方法的第一实施例的流程图，图7为本发明的阵列面板的示意图。
[0052]本实施例的所述阵列面板包括阵列基板和间隔件7012，所述间隔件7012设置于所述阵列基板上，所述阵列面板的制作方法包括以下步骤:
[0053]G(步骤401)、提供阵列基板，并在所述阵列基板上涂布间隔件材料，以形成间隔件材料层，其中，所述阵列基板为薄膜晶体管阵列基板或彩色滤光片阵列基板7011 (如图7所示)。
[0054]H(步骤402)、在所述间隔件材料层上涂布光刻胶材料，以形成光刻胶材料层。
[0055]I (步骤403)、对所述光刻胶材料层进行曝光。
[0056]J(步骤404)、对曝光后的所述光刻胶材料层进行显影。
[0057]K(步骤405)、对所述间隔件材料层进行刻蚀。
[0058]L(步骤406)、将刻蚀后的所述间隔件材料层上的所述光刻胶材料层进行剥离，以形成所述间隔件7012。
[0059]在本实施例中，所述间隔件材料层所对应的间隔件材料为非光敏感性材料。
[0060]在本实施例中，所述间隔件材料层所对应的间隔件材料中混有结构巩固颗粒，所述结构巩固颗粒用于巩固所述间隔件7012的结构强度。所述结构巩固颗粒可以是金属颗粒，也可以是金属氧化物颗粒，还可以是其它颗粒(例如，氧化硅颗粒)。其中，所述结构巩固颗粒是以粉末的形式与处于非凝固状态的所述间隔件材料混合在一起的。
[0061]具体地，在所述步骤G之前，本实施例的间隔件7012的制作方法还包括以下步骤:
[0062]N、将所述结构巩固颗粒与所述间隔件材料混合在一起。
[0063]所述步骤G包括以下步骤:
[0064]gl、在阵列基板上涂布混合有所述结构巩固颗粒的间隔件材料，以形成所述间隔件材料层。
[0065]通过上述技术方案，可以使得所制成的所述间隔件7012的直径小于5微米(μπι)，从而得到更加精细的间隔件7012。此外，所制成的所述间隔件7012在面板内均一性好，锥形角度大(上下底差异小)，能够满足高分辨率的LTPS-LCD (Low TemperaturePoly-Silicon Liquid Crystal Display，低温多晶娃液晶显示面板)的需求，有利于提高显示面板的显示质量。
[0066]参考图5，图5为本发明的阵列面板的制作方法的第二实施例的流程图。本实施例与上述第一实施例相似，不同之处在于:
[0067]在本实施例中，所述光刻胶材料层包括第一区域和第二区域，所述第一区域与待形成的间隔件7012对应。
[0068]所述步骤J(所述步骤404)包括以下步骤:
[0069]jl、对曝光后的所述第二区域中的所述光刻胶材料层进行显影。
[0070]参考图6，图6为本发明的阵列面板的制作方法的第三实施例的流程图。本实施例与上述第二实施例相似，不同之处在于:
[0071]在本实施例中，所述步骤K (步骤405)包括以下步骤:
[0072]kl、对位于与所述第二区域对应的位置处的所述间隔件材料层进行刻蚀。
[0073]k2、清除所述间隔件材料层中位于所述第二区域的部分。
[0074]尽管已经相对于一个或多个实现方式示出并描述了本发明，但是本领域技术人员基于对本说明书和附图的阅读和理解将会想到等价变型和修改。本发明包括所有这样的修改和变型，并且仅由所附权利要求的范围限制。特别地关于由上述组件执行的各种功能，用于描述这样的组件的术语旨在对应于执行所述组件的指定功能(例如其在功能上是等价的)的任意组件(除非另外指示)，即使在结构上与执行本文所示的本说明书的示范性实现方式中的功能的公开结构不等同。此外，尽管本说明书的特定特征已经相对于若干实现方式中的仅一个被公开，但是这种特征可以与如可以对给定或特定应用而言是期望和有利的其他实现方式的一个或多个其他特征组合。而且，就术语“包括”、“具有”、“含有”或其变形被用在【具体实施方式】或权利要求中而言，这样的术语旨在以与术语“包含”相似的方式包括。
[0075]综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
【主权项】
1.一种间隔件的制作方法，其特征在于，所述间隔件的制作方法包括以下步骤: A、在阵列基板上涂布间隔件材料，以形成间隔件材料层，所述阵列基板为薄膜晶体管阵列基板或彩色滤光片阵列基板； B、在所述间隔件材料层上涂布光刻胶材料，以形成光刻胶材料层； C、对所述光刻胶材料层进行曝光； D、对曝光后的所述光刻胶材料层进行显影； E、对所述间隔件材料层进行刻蚀；以及 F、将刻蚀后的所述间隔件材料层上的所述光刻胶材料层进行剥离，以形成所述间隔件。2.根据权利要求1所述的间隔件的制作方法，其特征在于，所述光刻胶材料层包括第一区域和第二区域，所述第一区域与待形成的间隔件对应； 所述步骤D包括以下步骤: dl、对曝光后的所述第二区域中的所述光刻胶材料层进行显影。3.根据权利要求2所述的间隔件的制作方法，其特征在于，所述步骤E包括以下步骤: el、对位于与所述第二区域对应的位置处的所述间隔件材料层进行刻蚀； e2、清除所述间隔件材料层中位于所述第二区域的部分。4.根据权利要求1所述的间隔件的制作方法，其特征在于，所述间隔件材料层所对应的间隔件材料为非光敏感性材料。5.根据权利要求1所述的间隔件的制作方法，其特征在于，所述间隔件材料中混有结构巩固颗粒。6.—种阵列面板的制作方法，所述阵列面板包括阵列基板和间隔件，所述间隔件设置于所述阵列基板上，其特征在于，所述阵列面板的制作方法包括以下步骤: G、提供阵列基板，并在所述阵列基板上涂布间隔件材料，以形成间隔件材料层，其中，所述阵列基板为薄膜晶体管阵列基板或彩色滤光片阵列基板； H、在所述间隔件材料层上涂布光刻胶材料，以形成光刻胶材料层； 1、对所述光刻胶材料层进行曝光； J、对曝光后的所述光刻胶材料层进行显影； K、对所述间隔件材料层进行刻蚀；以及 L、将刻蚀后的所述间隔件材料层上的所述光刻胶材料层进行剥离，以形成所述间隔件。7.根据权利要求6所述的阵列面板的制作方法，其特征在于，所述光刻胶材料层包括第一区域和第二区域，所述第一区域与待形成的间隔件对应； 所述步骤J包括以下步骤: jl、对曝光后的所述第二区域中的所述光刻胶材料层进行显影。8.根据权利要求7所述的阵列面板的制作方法，其特征在于，所述步骤K包括以下步骤: kl、对位于与所述第二区域对应的位置处的所述间隔件材料层进行刻蚀； k2、清除所述间隔件材料层中位于所述第二区域的部分。9.根据权利要求6所述的阵列面板的制作方法，其特征在于，所述间隔件材料层所对应的间隔件材料为非光敏感性材料。10.根据权利要求6所述的阵列面板的制作方法，其特征在于，所述间隔件材料中混有结构巩固颗粒。
【专利摘要】本发明公开了一种间隔件的制作方法及阵列面板的制作方法。所述间隔件的制作方法包括以下步骤：A、在阵列基板上涂布间隔件材料，以形成间隔件材料层，所述阵列基板为薄膜晶体管阵列基板或彩色滤光片阵列基板；B、在所述间隔件材料层上涂布光刻胶材料，以形成光刻胶材料层；C、对所述光刻胶材料层进行曝光；D、对曝光后的所述光刻胶材料层进行显影；E、对所述间隔件材料层进行刻蚀；以及F、将刻蚀后的所述间隔件材料层上的所述光刻胶材料层进行剥离，以形成所述间隔件。本发明能够使得所制成的所述间隔件的直径小于5微米，从而得到尺寸更加精细的间隔件，有利于提高显示面板的显示质量。
【IPC分类】G02F1/1339
【公开号】CN104991380
【申请号】CN201510389949
【发明人】熊燕军, 徐先华
【申请人】武汉华星光电技术有限公司
【公开日】2015年10月21日
【申请日】2015年7月6日