1] 光扩散膜的膜厚使用定压厚度测定器（宝制作所（株）制造，TECLOCKPG-02Z)测 定。
[0372] 如图10(a)的膜截面示意图所示，可确认所得光扩散膜为在膜的下方形成第1柱 结构区域、在膜的上方形成第2柱结构区域、且具有它们一部分重复而成的重复柱结构区 域的光扩散膜。
[0373] 图10(a)是用与涂层的移动方向平行且与膜面垂直的面将膜切断时的截面的示 意图。
[0374] 第1柱结构区域的膜厚为55ym，第2柱结构区域的膜厚为60ym，重复柱结构区 域的膜厚为l〇ym。
[0375] 并且，第1柱结构区域中的柱状物的倾斜角，S卩，利用将1根柱状物全体沿着其轴 线切断成2部分的面将膜切断时的截面中测定的、在相对于膜表面的法线角度为0 °时的 柱状物的倾斜角（图6中的〃a= 〃b)为0°，在同一截面测定的第2柱结构区域中的柱状 物的倾斜角（图6中Pa'=W)也为0°。
[0376] 图10(b)表示所得光扩散膜的截面照片。图10(b)是用与涂层的移动方向平行且 与膜面垂直的面将膜切断时的截面照片。
[0377] 6?评价 使用显微镜（autronic-MELCHERSGmbH公司制造），如图10(a)所示，自所得光扩散膜 的下侧、即存在第1柱结构区域的一侧，一边将入射角〃 1(° )改变为40°、35°、30°、 25。、20。、15。、10。、5。、0。、-5°、-10。、-15。、-20。、-25。、-30。、-35。、-40。， 一边对该膜入射光。
[0378] 由图10(a)中的Z方向对各入射角〃 1下的扩散光的扩散情况拍照。入射角 为40至-40°时的照片分别表示为图11 (a)-(q)。
[0379] 由所述结果可知，通过形成第1和第2柱结构区域，即使是105ym这样的薄膜，即 使入射光的入射角〃1为〇°时也可以防止入射光的直接透过，可获得充分均匀的光扩散 特性。
[0380] [实施例2] 实施例2中，在光扩散膜用组合物的涂布工序中，将涂层的膜厚变更为142ym，同时 在第2紫外线照射工序中，将平行光的照射角（图9的〃3)变更为30°，将峰照度变更为 2. 75mW/cm2,累积光量变更为19. 50mJ/cm2,除此之外与实施例1同样，得到膜厚142ym的 光扩散膜。
[0381] 如图12(a)的膜截面示意图所示，可确认所得光扩散膜为在膜的下方形成第1柱 结构区域、在膜的上方形成第2柱结构区域的光扩散膜。
[0382] 图12(a)是用与涂层的移动方向平行且与膜面垂直的面将膜切断时的截面的示 意图。
[0383] 第1柱结构区域的膜厚为82ym，第2柱结构区域的膜厚为72ym，重复柱结构的 膜厚为12ym。
[0384] 并且第1柱结构区域中的柱状物的倾斜角（图6中的^a=Pb)为0°，同一截面 中测定的第2柱结构区域的柱状物的倾斜角（图6中的〃a' = 为30°。
[0385] 图12(b)表示所得光扩散膜的截面照片。图12(b)是用与涂层的移动方向平行且 与膜面垂直的面将膜切断时的截面照片。
[0386] 还与实施例1同样，对改变入射角〃 1时的扩散光的扩散情况进行了评价。
[0387] SP，如图 12(a)所示，一边将入射角 01(。）改变为 40。、35°、30°、25°、20°、 15。 、10。 、5。 、0。 、-5。 、-10。 、-15。 、-20。 、-25。 、-30。 、-35。 、-40。 、-45。 、-50。、 -55°、-60°、-65°，一边自所得光扩散膜的下侧对该膜入射光。
[0388] 由图12 (a)中的Z方向对各入射角〃 1下的扩散光的扩散情况拍照。入射角01 为40至-65°时的照片分别表示为图13(a)-(v)。
[0389] 由所述结果可知，对于宽范围的入射光的入射角度，显示了沿着第1和第2各柱结 构区域中的柱状物的倾斜角的各向同性光扩散特性、或者由于透过2个柱结构区域而复合 化的各向同性光扩散特性。
[0390] [实施例3] 实施例3中，在光扩散膜用组合物的涂布工序中，将涂层的膜厚变更为142ym，同时 在第1紫外线照射工序中，将平行光的照射角（图9的〃3)变更为30°，将峰照度变更为I. 05mW/cm2,累积光量变更为20. 88mJ/cm2,进一步将涂层的移动速度变更为0. 17m/分钟。
[0391] 在第2紫外线照射工序中，将平行光的照射角（图9的〃3)变更为-30°，将峰照 度变更为2. 75mW/cm2,累积光量变更为19. 50mJ/cm2。
[0392] 除此之外与实施例1同样，得到膜厚142ym的光扩散膜。
[0393] 如图14(a)的膜截面示意图所示，可确认所得光扩散膜为在膜的下方形成第1柱 结构区域、在膜的上方形成第2柱结构区域的光扩散膜。
[0394] 图14(a)是用与涂层的移动方向平行且与膜面垂直的面将膜切断时的截面的示 意图。
[0395] 第1柱结构区域的膜厚为82ym，第2柱结构区域的膜厚为66ym，重复柱结构的 膜厚为6ym。
[0396] 并且第1柱结构区域中的柱状物的倾斜角（图6中的Pa=Pb)为30°，同一截面 中测定的第2柱结构区域的柱状物的倾斜角（图6中的〃a' = 为-30°。
[0397] 图14(b)表示所得光扩散膜的截面照片。图14(b)是用与涂层的移动方向平行且 与膜面垂直的面将膜切断时的截面照片。
[0398] 还与实施例1同样，对改变入射角〃 1时的扩散光的扩散情况进行了评价。
[0399] SP，如图 14(a)所示，一边将入射角 01(。）改变为 60。、55°、50°、45°、40°、 35。 、30。 、25。 、20。 、15。 、10。 、5。 、0。 、-5° 、-10。 、-15。 、-20。 、-25。 、-30。 、-35 。、-40°、-45°、-50°、-55°，一边自所得光扩散膜的下方对该膜入射光。
[0400] 由图14(a)中的Z方向对各入射角〃 1下的扩散光的扩散情况拍照。入射角 为60至-55°时的照片分别表示为图15(a)-(x)。
[0401] 由所述结果可知，对于更宽范围的入射光的入射角度，显示了沿着第1和第2各柱 结构区域中的柱状物的倾斜角的各向同性光扩散特性、或者由于透过2个柱结构区域而复 合化的各向同性光扩散特性。
[0402] [比较例1] 比较例1中，在第2紫外线照射工序中，照射峰照度为10. 2mW/cm2、累积光量为 142. 2mJ/cm2的散射光，同时将涂层的移动速度变更为0. 40m/分钟。
[0403] 除此之外与实施例1同样，得到膜厚152ym的光扩散膜。
[0404] 如图16 (a)的膜截面示意图所示，可确认所得光扩散膜为在膜的下方形成第1柱 结构区域、膜的上方未形成第2柱结构区域的光扩散膜。
[0405] 图16(a)是用与涂层的移动方向平行且与膜面垂直的面将膜切断时的截面的示 意图。
[0406] 第1柱结构区域的膜厚为86ym，第1柱结构区域中的柱状物的倾斜角（图6中的 沒a=沒b)为0。。
[0407] 图16 (b)表示所得光扩散膜的截面照片。图16 (b)是用与涂层的移动方向平行且 与膜面垂直的面将膜切断时的截面照片。
[0408] 还与实施例1同样，对改变入射角〃 1时的扩散光的扩散情况进行了评价。
[0409] SP，如图 16(a)所示，一边将入射角 01(° )改变为 40°、35°、30°、25°、20°、 15。、10。、5。、0。、-5°、-10。、-15。、-20。、-25。、-30。、-35。、-40。，一边自所得 光扩散膜的下方对该膜入射光。
[0410] 由图16(a)中的Z方向对各入射角下的扩散光的扩散情况拍照。入射角 为40至-40°时的照片分别表示为图17(a)_(q)。
[0411] 由所述结果可知，与实施例1相比，总膜厚虽然比实施例1的光扩散膜厚，但从截 面观察结果可知，由于柱结构区域的膜厚薄，因此未能充分获得充分均匀的光扩散特性。
[0412] 特别是入射光的入射角〃1为0°时，无法防止入射光的直线状透过，可知光扩散 特性显著不均匀。
[0413] [比较例2] 比较例2中，在光扩散膜用组合物的涂布工序中，将涂层的膜厚变更为138ym，同时 在第1紫外线照射工序中，将平行光的照射角（图9的〃3)变更为30°，将峰照度变更为 2. 75mW/cm2,将累积光量变更为19. 50mJ/cm2,进一步将涂层的移动速度变更为0. 54m/分 钟。
[0414] 在第2紫外线照射工序中，照射峰照度为10. 2mW/cm2、累积光量为142. 2mJ/cm2的 散射光，同时将涂层的移动速度变更为〇. 40m/分钟。
[0415] 除此之外与实施例1同样，得到膜厚138ym的光扩散膜。
[0416] 如图18(a)的膜截面示意图所示，可确认所得光扩散膜为在膜的下方形成第1柱 结构区域、膜的上方未形成第2柱结构区域的光扩散膜。
[0417] 图18(a)是用与涂层的移动方向平行且与膜面垂直的面将膜切断时的截面的示 意图。
[0418] 第1柱结构区域的膜厚为104ym，第1柱结构区域中的柱状物的倾斜角（图6中 的Pa=Pb)为 30。。
[0419] 图18(b)表示所得光扩散膜的截面照片。图18(b)是用与涂层的移动方向平行且 与膜面垂直的面将膜切断时的截面照片。
[0420] 还与实施例1同样，对改变入射角〃 1时的扩散光的扩散情况进行了评价。
[0421] SP，如图 18(a)所示，一边将入射角 01(° )改变为10°、5°、0°、-5°、-10°、-15。、-20°、-25°、-30°、-35°、-40。、-45°、-50°、-55°、-60。、-65。，一边自所得光 扩散膜的下方对该膜入射光。
[0422] 由图18(a)中的Z方向对各入射角下的扩散光的扩散情况拍照。入射角 为10至-65°时的照片分别表示为图19(a)_(p)。
[0423] 由所述结果可知，与实施例3相比，以比实施例3的情况下更高的照度进行第1紫 外线照射，因此第1柱结构区域的膜厚增厚，单独的第1柱结构区域的各向同性光扩散的均 匀性高，但是无法对宽范围的入射光的入射角度显示充分的光扩散特性。
[0424] 产业实用性 如以上详述，根据本发明，通过在同一膜内形成第1柱结构区域和第2柱结构区域，可 以提高光扩散角度区域内的扩散光的强度均匀性，有效扩大光扩散角度区域。
[0425] 因此，本发明的光扩散膜等除了提供于反射型液晶显示装置中的光控制膜之外， 也可以提供于视角控制膜、视角扩大膜、以及投影仪用屏幕，有望显著贡献于这些产品的高 品质化。
[0426] 符号说明 I:涂层、2 :加工片、10 :光扩散膜（各向同性光扩散膜）、12 :折射率相对高的柱状物、 13 :柱结构区域、13\柱结构的界面、14 :折射率相对低的区域、20 :第1柱结构区域、2(T: 柱结构未形成区域、30 :第2柱结构区域、40 :本发明的光扩散膜、50 :重复柱结构区域、60 : 来自光源的照射光、70 :平行光、125 :线状光源、200 :照射光平行化构件、202 :点光源、204 : 透镜、210 :遮光构件、210a:板状构件、210b:筒状构件。
【主权项】
1. 光扩散膜，该光扩散膜具有单一层的光扩散层，所述单一层的光扩散层沿着膜膜厚 方向自下方起依次具有使折射率相对高的多个柱状物林立于折射率相对低的区域中而成 的第1柱结构区域和第2柱结构区域。2. 权利要求1所述的光扩散膜，其特征在于：具有所述第1柱结构区域的上端部与所 述第2柱结构区域的下端部重叠的重复柱结构区域。3. 权利要求2所述的光扩散膜，其特征在于：所述重复柱结构区域是分别来自所述第 1柱结构区域和第2柱结构区域的所述柱状物中的任一方的前端与来自另一方的柱结构区 域的柱状物的前端附近接触而成的。4. 权利要求2或3所述的光扩散膜，其特征在于：使所述重复柱结构区域的厚度为 1-40 ym范围内的值。5. 权利要求2-4中任一项所述的光扩散膜，其特征在于：使所述重复柱结构区域的厚 度相对于膜膜厚（100%)为〇. 1-10%范围内的值。6. 权利要求2-5中任一项所述的光扩散膜，其特征在于：所述重复柱结构区域中，使分 别来自所述第1柱结构区域和第2柱结构区域的所述柱状物的倾斜角之差的绝对值为T 以上的值。7. 权利要求1-6中任一项所述的光扩散膜，其特征在于：所述第1柱结构区域和第2柱 结构区域中的所述柱状物的主成分为含有多个芳环的（甲基）丙烯酸酯聚合物，所述折射 率相对低的区域的主成分为氨基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯的聚合物。8. 光扩散膜的制造方法，其特征在于：该制造方法含有下述工序（a)-(d): (a) 准备光扩散膜用组合物的工序； (b) 对加工片涂布所述光扩散膜用组合物，形成涂层的工序； (c) 对所述涂层进行第1活性能量射线照射，在所述涂层的下方部分形成第1柱结构区 域，并且在所述涂层的上方部分残留柱结构未形成区域的工序； (d) 对所述涂层进行第2活性能量射线照射，在所述柱结构未形成区域形成第2柱结构 区域的工序。9. 权利要求8所述的光扩散膜的制造方法，其特征在于：在氧存在气氛下实施所述第1 活性能量射线照射，并且在非氧气氛下实施所述第2活性能量射线照射。
【专利摘要】提供具有单一层的光扩散层的光扩散膜及其制造方法，可通过调节多个柱结构区域中的柱状物倾斜角的组合，提高光扩散角度区域内的扩散光的强度的均匀性，或有效扩大光扩散角度区域。具有单一层的光扩散层的光扩散膜等，所述单一层的光扩散层沿着膜面自下方起依次具有使折射率相对高的多个柱状物林立于折射率相对低的区域中而成的第1柱结构区域和第2柱结构区域。
【IPC分类】C08L55/00, C08F299/06, C08F20/30, G02F1/1335, G02B5/02, C08L33/14
【公开号】CN105074509
【申请号】CN201480018417
【发明人】草间健太郎, 片桐麦, 大类知生, 所司悟
【申请人】琳得科株式会社
【公开日】2015年11月18日
【申请日】2014年2月25日
【公告号】WO2014156420A1