽拌将100重量份氧化锋（由TAYCA CORPORATION制造，平均粒径；70皿，比 表面积；15mVg)与500重量份四氨巧喃混合。然后，向其中添加1. 2重量份娃焼偶联剂（由 化in-Etsu化emicalCo.，Ltd.制造的邸E502)，并揽拌所获得的混合物2小时。然后，通 过真空蒸觸将四氨巧喃觸除，并将产物在12CTC下加热3小时，W获得已使用娃焼偶联剂进 行了表面处理的氧化锋。
[0巧0] 然后，通过揽拌将110重量份经娃焼偶联剂表面处理的氧化锋与500重量份四氨 巧喃混合，并向该混合物中添加将0. 7重量份茜素溶解于50重量份四氨巧喃中所得的溶 液，并在5(TC下揽拌所获得的混合物4小时。随后通过减压过滤来分离出与茜素结合的氧 化锋，然后在65C下进行减压干燥，W产生茜素结合的氧化锋。
[0巧1 ] 在85重量份甲基己基丽中，溶解60重量份上述茜素结合的氧化锋、13. 5重量份固 化剂（封端异氯酸酯，Sumidur 3175,由 Sumitomo Bayer Urethane Co. , Ltd.制造）和 15 重量份下缩酵树脂（S-LEC BM-1，由SEKISUI CHEMICAL CO.，LTD.制造）W制成溶液。接下 来，将38重量份该溶液与30重量份甲基己基丽混合，并在带有直径为1mm的玻璃珠的砂磨 机中将混合物分散2个半小时，W产生分散液。
[0巧2] 向该分散液中添加0. 005重量份充当催化剂的二月桂酸二辛基锡和40重量份聚 娃氧焼树脂颗粒（Tospearl145,由GEToshibaSiliconesCo. ,Ltd.制造），W产生底涂 层形成用涂布液。
[0巧3] 通过浸涂法将该涂布液涂布在直径为30mm、长度为340mm且厚度为1mm的铅基体 上，然后在17〇°C下干燥40分钟W使之固化，W形成厚度为21 y m的底涂层。
[0巧4] 感光层的形成
[0255] 在带有直径为1mm的玻璃珠的砂磨机中，将2重量份作为电荷生成材料的表1所 示的羟基嫁駄菁颜料、49重量份作为粘合剂树脂的聚碳酸醋Z树脂（由MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.制造，粘均分子量为40000)和300重量份作为溶剂的四氨巧喃的 混合物分散6小时，W产生分散液。
[0256] W表1中所示的量，向该分散液中添加表1中所示的空穴输送材料、由通式（1) 表示且显示在表1中的电子输送材料、和表1中所示的特定化合物[选自由通式（2)和 (3)表示的化合物中的至少一种化合物]。然后，向其中添加0. 001重量份硅油KP340 (由 化in-Etsu化emicalCo.，Ltd.制造），并揽拌产物过夜，W产生感光层形成用涂布液。
[0巧7] 通过浸涂法将感光层形成用涂布液涂覆在位于铅基体上的底涂层上，然后在 135°C下干燥1小时，W形成厚度为28 y m的单层感光层。
[0巧引通过该些工序，完成了电子照相