电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备的制造方法_2

文档序号:9234585阅读:来源:国知局
>[0044]
[0045] 对于由式(A-1)和式(A-。表示的结构单元,所述结构单元中,优选由式(A-1-。、 (A-1-3)、(A-1-4)、(A-1-5)、(A-1-6)、(A-1-7)、(A-1-20)、(A-1-21)、(A-2-2)、(A-2-3)、 (A-2-4)、(A-2-5)、(A-2-6)、(A-2-7)、(A-2-20)或(A-2-21)表示的结构单元。
[0046]
[0047] 在式做中的m22表示0或1。当m 22表示1时,X 22表示邻亚苯基、间亚苯基、对亚 苯基、具有用亚甲基结合的两个对亚苯基的二价基团、或具有用氧原子结合的两个对亚苯 基的二价基团。W下示出由式炬)表示的结构单元的实例。
[0048]
[0049] 其中,优选由式炬-2)、炬-3)、炬-4)或炬-6)表示的结构单元。
[0050] 另外,树脂A可W进一步具有由下式似表示的结构单元。
[0化1]
[005引在式似中的m3嗦示0或1。当m 3嗦示1时,X 3嗦示邻亚苯基、间亚苯基、对亚 苯基、具有用亚甲基结合的两个对亚苯基的二价基团、或具有用氧原子结合的两个对亚苯 基的二价基团。
[0化3] 在式(C)中的沪1表示氧原子或硫原子,并且RS1至R38各自独立地表示氨原子或甲 基。W下表3示出由式(C)表示的结构单元的实例。
[0化4] 表3
[0化5]
[0056] 其中,优选由式(C-2)、(C-3)、(C-4)、(C-21)或(C-22)表示的结构单元。
[0057] 树脂A可W进一步具有由式似表示的结构单元和由下式(巧表示的结构单元。 [005引
[0059] 在式(F)中的m6嗦示0或1。当m 6嗦示1时,X 6嗦示邻亚苯基、间亚苯基、对亚 苯基、具有用亚甲基结合的两个对亚苯基的二价基团、或具有用氧原子结合的两个对亚苯 基的二价基团。
[0060] 在式(巧中的沪1表示单键、亚甲基、己叉基、丙叉基、环己叉基、苯基己叉基、或苯 基亚甲基,并且RM至R 68各自独立地表示氨原子或甲基。W下表4示出由式(巧表示的结 构单元的实例。
[0061]表 4
[0062]
[0063]其中,优选由式(F-19)、(F-23)、(F-24)、(F-25)、(F-26)、(F-27)或(F-28)表示 的结构单元。
[0064] 下一步,描述具有由式值)表示的结构单元和由式巧)表示的结构单元的聚碳酸 醋树脂D。
[00化]
[0066] 在式值)中的Y"表示氧原子或硫原子。R"至R44各自独立地表示氨原子或甲基。
[0067] W下示出由式做表示的结构单元的实例。
[0068]
[0069] 其中,优选由式值-1)、值-2)或值-3)表示的结构单元。
[0070]
[0071] 在式巧)中的ysi表示单键、亚甲基、己叉基、丙叉基、环己叉基、苯基己叉基、或苯 基亚甲基。
[007引在式似中的R5哇R58各自独立地表示氨原子或甲基。W下示出由式似表示的 结构单元的实例。
[0073]
[0074] 其中,优选由式巧-4)、巧-5)、巧-6)、巧-7)、巧-8)、巧-10)、巧-11)或巧-12)表 示的结构单元。
[0075] 电荷输送层具有基体-区域结构,所述结构具有含有电荷输送物质和聚碳酸醋树 脂D的基体并且具有在基体中的含有树脂A的区域。在本发明中的基体-区域可W通过观 察电荷输送层的表面或观察电荷输送层的截面来确认。
[0076] 对基体-区域结构的状态的观察或区域的测量可W使用例如市售激光显微镜、光 学显微镜、电子显微镜或原子力显微镜来进行。对基体-区域结构的状态的观察或区域结 构的测量可W使用显微镜在预定的放大倍率下进行。
[0077] 进一步,树脂A可W在其末端具有由下式(A-巧表示的硅氧烷结构。
[007引
[0079] 在式(A-E)中的n5i表示在括号内的结构的重复数,并且在式(A-E)中的n5i的平 均值的范围为10至60。
[0080] 从涂膜和应力松弛效果的均一性的观点,各个区域的粒径的粒径分布优选是窄 的。区域的数均粒径如下述计算。从使用显微镜通过观察通过垂直切割电荷输送层获得的 截面而观察的区域,任意选择100个区域。测量各个选择的区域的最大直径并且将各个区 域的最大直径平均。因此,计算数均粒径。应该注意的是,当将电荷输送层的截面使用显微 镜来观察时,获得了在其深度方向上的图像信息,因此也可W获得电荷输送层的=维图像。 区域的数均粒径优选10皿至1,000皿。
[0081] 电荷输送层的基体-区域结构可W通过使用含有电荷输送物质、树脂A和聚碳酸 醋树脂D的电荷输送层用涂布液的涂膜来形成。
[0082] 当基体-区域结构均一地形成在电荷输送层中时,接触应力的持续松弛W更加有 效的方式来展示。另外,聚碳酸醋树脂D的引入可W促进区域的形成。该可能是因为聚碳 酸醋树脂D具有由式值)表示的结构单元,因此改善在树脂A和树脂D之间的相容性,液体 稳定性在电荷输送层用涂布液中保持,并且在形成涂膜时促进基体-区域结构的形成。
[0083] 推测的是,当相容性改善时,抑制具有硅氧烷结构的树脂A朝向在电荷输送层和 电荷产生层之间的界面的局部化(localization),因此可W抑制在重复使用电子照相感光 构件时的电位波动。另外,推测的是,当基体-区域结构形成时,树脂A均一地存在于涂膜 中,因此展示出对接触应力的持续松弛效果。
[0084] 另外,在本发明中,基于树脂A的总质量,在树脂A中的由式(A-1)或式(A-。表 示的结构单元的含量是5质量%至25质量%,并且基于树脂A的总质量,由式炬)表示的 结构单元的含量是25质量%至95质量%。
[0085] 另外,基于聚碳酸醋树脂D的总质量,由式做表示的结构单元的含量是10质 量%至60质量%,并且基于聚碳酸醋树脂D的总质量,由式巧)表示的结构单元的含量是 40质量%至90质量%。
[0086] 当那些结构单元的含量落在范围内时,区域均一地形成在含有电荷输送物质和聚 碳酸醋树脂D的基体中。因此,有效地展示出接触应力的持续松弛。另外,抑制了树脂A朝 向在电荷产生层和电荷输送层之间的界面的局部化,因此抑制电位波动。
[0087] 进一步,从区域在基体中的均一形成的观点,基于在电荷输送层中的全部树脂,树 脂A的含量优选5质量%至50质量%。该含量更优选10质量%至40质量%。
[008引当树脂A含有由式(C)表示的结构单元时,各个结构单元的含量优选如下所述。 良P,基于树脂A的总质量,由式(A-1)或式(A-2)表示的结构单元的含量是5质量%至25 质量%。基于树脂A的总质量,由式炬)表示的结构单元的含量是35质量%至65质量%。 另外,基于树脂A的总质量,由式(C)表示的结构单元的含量是10质量%至60质量%。
[0089] 另外,树脂A可化含有由式(巧表示的结构单元。
[0090] 当树脂A含有由式(C)表示的结构单元和由式(巧表示的结构单元时,各个结构 单元的含量优选如下所述。目P,基于树脂A的总质量,由式(A-1)或式(A-2)表示的结构单 元的含量是5质量%至25质量%。基于树脂A的总质量,由式炬)表示的结构单元的含量 是35质量%至65质量%。基于树脂A的总质量,由式(C)表示的结构单元的含量是10质 量%至60质量%。另外,由式(巧表示的结构单元的含量是30质量% 1^下。更优选的是, 由式(巧表示的结构单元的含量是1质量%至30质量%。
[0091] 树脂A是包括由式(A-1)或(A-2)表示的结构单元和由式炬)表示的结构单元的 共聚物。共聚的形式可W是例如嵌段共聚、无规共聚或交替共聚等的任何形式。
[0092] 从在含有电荷输送物质和聚碳酸醋树脂D的基体中形成区域结构的观点,树脂A 的重均分子量优选30, 000至200, 000,更优选40, 000至150, 000。
[0093] 要用于本发明的聚碳酸醋树脂D是包括由式值)表示的结构单元和由式巧)表示 的结构单元的共聚物。共聚的形式可W是例如嵌段共聚、无规共聚或交替共聚等的任何形 式。
[0094] 从在含有电荷输送物质和聚碳酸醋树脂D的基体中形成含有树脂A的区域结构 的观点,要用于本发明的聚碳酸醋树脂D的重均分子量优选30, 000至250, 000,更优选 40,000 至 200,000。
[0095] 在本发明中,树脂的重均分子量是根据传统方法,具体地在日本专利申请特开 No. 2007-79555中记载的方法测量的W聚苯己締换算的重均分子量。
[0096] 要用于本发明的树脂A和聚碳酸醋树脂D之间的共聚比可W通过作为常规方法的 基于通过iH-NMR测量获得的树脂的氨原子(树脂的构成氨原子)之间的峰面积比的换算 方法来确认。
[0097] 例如,要用于本发明的树脂A和聚碳酸醋树脂D可W各自通过传统光气法来合成。 另外,各个树脂也可W通过醋交换法来合成。
[009引 W下描述要用于本发明的树脂A的合成例。
[0099] 树脂A可W通过使用在日本专利申请特开No. 2007-199688中记载的合成方法来 合成。也在本发明中,在表5的列"合成例"中示出的树脂A通过使用相同的合成方法从与 由式(A-1)或(A-2)表示的结构单元和由式炬)表示的结构单元对应的原料合成。表5示 出合成树脂A的构成和重均分子量。另外,在表6的列"比较合成例"中示出的树脂H通过 使用相同的合成方法来合成。表6示出合成树脂H的构成和重均分子量。
[0100]
[0101]
[0102]
[0103] 在表5或6中的列"式(A-1)或(A-2)"是指由式(A-1)或(A-2)表示的结构单元。 当由式(A-1)或(A-2)表示的结构单元作为混合物使用时,该列示出结构单元的种类和摩 尔混合比。列"式炬)"是指由式炬)表示的结构单元。当由式炬)表示的结构单元作为混 合物使用时,该列示出结构单元的种类和摩尔混合比。列"式(C)"是指要引入树脂A或树 脂H的由式(C)表示的结构单元。在表5或6中的列"式(F)"是指要引入树脂A或树脂H 的由式(巧表示的结构单元。列"在式(A-E)中的nsi的平均值"是指要引入树脂A或树脂 H的由式(A-E)表示的结构单元的平均重复数。列"式(A-1)或(A-。的含量(质量% )" 是指在树脂A或树脂H中的由式(A-1)或(A-2)表示的结构单元的含量(质量%)。列"式 炬)的含量(质量%)"是指在树脂A或树脂H中的由式炬)表示的结构单元的含量(质 量% )。列"式(C)的含量(质量% )"是指在树脂A或树脂H中的由式(C)表示的结构单 元的含量(质量%)。列"式(F)的含量(质量%)"是指在
当前第2页1 2 3 4 5 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1